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ueotek 2024-03-11 10:25

培训 | Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析线下课程即将开班

为适应我国光电行业飞速发展的需要,提高我国光学设计人员的专业水平,武汉宇熠将在2024年3月20日-22日举办线下培训 —— 『Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析』。 hD>cxo  
培训将为大家系统性地介绍非序列模式的建模逻辑、光源建模、优化方法、杂散光分析等主题。 MI|anM  
培训日程和内容   qBcwM=R3P  
Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析
2024年3月20日-22日
课时第一天第二天第三天
0101 课程介绍; 629 #t`W\  
02 非序列光线追迹; ])$Rw $`w  
03 光源物体; Cc>+OUL  
04 探测器物体; ^n<o,K4\}  
~Jx0#+z9V  
17 抛物面反射器; } ^n346^  
18 Sobol 采样;19 BMP 位图优化; qI5`:PH%n  
20 复合抛物面聚光器 CPC; 0m&W: c  
NT<vs"<B  
33 故障排查:光线追迹中止条件; /nVGr]t_pj  
34 故障排查:几何错误; =.8fES  
35 “Inside of”标识;36 故障排查:胶合距离; geSH3I   
0205 分辨率 VS 噪声; MXGz_Db4'  
06 照明单位 & 几何量;07 光源建模; >sm<$'vZ/  
08 光源建模:IESNA & EULUMDAT 模型; {K42PmQL  
h][$1b&B  
21 背光模组 物体阵列 & 光源阵列]; PNhxF C.  
22 复杂几何体; 8;1,saA_9  
23 嵌套规则; `w#p8vR  
24 原生布尔物体和布尔 CAD 物体;
37 故障排查:面元物体 & 绘图精度; SH/^qDT'  
38 序列模式转换成非序列模式; fFJu]  
39 杂散光分析介绍;40 散射; $ {5|{`  
12:00-14:00 午休时间
0309 光源建模:内置几何模型; p1B~F  
10 光源建模:使用测量数据; HMPb%'U~  
11 生成 Source Model 光线; @w5x;uB|%G  
12 模拟光源光谱;
XPsRa[08WK  
25 CAD 导入 & 导出; $I:&5o i  
26 使用混合模式; \9T /%[r#  
27 偏振光线追迹; acdF5ch@  
28 物体属性:面分组 & 属性;
:|PgGhW  
41 杂散光分析工具; .Arcsg   
42 Marksutov 杂散光分析43 非序列鬼像分析; H&E3RU> `  
44 非序列系统公差分析;
04 x{#W84  
13 色度学;14 建模彩色光源; Ue2%w/Yo  
15 测量颜色数据; XCUU(H  
16 照明系统;
xfADks2w  
29 光线分裂;30 X-Cube 棱镜; :~%{  
31 简单光线分裂实例; .p$tb2%r  
32 非序列设置;
45 答疑与交流讨论
JJVdq-k+`  
培训信息 v2;' F  

  • 主办单位:武汉宇熠科技有限公司
  • 培训主题:Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析
  • 培训形式:线下培训
  • 培训地点:湖北武汉
  • 培训时间:2024年3月20~22日 (9:00-17:00)
  • 培训费用:¥ 3980元 / 人
  • (三人及以上组团报名可享八折优惠)、
  • 报名方式:点击这里报名  
5tQZf'pHfd  
注意 b[os0D95  
1、本次培训统一发送配套的培训教材。 mo  
2、学员自备笔记本电脑,培训结束后将为每位学员颁发培训证书。 )H| cri~D  
3、为提高培训效率,采用小班授课模式。名额有限,欲报从速。 wC`+^>WFo  
4、如报名人数未达最低开课标准,武汉宇熠将取消或延迟本门课程, 具体情况以开课前一周通知为准。

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