培训 | Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析线下课程即将开班

为适应我国光电行业飞速发展的需要，提高我国光学设计人员的专业水平，武汉宇熠将在2024年3月20日-22日举办线下培训 —— 『Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析』。 vSh)r 9  
培训将为大家系统性地介绍非序列模式的建模逻辑、光源建模、优化方法、杂散光分析等主题。 :O2N'vl47A  
培训日程和内容   FU zY&@Y  

Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析
2024年3月20日-22日
课时	第一天	第二天	第三天
01	01 课程介绍； %0QYkHdFR`   02 非序列光线追迹； I6+5mv\   03 光源物体； fqxMTTg@   04 探测器物体； kmwFw>#	1ARIZ;H   17 抛物面反射器； utv.uwfat   18 Sobol 采样；19 BMP 位图优化； FsjblB3?E   20 复合抛物面聚光器 CPC； I5{SC-7	PYGHN T   33 故障排查：光线追迹中止条件； oVdmgmT.Y   34 故障排查：几何错误； ^)WGc/   35 “Inside of”标识；36 故障排查：胶合距离； K2JS2Y]
02	05 分辨率 VS 噪声； qmhHHFjQ   06 照明单位 & 几何量；07 光源建模； Nsb13mlY   08 光源建模：IESNA & EULUMDAT 模型； 'tekn e	/OEj]DNY   21 背光模组 物体阵列 & 光源阵列]； SX#ATf6#   22 复杂几何体； t+t&eg   23 嵌套规则； G"]'`2.m   24 原生布尔物体和布尔 CAD 物体；	37 故障排查：面元物体 & 绘图精度； Ktoxl+I?   38 序列模式转换成非序列模式； %5b2vrg~*   39 杂散光分析介绍；40 散射； }QK-@T@4<
12:00-14:00 午休时间
03	09 光源建模：内置几何模型； gO29:L[t   10 光源建模：使用测量数据； ~O!v?2it8q   11 生成 Source Model 光线； *5^h>Vk/   12 模拟光源光谱；	tG'c79D\   25 CAD 导入 & 导出； umY4tNe]$   26 使用混合模式； 5^qI6 U   27 偏振光线追迹； CAk.2C/   28 物体属性：面分组 & 属性；	kjH0u$n   41 杂散光分析工具； R b'"09)$   42 Marksutov 杂散光分析43 非序列鬼像分析； z[th@!3   44 非序列系统公差分析；
04	o4xZaF4+   13 色度学；14 建模彩色光源； s<:J(gD   15 测量颜色数据； IsI\T8yfc   16 照明系统；	tq{ aa   29 光线分裂；30 X-Cube 棱镜； cYK3>p A   31 简单光线分裂实例； -g~$HTsGm   32 非序列设置；	45 答疑与交流讨论

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培训信息 N7XRk=J  

• 主办单位：武汉宇熠科技有限公司
• 培训主题：Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析
• 培训形式：线下培训
• 培训地点：湖北武汉
• 培训时间：2024年3月20~22日 (9:00-17:00)
• 培训费用：¥ 3980元 / 人
• (三人及以上组团报名可享八折优惠)、
• 报名方式：点击这里报名