线下培训 | 第32届《ASAP光学系统杂散光分析与控制》招生中

武汉墨光长久以来成功召开多期《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线上线下培训。武汉墨光将于2024年3月18日-22日开展第32届《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训班。本次培训共计5天时间，课程涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。以下是本次培训的课程详情： 9;\a|8O  
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课程大纲 kM0TQX)$m  
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第一天 N)kZ2|oD  
光学和光线追迹的入门概念； TpB4VNi/<  
ASAP 简介； qhdY<[6
 
ASAP 新版本功能； 5^,"Ve|  
程序检查和3D 查看器； FZvh]ZX  
ASAP 数据输入； { ]*#WU  
单透镜辐射计示例； 9+"R}Nxv^  
ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据； 9J*M~gKbz  
照明系统示例； `X["Bgk$!T  
基本脚本操作； I"=a:q  
几何规范和通用几何设置； XF6ed  
光学特性； wM-I*<L>  
光源设置； F}f/cG<X  
光线追迹概念； ii3{HJ*C  
系统分析与评价。 tdCD!rV`{  
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第二天 ;JD/4:  
脚本和 ASAP 编辑器； "^Ax}Jr  
几何可视化与验证； #FZoi:'Q  
显示模式； #OQT@uF!
 
辐射强度分布； LLMom.  
光源切趾； T{US
zMj  
光线分裂和接收属性； z]twh&^1L  
ASAP 宏语言； ?2q;`Nb  
ASAP 优化功能； %KkMWl&:  
散射模型和重点采样； {o."T/?d'  
光线路径。 )S8fFV  
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第三天 ~S85+OJ;M  
散射杂散光： !.EDQ1k  
杂散光术语 ^$D2fS  
辐射度学基础 h1(GzL%i_  
杂散光的成因和影响 [T6MaP?  
杂散光分析和评价方法 l0v]+>1i:  
ASAP杂散光分析流程、步骤 o^\L41x3  
关键和照明表面 $`wo8A|)  
重点采样位置和大小计算 !W4X4@  
杂散光PST计算 x1O]@Z{d\  
光学表面粗糙、污染和微粒 >Oz~j>jL  
表面黑化处理 #~I.F4  
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第四天 i?+>,r@\p  
鬼像： ~Pm[Ud  
鬼像的来源 C-TATH%f^  
ASAP膜层 \7d T]VV  
ZEMAX导入的鬼像分析 sN8)p%'Lg  
鬼像路径分析案例 ssx#\  
鬼像的控制 (QFu``ae+  
衍射和红外杂散光： ImG7E w  
孔径衍射和边缘衍射 2," (  
衍射光学元件的杂散光 <CIy|&J6  
红外系统杂散光特征 V49[XX  
红外热辐射 Cu`uP[# ch  
自发辐射杂散光 %u@}lG k  
红外冷反射 { ML)F]]  
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第五天 ?kBX:(g  
杂散光工程： X%lk] &2  
杂散光的控制方法 mR1|8H!f  
挡板和叶片的设计 5/f"dX  
散射测量 +*')0I
 
杂散光的评价方法 LPRvzlY=  
杂散光工程流程 VS\+"TPuH  
总结和答疑 .}4^b\  
培训说明 vyXL F'L  
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  为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速；
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  学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者颁发培训证书；
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  培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材。