线下培训 | 第32届《ASAP光学系统杂散光分析与控制》招生中

武汉墨光长久以来成功召开多期《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线上线下培训。武汉墨光将于2024年3月18日-22日开展第32届《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训班。本次培训共计5天时间，课程涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。以下是本次培训的课程详情： s4$X  
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课程大纲 gvyT-XI  
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第一天 TJOvyz`t  
光学和光线追迹的入门概念； 3wC R|ab}  
ASAP 简介； &g0g]G21*I  
ASAP 新版本功能； \A<v=VM|  
程序检查和3D 查看器； [M:S`{SbY  
ASAP 数据输入； -;pOh;WG  
单透镜辐射计示例； 0pN{y}x,  
ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据； })[($$f/  
照明系统示例； %>y;zqZIU  
基本脚本操作； eN/G i<  
几何规范和通用几何设置； i2PZ'.sL  
光学特性； zZ=$O-&%  
光源设置； _ 08];M|  
光线追迹概念； Rri`dmH   
系统分析与评价。 vZkXt!%)  
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第二天 u9]1X1wV  
脚本和 ASAP 编辑器； )X5(#E  
几何可视化与验证； XmWlv{T+  
显示模式； } 
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辐射强度分布； }U[-44r:  
光源切趾； KDey(DN:  
光线分裂和接收属性； f=`33m5  
ASAP 宏语言； o| D^`Z  
ASAP 优化功能； 4:1)~z  
散射模型和重点采样； BU6Jyuwn  
光线路径。 4D"4zp7  
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第三天 ^%#grX#  
散射杂散光： \%5MAQS  
杂散光术语 6D/'`  
辐射度学基础 2o5;Uz1{  
杂散光的成因和影响 \
VN=Ef\E  
杂散光分析和评价方法 2z\;Q8g){r  
ASAP杂散光分析流程、步骤 ctI{^f:  
关键和照明表面 G!Zyl^  
重点采样位置和大小计算 z%:&#1)  
杂散光PST计算 [uR/M
 
光学表面粗糙、污染和微粒 ?CY1]d  
表面黑化处理 8eyl,W=dn  
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第四天 3~%!m<1:  
鬼像： _x %1F  
鬼像的来源 {gU&%j  
ASAP膜层 =u|~ <zQw  
ZEMAX导入的鬼像分析 4%_M27bu[  
鬼像路径分析案例 MYdx .NZT  
鬼像的控制 g1|w?pI1  
衍射和红外杂散光： %Kto.Xq  
孔径衍射和边缘衍射 DWf$X1M  
衍射光学元件的杂散光 dGkgaC+  
红外系统杂散光特征 JP'= UZ'  
红外热辐射 PW)aLycPK  
自发辐射杂散光 ,]$A\+m'  
红外冷反射 d`%Mg&  
K ,isjh2  
第五天 .\)A@ua^  
杂散光工程： 'HaD~pa  
杂散光的控制方法 ;pZ[|  
挡板和叶片的设计 C1fyV]  
散射测量 O#_x)13  
杂散光的评价方法 yV]xRaRr2  
杂散光工程流程 5Op_*N{V  
总结和答疑 2 ZG@!Y|  
培训说明 %Fft R1"  
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• E%3TP_B3  
  为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速；
• y0IK,W'&?  
  学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者颁发培训证书；
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  培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材。