线下培训 | Ansys Zemax 成像设计线下培训

本次培训主题为『Ansys Zemax 成像设计』，由宇熠高级光学工程师主讲，针对序列成像设计，帮助学员们掌握优化技巧、公差分析技巧、热分析、像质评价、坐标变换等知识点。线下培训学习效率更高、更丰富、更精准，可直接与老师面对面交流提问，当场解决记忆深刻。 !Ok(mgV$/

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我们总结了往年线上和线下培训的经验，重新梳理细化了整个课程体系和教学资料，让学员能够在培训期间快速提升自己。

01 我们能够解决这些问题：

武汉宇熠有自己的培训计划，不同于只讲解软件使用的教程，我们更注重理论基础和实际操作，万丈高楼平地起，我们将带领学员深入学习成像设计，探索光学的魅力。

武汉宇熠有经验丰富的光学工程师团队，老师全程线下授课、教学内容通俗易懂，贴合学员自身的项目。

武汉宇熠拥有宽敞明亮的培训教室，各种设施一应俱全为学员创造良好的学习环境和氛围。教室内有大量的光学行业相关书籍，另外内部资料和讲义可向学员开放。
02 培训信息

主题：Ansys Zemax 成像设计
主办方：武汉宇熠科技有限公司
时间：2024年4月10日-12日（共三天）
地点：湖北武汉

03 课程安排

Ansys Zemax 成像设计线下培训

时间：2024年4月10日-12日

Epzg\|L1) 时间	day1	day2	day3
上午	01 Zemax OpticStudio 简介 mScv7S~/s 02 数据库；镜头库，材料库 (In{GA7; 03 玻璃材料以及如何定义新材料 rb*\|0ST 04 像差简介以及 OpticStudio 中的像差图表 j=\h\|^gA 05 优化 B(Sy.n	11 调制传递函数和成像质量评估 %X}ZX\|{O 12 双高斯镜头的设计与优化 QX,$JM3 13 OpticStudio 中的坐标系统 exRw, Nk4 14 坐标间断面及其使用技巧 % rBzA< 15 序列模式中棱镜模型 e`*}?N4d	21 寻找最佳非球面 / 转换非球面类型 /dnwN7Gf 22 公差分析简介 9A.RD`fg 23 制造误差和装配误差 SV7;B?e%Y 24 公差评价标准 n<?U6~F&~ 25 灵敏度 / 反灵敏度 / 蒙特卡罗分析 ]5%0EE64
pR0[qsQM 休息时间（12:00-14:00）
下午	06 局部 / 全局 / 锤形优化 / 优化操作数 spK8^sh 07 优化实例：单透镜 / 双透镜 A5l Cc b 08 热分析 {X{R] 09 二元面及衍射光学表面 st'T._ 10 鬼像及杂散光分析 $l.;h	16 实例：扫描振镜 $8EEtr,! 17 实例：科勒照明 dFg>uo 18 转换为非序列模式 0G%9 @^B 19 黑盒系统 .i0K-B 20 OpticStudio 中的优化工具 {Jr1K,	26 公差补偿器 Ky3mzw\| 27 公差操作数 01kRe 28 公差示例：对单透镜 / 库克三片镜进行公差分析 So%X(, \| 29 公差报告 u?').c4 30 镜片 / CAD 制图 ]8G 'R-8}

注意：

1、课堂上统一发送配套的培训教材。
2、学员自备笔记本电脑，培训结束后将为每位学员颁发培训证书。
3、为提高培训效率，本次培训采用小班授课模式。培训名额有限，欲报从速。
4、如报名人数未达最低开课标准，武汉宇熠有权取消或延迟本门课程，具体情况以开课前一周通知为准。

04培训费用
费用：¥ 3980元 / 人
· 三人及以上组团报名可享受八折优惠；
· 费用含培训、教材、发票、证书，其他费用自理；
· 发票统一开“培训服务费”。
报名方式：扫码报名

我们诚意邀请各位光学同行踊跃参与本次培训，相聚武汉一起交流经验，期待与您相见。

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