线下培训 | 第32届《ASAP光学系统杂散光分析与控制》招生中

武汉墨光长久以来成功召开多期《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线上线下培训。武汉墨光将于2024年3月18日-22日开展第32届《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训班。本次培训共计5天时间，课程涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。以下是本次培训的课程详情： T5V$wmB\W  
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课程大纲 ]svw CPu C  
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第一天 vo.EM1x  
光学和光线追迹的入门概念； %K`4k.gN  
ASAP 简介； 8db6(Q~P  
ASAP 新版本功能； s?HsUD$b  
程序检查和3D 查看器； EtPgzw[#c9  
ASAP 数据输入； ,qYf#fU#7  
单透镜辐射计示例； zEAx:6`c  
ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据； we @Yw6<  
照明系统示例； sAf9rZt*'  
基本脚本操作； "^!j5fZ  
几何规范和通用几何设置； OY$7`8M[  
光学特性； hg!x_Eq|  
光源设置； 40rZ~!}  
光线追迹概念； ;,R[]B01u  
系统分析与评价。 zabw!@]  
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第二天 =:kiSrBS3t  
脚本和 ASAP 编辑器； n2H&t>N  
几何可视化与验证； \gjl^#;  
显示模式； r';Hxa '  
辐射强度分布； x!Y(Y=i>  
光源切趾； `AB~YX%(  
光线分裂和接收属性； 5X#i65_-  
ASAP 宏语言； pFG]IM7o/u  
ASAP 优化功能； 6_x}.bkIx=  
散射模型和重点采样； uT#Acg  
光线路径。 iz,]%<_PE  
5^bh.uF  
第三天 3#7ENV`  
散射杂散光： RT1{+:l  
杂散光术语 A3m{jbh  
辐射度学基础 $gXkx D  
杂散光的成因和影响 !^n1  
杂散光分析和评价方法 Cln^1N0  
ASAP杂散光分析流程、步骤 ,M| QN*  
关键和照明表面 wV7@D[8  
重点采样位置和大小计算 YWybPD4\(  
杂散光PST计算 tj`tLYOZ@-  
光学表面粗糙、污染和微粒 IY-(- a8  
表面黑化处理 2(@LRl>:  
&h98.A*&  
第四天 Zb12:?  
鬼像： 9;}L{yve  
鬼像的来源 kq-mr  
ASAP膜层 #i'C  
ZEMAX导入的鬼像分析 7[(Lrx.pM  
鬼像路径分析案例 L{4),65  
鬼像的控制 (jD'
+ "?  
衍射和红外杂散光： v)wY  
孔径衍射和边缘衍射 ^Tb}]aHg  
衍射光学元件的杂散光 $w 5#2Za  
红外系统杂散光特征 V,99N'o~x  
红外热辐射 HQ ELK  
自发辐射杂散光 BYhmJC|  
红外冷反射 >eYU$/80  
.aVHd<M  
第五天 b|\{ !N]  
杂散光工程： t?pIE cl  
杂散光的控制方法 JNU"5sB  
挡板和叶片的设计 LC~CPV'F  
散射测量 My'9S2Y8nv  
杂散光的评价方法 H5F\-&cq  
杂散光工程流程 LZ=wz.'u  
总结和答疑 <DA{\'jJ  
培训说明 [u!p-  
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  为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速；
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  学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者颁发培训证书；
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  培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材。