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ueotek 2024-03-11 10:25

培训 | Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析线下课程即将开班

为适应我国光电行业飞速发展的需要,提高我国光学设计人员的专业水平,武汉宇熠将在2024年3月20日-22日举办线下培训 —— 『Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析』。 Cm&itG  
培训将为大家系统性地介绍非序列模式的建模逻辑、光源建模、优化方法、杂散光分析等主题。 GQQ!3LwP\O  
培训日程和内容   WV% KoM,%  
Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析
2024年3月20日-22日
课时第一天第二天第三天
0101 课程介绍; =sm(Z ;"  
02 非序列光线追迹; )Qc$UI8L  
03 光源物体; ?\yo~=N^  
04 探测器物体; x{- caOH  
nk{1z\D{  
17 抛物面反射器; l%IOdco#  
18 Sobol 采样;19 BMP 位图优化; (1o^Dn3  
20 复合抛物面聚光器 CPC; A4^+p0@  
)>/c/ B  
33 故障排查:光线追迹中止条件; nGt8u4gcP  
34 故障排查:几何错误; C+mU_g>  
35 “Inside of”标识;36 故障排查:胶合距离; )<|TEp4r-  
0205 分辨率 VS 噪声; :s5g6TR  
06 照明单位 & 几何量;07 光源建模; +EB# #  
08 光源建模:IESNA & EULUMDAT 模型; 8+ u8piG  
oK>,MdB  
21 背光模组 物体阵列 & 光源阵列]; `4=b|N+b"  
22 复杂几何体; i~;8'>:|,M  
23 嵌套规则; fin15k  
24 原生布尔物体和布尔 CAD 物体;
37 故障排查:面元物体 & 绘图精度; u%pief  
38 序列模式转换成非序列模式; UdGoPzN  
39 杂散光分析介绍;40 散射; gr;M  
12:00-14:00 午休时间
0309 光源建模:内置几何模型; >g[W@FhT'k  
10 光源建模:使用测量数据; a:fHTU=\p  
11 生成 Source Model 光线; ,uv$oP-  
12 模拟光源光谱;
GXfVjC31z  
25 CAD 导入 & 导出; ? Z=v&d[o)  
26 使用混合模式; o;[oy#aWl_  
27 偏振光线追迹; AUC< m.  
28 物体属性:面分组 & 属性;
<%z/6I Af|  
41 杂散光分析工具; q :bKT#\  
42 Marksutov 杂散光分析43 非序列鬼像分析; 6"GpE5'*  
44 非序列系统公差分析;
04 =Wf@'~K0k"  
13 色度学;14 建模彩色光源; Q-F9oZ*0  
15 测量颜色数据; qo@dFKy  
16 照明系统;
MjpJAV/84  
29 光线分裂;30 X-Cube 棱镜; }]I?vyQ#V  
31 简单光线分裂实例; =r~. I  
32 非序列设置;
45 答疑与交流讨论
gNwXOd u  
培训信息 9zJ`;1  

  • 主办单位:武汉宇熠科技有限公司
  • 培训主题:Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析
  • 培训形式:线下培训
  • 培训地点:湖北武汉
  • 培训时间:2024年3月20~22日 (9:00-17:00)
  • 培训费用:¥ 3980元 / 人
  • (三人及以上组团报名可享八折优惠)、
  • 报名方式:点击这里报名  
5)UmA8"zVB  
注意 L?0l1P  
1、本次培训统一发送配套的培训教材。 K(gj6SrjV  
2、学员自备笔记本电脑,培训结束后将为每位学员颁发培训证书。 +]-KzDsr"V  
3、为提高培训效率,采用小班授课模式。名额有限,欲报从速。 M2}<gRL*}J  
4、如报名人数未达最低开课标准,武汉宇熠将取消或延迟本门课程, 具体情况以开课前一周通知为准。

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