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infotek 2023-10-11 11:59

线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

时间地点 ^B9wmxe  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 ;|y,bo@sJJ  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 '5--eYG  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 uzsN#'7=  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 5P!17.W'u  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
oH0\6:S  
特邀专家介绍 * ?+!(E  
[attachment=121028] =Yk$Q\c  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 AF-.Nwp   
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 [PT_y3'%  
课程概要 @:I/lg=Qd  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 aRmS{X3  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 ^l,Jbt  
课程大纲 @C2<AmY9q*  
1. Essential Macleod软件介绍 ceCshxTU  
1.1 介绍软件 $7,dKC &  
1.2 创建一个简单的设计 0^4*[?l9q  
1.3 绘图和制表来表示性能 J:(l&  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 #a&Vx&7L  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) 'Bx7b(xqk  
1.6 特定设计的公式技术 8] *{ i  
1.7 交互式绘图 AVjtK  
2. 光学薄膜理论基础 Mi/_hzZ\  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 r.GjM#X  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 #C`!yU6(  
3. 材料管理 Q8n?7JB  
3.1 材料模型 4\?B ,!  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 h(sD]N  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 P,wJ@8lv  
3.4 基板光学常数的提取 rdRX  
4. 光学薄膜设计优化方法 slx^" BF^  
4.1 参考波长与g ^:#%TCJ  
4.2 四分之一规则 ol\IT9Zb~  
4.3 导纳与导纳图 .H&;pOf  
4.4 斜入射光学导纳 L[K_!^MZ  
4.5 光学薄膜设计的进展 <5q}j-Q  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 1\p[mN  
4.6.1 优化目标设置 i@RjG   
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) KlPH.R3MPO  
4.6.3 膜层锁定和链接 L0Cf@~k  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 [Dhc9  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 TwN8|ibVmP  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 rW^&8E[  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 SXL6)pX  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 b} *cw2  
5.5 如何在Function中编写脚本 0[];c$r<  
6. 光学薄膜系统案例 g`j%jQuY  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 J}x5Ko@  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 ZDf9Npe  
6.3 Stack应用范例说明 !ZVMx*1Cf  
7. 薄膜性能分析 O6pjuhMx  
7.1 电场分布 vcmS]$}  
7.2 公差与灵敏度分析 rcK*",>  
7.3 反演工程 ZBGI_9wZ  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 <3qbgn>}b  
8. 真空技术 E(oNS\ 4  
8.1 常用真空泵介绍 ;@L#0  
8.2 真空密封和检漏 V)`? J)  
9. 薄膜制备技术 !EFd- fk  
9.1 常见薄膜制备技术 +[F8>9o&  
10. 薄膜制备工艺 iY2bRXA  
10.1 薄膜制备工艺因素 k"Is.[I?^  
10.2 薄膜均匀性修正技术 0kkiS 3T  
10.3 光学薄膜监控技术 rT#QA=YB  
11. 激光薄膜 iT%UfN/q=I  
11.1 薄膜的损伤问题 $`  
11.2 激光薄膜的制备流程 5s>9v  
11.3 激光薄膜的制备技术 o+na`ed  
12. 光学薄膜特性测量 ^2=zp.)  
12.1 薄膜光谱测量 T:ck/:ZH  
12.2 薄膜光学常数测量 W% P&o}'  
12.3 薄膜应力测量 QZ6M,\  
12.4 薄膜损伤测量 pUmB h  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 *M*k-Z':.*  
[attachment=121029]
i8{jMe!Sa  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系[attachment=121027]
I/tzo(r  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=121030]
^uj+d"a)  
内容简介 zQ [mO  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 [bp"U*!9P  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 }vi%pfrB  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 b{oNV-<&{  
+bXZE  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
OjCT%6hy;  
目录 ;2iZX=P`n  
Preface 1 gO5;hd[ l  
内容简介 2 OLi;/(g  
目录 i {T IGPK  
1  引言 1 rQWft r^  
2  光学薄膜基础 2 =nsY[ s<  
2.1  一般规则 2 \yxr@z1_b  
2.2  正交入射规则 3 'i,<j s3\f  
2.3  斜入射规则 6 NE! Xt<A  
2.4  精确计算 7 l YhwV\3  
2.5  相干性 8 [bcqaT  
2.6 参考文献 10 2vXMrh\  
3  Essential Macleod的快速预览 10 |\ ay^@N  
4  Essential Macleod的特点 32 }Yj S v^  
4.1  容量和局限性 33 ijTtyTC  
4.2  程序在哪里? 33 !nu['6I%  
4.3  数据文件 35 l>G#+#{  
4.4  设计规则 35 e7;]+pN]J  
4.5  材料数据库和资料库 37 $xl*P#  
4.5.1材料损失 38 s:_5p`w>  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 &M2x`  
4.5.2 材料库 41 &a0%7ea`.S  
4.5.3导出材料数据 43 ''6"Xi|5  
4.6  常用单位 43 ?G{fF H  
4.7  插值和外推法 46 6!'yU=Z`  
4.8  材料数据的平滑 50 nQ+{1 C  
4.9 更多光学常数模型 54 l9Vim9R5T  
4.10  文档的一般编辑规则 55 & #|vGhA  
4.11 撤销和重做 56 vr;7p[~  
4.12  设计文档 57 R|vF*0)>W  
4.10.1  公式 58 9\;EX  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 LU]~d< i99  
4.10.3  沉积密度 59 \kRBJ1)|f  
4.10.4 平行和楔形介质 60 qg|+BIi Uz  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 6->b(B V $  
4.10.4  性能 61 8 jT"HZB6  
4.10.5  保存设计和性能 64 &sRyM'XI  
4.10.6  默认设计 64 r=k}EP&<  
4.11  图表 64  :DD4BY  
4.11.1  合并曲线图 67 {tMD*?C[6  
4.11.2  自适应绘制 68 4e(@b3y  
4.11.3  动态绘图 68 ?=vwr,ir  
4.11.4  3D绘图 69 |N g[^  
4.12  导入和导出 73 D^u{zZy@e  
4.12.1  剪贴板 73 $D89|sy  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 t EeMl =u  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 m&\Gz*)3  
4.13  背景 77 T;%SB&  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 k"U4E J{  
4.15  生成Rugate 84 #Z.JOwi  
4.16  参考文献 91 kb6v2 ^8H  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 tY#^3ac  
5.1  Jobs 92  ^ "f  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 8sg *qQ  
5.3  输入材料 94 c;e ,)$)-|  
5.4  设计数据文件夹 95 Z\Q7#dl  
5.5  默认设计 95 W6PGv1iaW>  
6  细化和合成 97 8 2qe|XD4p  
6.1  优化介绍 97 Ac54 VN  
6.2  细化 (Refinement) 98 pI!55w|  
6.3  合成 (Synthesis) 100 4{R`  
6.4  目标和评价函数 101 M(BZ<,9V  
6.4.1  目标输入 102 1Y`MJ \9  
6.4.2  目标 103 Z/x1?{z  
6.4.3  特殊的评价函数 104 -"<f(  
6.5  层锁定和连接 104 5YCbFk^  
6.6  细化技术 104 0jmlsC>  
6.6.1  单纯形 105 $_VD@YlAp  
6.6.1.1 单纯形参数 106 I,[EL{fz  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 M~6I-HexT|  
6.6.2.1 Optimac参数 108 7[)(;-  
6.6.3  模拟退火算法 109 &td#m"wI  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 O^GXFz^  
6.6.4  共轭梯度 111 g:EU\  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 _H,RcpyJ  
6.6.5  拟牛顿法 112 E=E<l?ob  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 lO *Hv9#  
6.6.6  针合成 113 p .HA `R>  
6.6.6.1 针合成参数 114 v\Hyu1;8  
6.6.7 差分进化 114 ox6rR  
6.6.8非局部细化 115 {x: IsQZ  
6.6.8.1非局部细化参数 115 \ C^D2Z6  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 ?Y9?x,x  
6.7.1  细化 116 W@tLT[}CG  
6.7.2  合成 117 |?> h$'  
6.8  参考文献 117 H,}?YW  
7  导纳图及其他工具 118 vEsSqzc  
7.1  简介 118 [=Z{y8#:J  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 { \ePJG#  
7.2.1  四分之一波长规则 119 */)gk=x8  
7.2.2  导纳图 120 ;w>B}v;RE  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 -&? -  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 NSq"\A\  
7.5  斜入射导纳图 141 ^wlep1D  
7.6  对称周期 141 El%(je,|  
7.7  参考文献 142 2XtQ"`)  
8  典型的镀膜实例 143 iCS/~[  
8.1  单层抗反射薄膜 145 m+g>s&1H  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 55,-1tWs  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 0 Yp;?p^  
8.4  W-膜层 148 >MT)=4 9q  
8.5  V-膜层 149 v4$,Vt:7  
8.6  V-膜层高折射基底 150 *"ShE=\p  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 }#J}8.  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 s__g*%@B b  
8.9  四层抗反射薄膜 153 d%hA~E1rR  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 UL%ihWq   
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 pB./L&h  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 St`m52V(5X  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 B^9 #X5!  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 X\%3uPQ  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 yH^*Fp8V  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 WQx;tX  
8.17  1/4波长堆栈 162 H JiP:{  
8.18  陷波滤波器 163 ks D1NB;9  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 Vd4osBu{fY  
8.20  褶皱 165 %*OJRL`  
8.21  消偏振分光器1 169 JyO lVs<T  
8.22  消偏振分光器2 171 OT i3T1&  
8.23  消偏振立体分光器 172 `t6L'%\  
8.24  消偏振截止滤光片 173 gwJu&HA/  
8.25  立体偏振分束器1 174 z3]U% y(,  
8.26  立方偏振分束器2 177 Ne 4*MwK  
8.27  相位延迟器 178 DF2&j!  
8.28  红外截止器 179 R`q!~8u  
8.29  21层长波带通滤波器 180  Dfia=1A  
8.30  49层长波带通滤波器 181 Z&,}Fgl!F  
8.31  55层短波带通滤波器 182 =*jcO119L  
8.32  47 红外截止器 183 cmI#R1\  
8.33  宽带通滤波器 184 'QF>e  
8.34  诱导透射滤波器 186 A]$+ `uS\  
8.35  诱导透射滤波器2 188 ?M^t4nj  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 Kf#!IY][  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 GwBQ p Njy  
8.35  增益平坦滤波器 193 \<**SSN  
8.38  啁啾反射镜 1 196 S!_?# ^t  
8.39  啁啾反射镜2 198 K5&C}Ey1  
8.40  啁啾反射镜3 199 %SCu29km  
8.41  带保护层的铝膜层 200 lvi:I+VgA  
8.42  增加铝反射率膜 201 .Er/t"Qs;  
8.43  参考文献 202 ?` i/  
9  多层膜 204 G`"Cqs<  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 0h4}RmS  
9.2  内部透过率 204 +;;%Atgn  
9.3 内部透射率数据 205 6/ipdi[ _  
9.4  实例 206 oE1]vX  
9.5  实例2 210 _#m qg]W'  
9.6  圆锥和带宽计算 212 dRm'$ G9  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 !`o:+Gg@  
10  光学薄膜的颜色 216 om?CFl  
10.1  导言 216 _`>7 Q) ,7  
10.2  色彩 216 J|S^K kC  
10.3  主波长和纯度 220 :n9~H+!  
10.4  色相和纯度 221 Y{RB\}f(  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 |wQZ~Ux:  
10.6 色差 226 pIiED9  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 N'P,QiR,z<  
10.8  颜色渲染指数 234 s$x] fO  
10.9  色差计算 235 \/'n[3x  
10.10  参考文献 236 a] =\h'S  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 y4We}/-<  
11.1  短脉冲 238 &>.1%x@R  
11.2  群速度 239 @n* D>g  
11.3  群速度色散 241 &\|<3sd(  
11.4  啁啾(chirped) 245 K/v-P <g  
11.5  光学薄膜—相变 245 ?3,tG z)  
11.6  群延迟和延迟色散 246 O&iYGREO  
11.7  色度色散 246 %C0O?q  
11.8  色散补偿 249 UQ])QTrZFi  
11.9  空间光线偏移 256 T,2Dr;  
11.10  参考文献 258 =v$s+`cP  
12  公差与误差 260 9w;J7jgOT!  
12.1  蒙特卡罗模型 260 ZHECcPhz  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 fhIj+/{_O  
12.2.1  误差工具 267 h?3l  
12.2.2  灵敏度工具 271  Cmx2/N  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 -u9yR"n\}  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 Bi :wP/>v  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 ^@lg5d3F  
12.3  参考文献 276 a {$k<@Ww  
13  Runsheet 与Simulator 277 `W$0T;MPF  
13.1  原理介绍 277 {-N90Oe  
13.2  截止滤光片设计 277 J&ECm+2  
14  光学常数提取 289 Po11EZa$a  
14.1  介绍 289 i~B@(,  
14.2  电介质薄膜 289 3J~kiy.nfW  
14.3  n 和k 的提取工具 295 V /9"Xmv75  
14.4  基底的参数提取 302 <&s)k  
14.5  金属的参数提取 306 _7.GzQJ  
14.6  不正确的模型 306 gq_7_Y/  
14.7  参考文献 311 QC5f:BwM  
15  反演工程 313 ElR&scXi__  
15.1  随机性和系统性 313 #C;zS9(]B  
15.2  常见的系统性问题 314 :Mu8W_  
15.3  单层膜 314 u4,X.3V]A  
15.4  多层膜 314 hf+/kc!>i  
15.5  含义 319 l&??2VO/t  
15.6  反演工程实例 319 N!Wq}#&l  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 j)tC r Py  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 =#Cf5s6qt  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 t#pqXY/;D  
16.1  光学性质的热致偏移 329 r>:L$_]L  
16.2  应力工具 335 CziaxJ  
16.3  均匀性误差 339 |;U=YRi  
16.3.1  圆锥工具 339 [zTYiNa  
16.3.2  波前问题 341 D PS1GO*  
16.4  参考文献 343 :O'C:n<g  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 W^d4/]  
17.1  引言 345 .W@4vrp@  
17.2  操作数 345 F'>GN}n  
18  如何在Function中编写脚本 351 B==a  
18.1  简介 351 s 9|a2/{  
18.2  什么是脚本? 351 5}MlZp  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 ^M(`/1:  
18.4  基础 352 o~o6S=4,}  
18.4.1  Classes(类别) 352 UC+7-y,  
18.4.2  对象 352 mU3Y)  
18.4.3  信息(Messages) 352 2 ]DCF  
18.4.4  属性 352 aFr!PQp4{  
18.4.5  方法 353 3:~l2KIP4  
18.4.6  变量声明 353 IglJEH[+  
18.5  创建对象 354 #7~tL23}]  
18.5.1  创建对象函数 355 %EVV-n@  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 TvWU[=4Yk  
18.5.3 丢弃对象 356 pqH( Tbjq  
18.5.4  总结 356 <=m 30{;f  
18.6  脚本中的表格 357 )+w/\~@  
18.6.1  方法1 357 qb-2QPEB  
18.6.2  方法2 357 | z#m  
18.7 2D Plots in Scripts 358 GcZM+c  
18.8 3D Plots in Scripts 359 8_<&f%/  
18.9  注释 360 u 5Eo  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 A{4G@k+#d  
18.11  一个更高级的脚本 362 |B%BwE  
18.12  <esc>键 364 O>SuZ>g+7  
18.13 包含文件 365 J}) $  
18.14  脚本被优化调用 366 C7b 5%a!  
18.15  脚本中的对话框 368 1Nl&4YLO  
18.15.1  介绍 368 /63 W\  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 "M9TB. O  
18.15.3  输入框函数 370 )BF \!sTn  
18.15.4  自定义对话框 371 JNxW6 cK  
18.15.5  对话框编辑器 371 }>{ L#JW  
18.15.6  控制对话框 377 dysX  
18.15.7  更高级的对话框 380 H5AK n*'7  
18.16 Types语句 384 a9D gy_!Y  
18.17 打开文件 385 d s|8lz,  
18.18 Bags 387 ~A[YnJYA#  
18.13  进一步研究 388 (XbMrPKG  
19  vStack 389 P[rAJJN/E  
19.1  vStack基本原理 389 VD9 q5tt7  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 /'&.aGW4%  
19.3  五棱镜 393 kZU"Xn  
19.4 光束距离 396 C 'B4 mmC  
19.5 误差 399 2!{_/@I\Y  
19.6  二向分色棱镜 399 0)A=+zSS1  
19.7  偏振泄漏 404 -O~C m}e  
19.8  波前误差—相位 405 F* 3G _V  
19.9  其它计算参数 405 B#HnPUUK  
20  报表生成器 406 u;+%Qh  
20.1  入门 406 ee&nU(pK  
20.2  指令(Instructions) 406 ur/Oc24i1n  
20.3  页面布局指令 406 K,x$c %  
20.4  常见的参数图和三维图 407 &Q'\WA'  
20.5  表格中的常见参数 408 tSEA999  
20.6  迭代指令 408 ; @ 7  
20.7  报表模版 408 4r_!>['`"  
20.8  开始设计一个报表模版 409 \3%W_vU_  
21  一个新的project 413 ?-pxte8  
21.1  创建一个新Job 414 9"WRIHt'c  
21.2  默认设计 415 ?@Z7O.u  
21.3  薄膜设计 416 :0M' =~[  
21.4  误差的灵敏度计算 420 9M1a*frxZ  
21.5  显色指数计算 422 wD<vg3e[H  
21.6  电场分布 424 <WM -@J(1  
后记 426 }x:\69$  
CCuxC9i7  
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书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 3xBN10R#  
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《Essential Macleod中文手册》
[attachment=121031]
2yl6~(JC+  
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目  录 Z -pyFK\  
+DicP"~*  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 rU; g0'4e  
第1章 介绍 ..........................................................1 D",A$(lG  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 fkW3~b  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 OfD@\;L  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 Vn)%C_-]A  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 d>YmKTk"  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 x HY+q ;  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 ])N|[|$  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 `ifb<T  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 h^['rmd  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 BD hLz  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 NU|qX {-  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 3|q2rA  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 ktN%!Mh\  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 6e,Apj 0  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 .JNcY]V#  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 .H Fc9^.*  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 1lbwJVY[  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 ]AFj&CteZ/  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 j -#E?&2  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 D`V6&_. p  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 SrSG{/{  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 \.5F](:  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 :}^Rs9 '  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 b([:,T7  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 T0g0jr{  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 :eSc;  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 TKK,Y{{  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 ]GcV0&|  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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