线下培训 | 第32届《ASAP光学系统杂散光分析与控制》招生中

武汉墨光长久以来成功召开多期《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线上线下培训。武汉墨光将于2024年3月18日-22日开展第32届《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训班。本次培训共计5天时间，课程涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。以下是本次培训的课程详情： W G2 E3y  
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课程大纲 $AAv
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第一天 \oF79   
光学和光线追迹的入门概念； @;}bBHQz{p  
ASAP 简介； #n^P[Zw  
ASAP 新版本功能； .s31D%N  
程序检查和3D 查看器； .3Nd[+[  
ASAP 数据输入； dzZ74FE!t  
单透镜辐射计示例； RQI?\?o  
ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据； H{'<v|I  
照明系统示例； }LS:f,1oGp  
基本脚本操作； G l+[|?N  
几何规范和通用几何设置； @SA*7[?P  
光学特性； *>!O2c  
光源设置； <@FOqi{o{  
光线追迹概念； O=}4?Xv  
系统分析与评价。 |pJ)w  
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第二天 HlqvXt\  
脚本和 ASAP 编辑器； c0]^V>}cl  
几何可视化与验证； 2Yt#%
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显示模式； 9l2,:EQ
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辐射强度分布； e&f9/r
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光源切趾； (OT /o&cQ  
光线分裂和接收属性； $X_JUzb  
ASAP 宏语言； <=8REA?  
ASAP 优化功能；  ~dfc  
散射模型和重点采样； [-!   
光线路径。 x[7jm"Pz  
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第三天 !=@Lyt)_b  
散射杂散光： *,hS-  
杂散光术语 hK9Trrwau  
辐射度学基础 e{8z1t20:  
杂散光的成因和影响 }fnp}L  
杂散光分析和评价方法 Vu '/o[nF>  
ASAP杂散光分析流程、步骤 U'zW; Lt  
关键和照明表面 D/jB.  
重点采样位置和大小计算 %3scz)4$  
杂散光PST计算 an^"_#8DA@  
光学表面粗糙、污染和微粒 GHeJpS  
表面黑化处理 /*g3TbUs  
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第四天 /2-S/,a  
鬼像： Zh`lC1l'  
鬼像的来源 Et
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ASAP膜层 Qj~m;F!  
ZEMAX导入的鬼像分析 7PO3{I  
鬼像路径分析案例 5<bc>A-  
鬼像的控制 $.kP7!`:,  
衍射和红外杂散光： %se4aeOrX  
孔径衍射和边缘衍射 ![3#([>4>  
衍射光学元件的杂散光 9tsI1]1[m  
红外系统杂散光特征 _x 'R8/  
红外热辐射 Mit,X  
自发辐射杂散光 $u_0"sUV  
红外冷反射 b'Qia'a%  
E%OY7zf`%  
第五天 0F-X.Dq  
杂散光工程： *T j(IN  
杂散光的控制方法 Htn=h~
U`z  
挡板和叶片的设计 Hrq1{3~  
散射测量 $9<q'hf<w  
杂散光的评价方法 B1T:c4:N  
杂散光工程流程 5=tvB,Ux4  
总结和答疑 PE3FuJGz  
培训说明 'HTr02riY  
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• dt(~)*~R  
  为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速；
• Wr Ht  
  学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者颁发培训证书；
• XJy~uks,  
  培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材。