| infotek |
2024-01-22 14:29 |
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
B \?We\y 内容简介 *12,MO>go Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 `/ ]Th&(5 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 D7q%rO|F' 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 1, 5"sQ$ )P&>Tc?;z
讯技科技股份有限公司 A4;EtW+F
`PML4P[ 目录 tA#7Xr+ Preface 1 I*,!zym 内容简介 2 j7L uN 目录 i .Up\ 0|b 1 引言 1 80qSPitj 2 光学薄膜基础 2 "},0Cs 2.1 一般规则 2 9A|deETa- 2.2 正交入射规则 3 2R}9wDP 2.3 斜入射规则 6 K@uUe3 2.4 精确计算 7 ,3 !D(& 2.5 相干性 8 !~X[qT 2.6 参考文献 10 Djv0]Sm^! 3 Essential Macleod的快速预览 10 P-B3<~*i! 4 Essential Macleod的特点 32 T-"zK r! 4.1 容量和局限性 33 Po+I!TL' 4.2 程序在哪里? 33 ly,3,ok 4.3 数据文件 35 .MNi)+ 4.4 设计规则 35 4sU*UePr 4.5 材料数据库和资料库 37 DeqTr: 4.5.1材料损失 38 }^T7S2_Qy 4.5.1材料数据库和导入材料 39 \}CQo0v 4.5.2 材料库 41 Xx.4K>j+j 4.5.3导出材料数据 43 ^ ]nnvvp 4.6 常用单位 43 eK<X7m^ 4.7 插值和外推法 46 |jh&a+4W 4.8 材料数据的平滑 50 SVr3OyzI 4.9 更多光学常数模型 54 F.9SyB$ 4.10 文档的一般编辑规则 55 <5Ft3sd 4.11 撤销和重做 56
=+I~K'2 4.12 设计文档 57 z"cF\F 4.10.1 公式 58 (~C_zG 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 f?KHp| 4.10.3 沉积密度 59 6??o(ziK$ 4.10.4 平行和楔形介质 60 l/=2P_8+Z 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 T{9pNf- 4.10.4 性能 61 , 7` /D 4.10.5 保存设计和性能 64 cJ CKxj 4.10.6 默认设计 64 +sN'Y/- 4.11 图表 64 h6Femis 4.11.1 合并曲线图 67 u\L=nCtLby 4.11.2 自适应绘制 68 zDEX `~c 4.11.3 动态绘图 68 KyQO>g{R 4.11.4 3D绘图 69 ;3 N0) 4.12 导入和导出 73 |I; tBqN{u 4.12.1 剪贴板 73 G9`;Z^<L 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 hLs<g!*O 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 B8XW+U 4.13 背景 77 D'{NEk@ 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 wjJM\BKr` 4.15 生成Rugate 84 " Bz\<e&u 4.16 参考文献 91 E5^P*6c( 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 R`IFKmA EJ 5.1 Jobs 92 n*'i{P] 5.2 创建一个新Job(工作) 93 nRP|Qt7> 5.3 输入材料 94 %kS4v,I 5.4 设计数据文件夹 95 sj;n1t}$S 5.5 默认设计 95 AXnuXa(j 6 细化和合成 97 x,U'!F 6.1 优化介绍 97 _*tU.x|DP 6.2 细化 (Refinement) 98 goE \C 6.3 合成 (Synthesis) 100 {6_M$"e. 6.4 目标和评价函数 101 GJu[af 6.4.1 目标输入 102 7H$I9e 6.4.2 目标 103 i~};5j( 6.4.3 特殊的评价函数 104 M2pe*z 6.5 层锁定和连接 104 :i{Svb*_' 6.6 细化技术 104 Y/%(4q*' 6.6.1 单纯形 105 S]}hh,A 6.6.1.1 单纯形参数 106 q
<, b 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 (D.B'V#> 6.6.2.1 Optimac参数 108 >MTrq%. 6.6.3 模拟退火算法 109 a#huK~$~ 6.6.3.1 模拟退火参数 109 QR ?JN\%? 6.6.4 共轭梯度 111 fbTq?4&Q 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 tzTnFV 6.6.5 拟牛顿法 112 ~wtK(U 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 p)u?x)w= 6.6.6 针合成 113 D(E3{\*R 6.6.6.1 针合成参数 114 e9LP!"@EY 6.6.7 差分进化 114 P{bRRn4Z 6.6.8非局部细化 115 ^"\3dfzKM 6.6.8.1非局部细化参数 115 BR*'SF\T 6.7 我应该使用哪种技术? 116 m{ wk0 6.7.1 细化 116 KT4h3D`, 6.7.2 合成 117 Bf21u9 6.8 参考文献 117 9}[UZN6 7 导纳图及其他工具 118 G!u+~{g 7.1 简介 118 Q[vQT?J7 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 EbfE/_I 7.2.1 四分之一波长规则 119 azs lNL 7.2.2 导纳图 120 $fzO:br5WJ 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 5[[mS 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 g3Xa b 7.5 斜入射导纳图 141 PeX^aEc 7.6 对称周期 141 eP?=tUB!S 7.7 参考文献 142 y6hb-:
#1 8 典型的镀膜实例 143 F3?PlH:Y 8.1 单层抗反射薄膜 145 H@'f=Y*D 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 eT'Z;ZO 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 hZ[(Ik]*Zd 8.4 W-膜层 148 FxFRrRRH@ 8.5 V-膜层 149 'vX:)ZD i 8.6 V-膜层高折射基底 150 O x),jc[/ 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 !RXG{1: 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 b2tUJ2p 8.9 四层抗反射薄膜 153 rjo1 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 svaclkT= 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 LmZ"_ 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 joRrsxFU 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 n^t!+ 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 +_T`tmQ 8.15十五层宽带抗反射膜 159 SWLt5dV 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 W]CsKN,K 8.17 1/4波长堆栈 162 +T/T \[ 8.18 陷波滤波器 163 -cONC9= 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 .N>Th/K8 8.20 褶皱 165 MS~+P' 8.21 消偏振分光器1 169 Yo*.? Mq' 8.22 消偏振分光器2 171 ~PtIq.BY 8.23 消偏振立体分光器 172 T&q0TBT 8.24 消偏振截止滤光片 173 Wb%t6N? 8.25 立体偏振分束器1 174 fZtuP1-4 8.26 立方偏振分束器2 177 1EemVZdY 8.27 相位延迟器 178 $`&zI | |