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《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=122013] \1gAWUt(' 内容简介 ULxQyY;32 Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 i+mU(/l2{ 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 rP'%f 6 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 HEbL'fw^s y705
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2015年9月3日 ?k4Hk$V 目录 -%Vh-;Ie( Preface 1 ~dEo^vJD 内容简介 2 l"E{ ?4 目录 i |Vqm1.1/Zv 1 引言 1 '%t$mf!nV 2 光学薄膜基础 2 e-P{)L<s5 2.1 一般规则 2 a'|]_`36x 2.2 正交入射规则 3 ;"0bVs`.^e 2.3 斜入射规则 6 WN{8gL&y 2.4 精确计算 7 6]%=q)oL[ 2.5 相干性 8 Cip|eM &l 2.6 参考文献 10 J.: 3 Essential Macleod的快速预览 10 FS&QF@dtgf 4 Essential Macleod的特点 32 ^|.T\ 4.1 容量和局限性 33 zA6C{L G3 4.2 程序在哪里? 33 SF*mY=1 4.3 数据文件 35 9)]`le 4.4 设计规则 35 Jj[3rt?8 4.5 材料数据库和资料库 37 72xf|s= 4.5.1材料损失 38 NR(rr. 4.5.1材料数据库和导入材料 39 yN{**?b 4.5.2 材料库 41 r9u'+$vmF 4.5.3导出材料数据 43 4y+hr 4.6 常用单位 43 2= ;ZJ 4.7 插值和外推法 46 g]HxPq+O 4.8 材料数据的平滑 50 flqr["czwK 4.9 更多光学常数模型 54 OfBWf6b 4.10 文档的一般编辑规则 55 EH2): 4.11 撤销和重做 56 -u%o) ;B 4.12 设计文档 57 rwUhNth-Qh 4.10.1 公式 58 D[@-`F 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 ,B/TqPP 4.10.3 沉积密度 59 SGZYDxFC@ 4.10.4 平行和楔形介质 60 GYIQ[#'d7 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 XS@iu,uO 4.10.4 性能 61 }])j>E 4.10.5 保存设计和性能 64 "7+^`? 4.10.6 默认设计 64 mD +9/O! 4.11 图表 64 $aTo9{M ^ 4.11.1 合并曲线图 67 st "@kHQ3 4.11.2 自适应绘制 68 teDRX13=; 4.11.3 动态绘图 68 `O3#/1+ 4.11.4 3D绘图 69 Q_,!(N 4.12 导入和导出 73 oSMIWwg7G 4.12.1 剪贴板 73 K
~\b+ 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 K6B6@ 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 !?i9fYu 4.13 背景 77 !$iwU3~< 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 MJe/ \ 4.15 生成Rugate 84 %`G}/" 4.16 参考文献 91 NPBOG1q% 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 $?kTS1I( 5.1 Jobs 92 /P3Pv"r|8] 5.2 创建一个新Job(工作) 93 b9.7j!W 5.3 输入材料 94 ]nIVP 5.4 设计数据文件夹 95 0[ n;ZL~ 5.5 默认设计 95 t9W* N\ 6 细化和合成 97 mp(:D&M 6.1 优化介绍 97 T^|6{ S\ 6.2 细化 (Refinement) 98 Q"pZPpl& 6.3 合成 (Synthesis) 100 9Y# vKb{> 6.4 目标和评价函数 101 :Oj!J&A 6.4.1 目标输入 102
!&KE">3Qu 6.4.2 目标 103 PR7bu%Y*eD 6.4.3 特殊的评价函数 104 {2g?+8L$Z 6.5 层锁定和连接 104 REJBm 6.6 细化技术 104 Gqar5 6.6.1 单纯形 105 kbz+6LcV 6.6.1.1 单纯形参数 106 )buy2#8UW 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 )J\
JAUj 6.6.2.1 Optimac参数 108 M _Lj5` 6.6.3 模拟退火算法 109 +Sv2'& B 6.6.3.1 模拟退火参数 109 QE;,mC> 6.6.4 共轭梯度 111 i2O$oHd 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 !qs~j=;y3 6.6.5 拟牛顿法 112 MGKSaP;x 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 QA!'p1{# 6.6.6 针合成 113 , YE+k`: 6.6.6.1 针合成参数 114 4%jSqT@ 6.6.7 差分进化 114 )lx;u.$4 6.6.8非局部细化 115 4NFvX4 6.6.8.1非局部细化参数 115 Mm"0Ip2" 6.7 我应该使用哪种技术? 116 Z
+}#
Ic 6.7.1 细化 116 ]CnT4[f! 6.7.2 合成 117 z{>
)'A/ 6.8 参考文献 117 [py/\zkn 7 导纳图及其他工具 118 \xZ6+xZd1 7.1 简介 118 ~m7?:(/lb 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 )!`>Q|]}Zd 7.2.1 四分之一波长规则 119 c30kb 7.2.2 导纳图 120 @2A&eLwLH 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 N*hx;k9 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 VelX+|w 7.5 斜入射导纳图 141 #5IfF~*i 7.6 对称周期 141 ;&RHc#1F 7.7 参考文献 142 |Tl2r,(+R 8 典型的镀膜实例 143 Q;p%
VQ 8.1 单层抗反射薄膜 145 \" =@uqar2 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 1,G f;mcQ 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 llBW*4' 8.4 W-膜层 148 AUkePp78 8.5 V-膜层 149 z6Yx
)qBE< 8.6 V-膜层高折射基底 150 /kd6Yq(y 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 .sPa${ 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 Xu5^ly8p9q 8.9 四层抗反射薄膜 153 a: OuDjFp 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 O:O
+Q!58 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 gtb,}T=1 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 e#uF?v]O 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 :,dO7dJi 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 ]u O|YLWp 8.15十五层宽带抗反射膜 159 D~<0CQ3n. 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 O>L
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dP 8.17 1/4波长堆栈 162 4^BHJOvs 8.18 陷波滤波器 163 Rlf#)4 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 V IU4QEW`x 8.20 褶皱 165 m&r | |