| infotek |
2024-01-03 08:01 |
元件内部场分析仪：FMM
摘要 ;OqB5qd
ZKHG !`X0
[attachment=124503] (aOv#Vor]%
svxw^ 0~a
元件内部场分析器：FMM允许用户可视化和研究微结构和纳米结构内部的电磁场分布。为此，使用傅立叶模态法/严格耦合波分析（FMM/RCWA）计算周期性结构（透射或反射、电介质或金属）内部的场。还可以指定场的哪一部分应该可视化：正向模式、反向模式或两者同时显示。 /xtq_*I1S
^[:p|U2mA
元件内部场分析仪：FMM
nt*Hc1I
[attachment=124504] , ]bB9tid
rj(T~d4
元件内部场分析器：FMM是光栅光学装置的独有功能，可提供光栅结构内部电磁场的可视化。 93Co}@Y;Y+
:oJ=iB'Zc
评估模式的选择 hzk cP
[attachment=124505] ! 1e6Ss
/p8dZ+X
为了更容易地区分入射场、反射场和透射场，可以仅评估正向或反向传播模式，或者评估两者的总和。 qkiI/nH3
`
,SiA-3*
评价区域的选择 ~\ J}Kqg
.l.a(_R
[attachment=124506] 0`^&9nR
0#nPbe,Lj
元件内部场分析器：FMM可以输出整个元件（包括基板）内部的场，或者只输出一个堆栈或基块（基板）中的场。 ~ 4k c/a
c%MW\qx
不同光栅结构的场分布 h*- Pr8
q
FAT]{{
任意形状的光栅结构可以通过元件内部场分析仪进行分析。以下是几个例子： ~ ]QHk?[wc
[attachment=124507] Hv 2De0W
EOCN&_Z;
光栅结构的采样 v%q0OX>9X"
gP;&e: /3
虽然分析仪为输出数据提供了一些采样选项，但系统中定义的光栅表面必须正确采样（例如，分解点和过渡点的层数足够）。 1fpQLaT
EM[WK+9>I{
[attachment=124508] 0tXS3+@n =
))"6er n
分解预览展示了如何根据当前采样因子对光栅结构进行采样。 9b9$GyI
{G Q^fu;q
光栅结构的充分采样意味着已经实现了收敛，即进一步增加采样不会显著影响产生的场。例如，如果层分解过于粗糙，则可能会由于纵断面中的大台阶而产生其他影响。 Le\?+h42>
[attachment=124509] h2XfC. f
`hQ5VJo
输出数据的采样：一维周期光栅（Lamellar） ]"?) Z
oM>Z;QVRC:
[attachment=124510] 5yP\I+Fm
对于1D周期性（片状）光栅，分析仪使用对话框“采样”部分中指定的参数生成2D横截面图像。 |'B7v i)
?!` /m|"
输出数据的采样：二维周期光栅 a6uJYhS~
>&}%+r\
当分析的光栅设置为2D Periodic时，Field Inside Component Analyzer：FMM将通过结构生成一系列二元截面，z方向的采样参数决定执行的切割次数。[attachment=124511] `~By)?cT_>
[attachment=124512]
|
|