线下培训 | 第32届《ASAP光学系统杂散光分析与控制》招生中

武汉墨光长久以来成功召开多期《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线上线下培训。武汉墨光将于2024年3月18日-22日开展第32届《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训班。本次培训共计5天时间，课程涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。以下是本次培训的课程详情： o6*/o ]]  
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My. dD'C  
课程大纲 z;J  
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第一天 ugno]5Ni  
光学和光线追迹的入门概念； pjACFVMFX  
ASAP 简介； 5? Wg%@  
ASAP 新版本功能； D-6
  
程序检查和3D 查看器； oew|23Ytb  
ASAP 数据输入； D}MoNE[r  
单透镜辐射计示例； Yt{ji  
ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据； m$?.Yig?  
照明系统示例； H"_v+N5=  
基本脚本操作； a2o.a2  
几何规范和通用几何设置； 3!aEClRtq  
光学特性； GWgd8x*V  
光源设置； X<Z(]`i  
光线追迹概念； S/VA~,KCe;  
系统分析与评价。 I:F <vE  
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第二天 L;3aZt,#O  
脚本和 ASAP 编辑器； okz]Qc>G  
几何可视化与验证； pajy#0 U  
显示模式； AuAT]`  
辐射强度分布； y1iX!m~)  
光源切趾； vevf[eO-  
光线分裂和接收属性； usy,V"{  
ASAP 宏语言； M|k&TTV  
ASAP 优化功能； ^#;RLSv   
散射模型和重点采样； _lP4}9p  
光线路径。 )A"jVQjI%w  
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第三天 wlrIgn%  
散射杂散光： *Rq`*D>:U}  
杂散光术语 G,
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辐射度学基础 Wab.|\c  
杂散光的成因和影响 
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杂散光分析和评价方法 d@ZoV  
ASAP杂散光分析流程、步骤 HyEa_9  
关键和照明表面 3p_b8K_bG  
重点采样位置和大小计算 ^!}F%  
杂散光PST计算 yX'IZk#_L  
光学表面粗糙、污染和微粒 <GaT|Hhc=  
表面黑化处理 ,E?4f @|X  
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第四天 b/nOdFO@  
鬼像： ,T$r9!WTM  
鬼像的来源 ra
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ASAP膜层 I8k  
ZEMAX导入的鬼像分析 -L8YJ8J6  
鬼像路径分析案例 :
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鬼像的控制 Sph*1c(R  
衍射和红外杂散光： c4 5?St  
孔径衍射和边缘衍射 H* /&A9("  
衍射光学元件的杂散光 4gOgWBv  
红外系统杂散光特征 GJ`UO  
红外热辐射 DWrb
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自发辐射杂散光 zh%qS~8Yv  
红外冷反射 x> \Bxa8  
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第五天 t#5:\U5r.  
杂散光工程： \XS]N_}8>  
杂散光的控制方法 bMmra.x4L  
挡板和叶片的设计 &SmXI5>Bo0  
散射测量 %ek"!A
 
杂散光的评价方法 Ea]T>4  
杂散光工程流程 AS|Rd+.  
总结和答疑 ]fE3s{y &-  
培训说明 oy5+}`  
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  为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速；
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  学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者颁发培训证书；
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  培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材。