线下培训 | 第32届《ASAP光学系统杂散光分析与控制》招生中
武汉墨光长久以来成功召开多期《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线上线下培训。武汉墨光将于2024年3月18日-22日开展第32届《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训班。本次培训共计5天时间,课程涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习,讲师现场互动答疑,旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。以下是本次培训的课程详情: V&Y`?Edc [attachment=125070] 9QZaa(vN R2bq hSlF 课程大纲 >w,L= z= H MOIUd 第一天 )f8>kz( 光学和光线追迹的入门概念;
Dy08.Sss ASAP 简介; -t-f&`S|| ASAP 新版本功能;
"Ih3 程序检查和3D 查看器; ':4cQ4Z ASAP 数据输入; e=amh 单透镜辐射计示例; d0J/"< ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据; ew;;e|24 照明系统示例; s 6Wp"V( 基本脚本操作; [9E~=A# 几何规范和通用几何设置; g)Z8WH$;H3 光学特性; .1QGNW 光源设置; pn" !wqg 光线追迹概念; q<RjAi 系统分析与评价。 Y,L`WeQY. `IHP_IfR 第二天 X'A`"}=_ 脚本和 ASAP 编辑器; .:_'l)- 几何可视化与验证; pyEQb# 显示模式; EEe$A?a; 辐射强度分布; zCs34=3D[ 光源切趾; )@]%:m!ER 光线分裂和接收属性; iSfRJ:_&6 ASAP 宏语言; &1\/B ASAP 优化功能; O]: 9va 散射模型和重点采样; dJuy Jl$* 光线路径。 Jv~R/qaaD _|~Dj)z 第三天 i?L=8+9f 散射杂散光: =%_=!% 杂散光术语 XQ1]F{?/H 辐射度学基础 C T~6T&' 杂散光的成因和影响 #.8v[TkKq 杂散光分析和评价方法 IIk_!VzT ASAP杂散光分析流程、步骤 s.M39W? 关键和照明表面 +!).' 重点采样位置和大小计算 pl8b&bLzi 杂散光PST计算 |n_N.Z 光学表面粗糙、污染和微粒 <Bo\a3Z 表面黑化处理 HDm]njF%qQ {7y;s 第四天 .Ys
e/oEo 鬼像: , ['}9:f9 鬼像的来源 .AN1Yt ASAP膜层 8W3zrnc ZEMAX导入的鬼像分析 [;m@A\F 鬼像路径分析案例 0E\#!L 鬼像的控制
}$oS/bo 衍射和红外杂散光: V
x#M!os0 孔径衍射和边缘衍射 lxd{T3LU 衍射光学元件的杂散光 r8"2C# 红外系统杂散光特征 bvD}N<>3N 红外热辐射 %oBP6|e 自发辐射杂散光 [kg^S`gc# 红外冷反射 u|KjoO
nbxY'`8F 第五天 Wvl~|Sx] 杂散光工程: +~n:*\ 杂散光的控制方法 (wj:Gc 挡板和叶片的设计 Gf8 ^nfr 散射测量 \Zf=A[ 杂散光的评价方法 NX\AQVy9 杂散光工程流程 NV5qF/<M 总结和答疑 cGm3LS6]* 培训说明 6B]=\H U\%r33L )
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为达到培训效果,均为小班授课模式,名额有限,报名从速; - GVhqNy
学员自备笔记本电脑,培训结束后合格者颁发培训证书; - DN:|
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培训方安装最新正版软件,提供标准 ASAP 教材。 :2lpl%/ 培训详情 `E|i8M3g 1$RJzHS :uo)-9_ 举办单位: ZH~bY2^; 武汉墨光科技有限公司 +cfcr* 培训时间: ;_\yg)X, 2024年3月18日-3月22日 共五天(09:00-17:00) h: yJ 培训地点: NU=2*gM 湖北 ‧ 武汉 #^$_/Q#C 培训费用: 1 G]D:9-? 按7200/人的标准进行收费 k, N{ 1.提供服务性发票,项目“培训费”; A~xw:[zy$a 2.团体(三人及以上)报名可以享受八折优惠,不与墨光其他优惠同时使用; =r+K2]z,L 3.食宿自理。 S ,F[74K z5gVP8*z5 报名方式
Gd A!8 报名咨询可前往武汉墨光官网(扫描下方官网二维码)留言或直接扫码与我们的工作人员沟通联系。 -]wEk%j [attachment=125071] 3;buC|ky 武汉墨光官网 _-BP?'lN kNK0KL [attachment=125072] uZ8-? 工作人员微信 $'KQP8M+ 7;+G)44 }E ]l4N2 (注:如报名人数未达到最低开课人数,武汉墨光将酌情调整或延期开设本门课程。) .@fA_8
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