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2023-11-23 09:59 |
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=122946] @+p(% 内容简介 I
2OQ Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 wWf_d jd 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 T!41[vm( 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 m`q&[: [Y, L=p
OX]P;#4tU
0#uB[N 目录 =23@"ji@D Preface 1 +U_1B%e(% 内容简介 2 y`7<c5zD 目录 i , .;0xyc 1 引言 1 s7:H 2 光学薄膜基础 2 .o C!~' 2.1 一般规则 2 %+|sbRBb 2.2 正交入射规则 3 :KXI@)M 2.3 斜入射规则 6 O_.!qk1R 2.4 精确计算 7 8c9<kGm$E 2.5 相干性 8 z^&$6c_ 2.6 参考文献 10 I"lzOD; eI 3 Essential Macleod的快速预览 10 5}]+|d; 4 Essential Macleod的特点 32 0pEM0M 4.1 容量和局限性 33 kb/BEJ 4.2 程序在哪里? 33 Nz`v+sp 4.3 数据文件 35 z;<~j=lP 4.4 设计规则 35 h qjjd-S0 4.5 材料数据库和资料库 37 }}~a4p>% 4.5.1材料损失 38 CqZHs
9+e& 4.5.1材料数据库和导入材料 39 yOKzw~;0% 4.5.2 材料库 41 [v*q%Mi_ 4.5.3导出材料数据 43 C3f\E: D) 4.6 常用单位 43 EleJ$ `/ 4.7 插值和外推法 46 D g0rVV6c 4.8 材料数据的平滑 50 W 4.9 更多光学常数模型 54 P\6:euI 4.10 文档的一般编辑规则 55 vF'>?O? 4.11 撤销和重做 56 Zxqlhq/) 4.12 设计文档 57 &<uLr
*+* 4.10.1 公式 58 g<0K
i^# 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 Avi_]h& 4.10.3 沉积密度 59 `G`R|B 4.10.4 平行和楔形介质 60 9609 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 eXK3W2XF 4.10.4 性能 61 Xz)F-C27h 4.10.5 保存设计和性能 64 Ny/eYF# 4.10.6 默认设计 64 5<v1v& 4.11 图表 64 +ls`;f 4.11.1 合并曲线图 67 Vym0|cW 4.11.2 自适应绘制 68 ivq(eKy 4.11.3 动态绘图 68 ku]?"{Xx 4.11.4 3D绘图 69 `\\s%}vZ*T 4.12 导入和导出 73 *xsBFCRU 4.12.1 剪贴板 73 ysIhUpd 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 KT<$E!@ 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 )qbkKCq/FB 4.13 背景 77 N AY3.e 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 Fih
pp< 4.15 生成Rugate 84 U1)Zh-aR 4.16 参考文献 91 7f ub^'_ 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 T9Juq6| 5.1 Jobs 92 sHk>ek]2I 5.2 创建一个新Job(工作) 93 _ ~\} fY 5.3 输入材料 94 ZM v\j|{8 5.4 设计数据文件夹 95 l}VE8-XB 5.5 默认设计 95 <YU4RZ 6 细化和合成 97 P,'%$DLDg 6.1 优化介绍 97 [{u3g4`} 6.2 细化 (Refinement) 98 t $Rc
0 6.3 合成 (Synthesis) 100 YJ"D"QD 6.4 目标和评价函数 101 Q#SQ@oUzD 6.4.1 目标输入 102 -q{N1?tcy 6.4.2 目标 103 $VF,l#aR 6.4.3 特殊的评价函数 104 XJ3sqcS 6.5 层锁定和连接 104 JRFUNy1+e1 6.6 细化技术 104 _r\M}lDh* 6.6.1 单纯形 105 *OFG3 uM
6.6.1.1 单纯形参数 106 z_ycH%p 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 \2a;z<( 6.6.2.1 Optimac参数 108 `}=R
6.6.3 模拟退火算法 109 2m yxwA5 6.6.3.1 模拟退火参数 109 D0 p*Sg 6.6.4 共轭梯度 111 9ABU^ig 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 *4`5&) ` 6.6.5 拟牛顿法 112 !a F~5P7% 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
Fl=H5HR 6.6.6 针合成 113 +c<iVc| 6.6.6.1 针合成参数 114 *1`X} 6.6.7 差分进化 114 [I4MK%YQ 6.6.8非局部细化 115 SU~.baP? 6.6.8.1非局部细化参数 115 {P~rf&Ee 6.7 我应该使用哪种技术? 116 b}0h()v 6.7.1 细化 116 eZT8gKbjJ) 6.7.2 合成 117 #lvt4a"P" 6.8 参考文献 117 uWdF7|PN7 7 导纳图及其他工具 118 /v5A)A$7 7.1 简介 118 vQi=13Pw 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 eP>_CrJb 7.2.1 四分之一波长规则 119 YWH>tt9 7.2.2 导纳图 120 L7 }nmP>aR 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 ")uKDq 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 C&w0HoF 7.5 斜入射导纳图 141 L>sLb(2\i 7.6 对称周期 141 -\?- 7.7 参考文献 142 z&d.YO_W 8 典型的镀膜实例 143 }BlyEcw'aN 8.1 单层抗反射薄膜 145 K}@rte 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 +X^GS^mz 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 C'$}{%Cc@$ 8.4 W-膜层 148 <>\|hno} 8.5 V-膜层 149
{ %X2K 8.6 V-膜层高折射基底 150 +M
I{B="7. 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 >tcEx( 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 gp`@dn'; 8.9 四层抗反射薄膜 153 `3T=z{HR9g 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 I&La0g | |