首页 -> 登录 -> 注册 -> 回复主题 -> 发表主题
光行天下 -> 光电资讯及信息发布 -> 线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海) [点此返回论坛查看本帖完整版本] [打印本页]

infotek 2023-10-11 11:59

线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

时间地点 ql!5m\  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 ZfFIX5Qd\  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 -vv   
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 BpQ;w,sefq  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 otWo^CE$  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
'`M#UuU  
特邀专家介绍 "?oo\op  
[attachment=121028] v?Z'[l  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 2k.S[?)  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 #W>x\  
课程概要 $Qn& jI38  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 gZw\*9Q9  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 _N>wzkJ  
课程大纲 [b7it2`dl  
1. Essential Macleod软件介绍 #t"9TP  
1.1 介绍软件 +}Kk2Kg8  
1.2 创建一个简单的设计 v;)BVv  
1.3 绘图和制表来表示性能 Mq+viU&   
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 RtW4 n:c  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) QT`fix{  
1.6 特定设计的公式技术 Bv;I0i:_  
1.7 交互式绘图 Q;XXgX#l  
2. 光学薄膜理论基础 S 3{Dn  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 '4af ],  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 3M}AxE u  
3. 材料管理 2B6^ ]pSk  
3.1 材料模型 /'-:=0a  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 Eem 2qKj  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 1k!D0f3qb  
3.4 基板光学常数的提取 rDpe_varA  
4. 光学薄膜设计优化方法 Zr\2BOcc.l  
4.1 参考波长与g 3cmbK  
4.2 四分之一规则 ^OHZ767v  
4.3 导纳与导纳图 V[#6yMU@  
4.4 斜入射光学导纳  Vil@?Y"  
4.5 光学薄膜设计的进展 EwTS!gL  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 cNdu.c[@  
4.6.1 优化目标设置 L=d$"Q  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) slu$2-H  
4.6.3 膜层锁定和链接 c eqFQ  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 cge-'/8w%  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估  =Ov9Kf  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 ^it4z gx@  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 'g. :MQ8  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 Bfbl#ZkyL  
5.5 如何在Function中编写脚本 .?A'6  
6. 光学薄膜系统案例 q A.+U:I8  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 gBMta+<fE~  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 jjxIS  
6.3 Stack应用范例说明 #o"tMh!f  
7. 薄膜性能分析 ]a8eDy  
7.1 电场分布 %rFP#L  
7.2 公差与灵敏度分析 D[V`^CTu  
7.3 反演工程 |p;4dL  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 <inl{CX/  
8. 真空技术 ! &Z*yH  
8.1 常用真空泵介绍 :RPVT,O}  
8.2 真空密封和检漏 ;F|jG}M"  
9. 薄膜制备技术 B<A:_'g  
9.1 常见薄膜制备技术 N[>:@h  
10. 薄膜制备工艺 yU> T8oFh  
10.1 薄膜制备工艺因素 i"/r)>"b  
10.2 薄膜均匀性修正技术 QT_Srw@  
10.3 光学薄膜监控技术 Xe)Pg)J1  
11. 激光薄膜 pH^ z  
11.1 薄膜的损伤问题 {>S4 #^@}  
11.2 激光薄膜的制备流程 #U\$@4D  
11.3 激光薄膜的制备技术 6 tX.(/+L  
12. 光学薄膜特性测量 $$42pb.  
12.1 薄膜光谱测量 7Ez}k}aR<  
12.2 薄膜光学常数测量 HP#ki!'  
12.3 薄膜应力测量 S 9WawI  
12.4 薄膜损伤测量 ;D:=XA%  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 o.v2z~V  
[attachment=121029]
sb'lZFSP~s  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系[attachment=121027]
Tu==49  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=121030]
E{<?l 7t  
内容简介 ^Wf S\M`  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。  j|ozGO  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 P?xA$_+  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 9w zwY[{  
[@g~  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
4AJ9`1d4  
目录 5H~@^!7t  
Preface 1 )4PB<[u  
内容简介 2 _<XgC\4O|  
目录 i "8FSA`>=  
1  引言 1 |l$ u<3  
2  光学薄膜基础 2 v C^>p5F  
2.1  一般规则 2 M' YJ"  
2.2  正交入射规则 3 n7@j}Q(&?  
2.3  斜入射规则 6 YjX*)Q_sl?  
2.4  精确计算 7 D6Dn&/>Zp  
2.5  相干性 8 u9BjgK(M  
2.6 参考文献 10 xwi!:PAf,o  
3  Essential Macleod的快速预览 10 pVY4q0@  
4  Essential Macleod的特点 32 f7ZA837Un  
4.1  容量和局限性 33 & wOE\TCL  
4.2  程序在哪里? 33 ,?I(/jI  
4.3  数据文件 35 hc"6u\>  
4.4  设计规则 35 Gj)uy jct  
4.5  材料数据库和资料库 37 \PzN XQ$  
4.5.1材料损失 38 W5 |j1He&  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 C]M7GHe1q  
4.5.2 材料库 41 *G\=i A  
4.5.3导出材料数据 43 zqY)dk  
4.6  常用单位 43 |g+!  
4.7  插值和外推法 46 Nvhy3  
4.8  材料数据的平滑 50 CPVmF$A-  
4.9 更多光学常数模型 54 `wf|uM  
4.10  文档的一般编辑规则 55 (V8?,G>  
4.11 撤销和重做 56 .5 ]{M\aA  
4.12  设计文档 57 x`#22"m  
4.10.1  公式 58 (ZS/@He  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 3hLqAj  
4.10.3  沉积密度 59 V +.Q0$~F5  
4.10.4 平行和楔形介质 60 ;sCU [4  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 sLZ>v  
4.10.4  性能 61 D@:"f?K>  
4.10.5  保存设计和性能 64 G8noQ_-  
4.10.6  默认设计 64 ZOC#i i`:  
4.11  图表 64 S{- f $Q*  
4.11.1  合并曲线图 67 .8:+MW/  
4.11.2  自适应绘制 68 d[S#Duz<&  
4.11.3  动态绘图 68 }DbE4"^K7  
4.11.4  3D绘图 69 k},>^qE  
4.12  导入和导出 73 _Yy:s2I8B  
4.12.1  剪贴板 73 xFU5\Zuw  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 !D7"=G}HD  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 TqAtcAurM  
4.13  背景 77 H@Q`  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 aTG[=)x L  
4.15  生成Rugate 84 SYeE) mI  
4.16  参考文献 91 ZJ9x6|q  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 lJUy;yp_+  
5.1  Jobs 92 Fav^^vf*1  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 z(rK^RT  
5.3  输入材料 94 >IBTBh_ka  
5.4  设计数据文件夹 95 F(;jM(  
5.5  默认设计 95 o(zTNk5d  
6  细化和合成 97 =&N$Vqn  
6.1  优化介绍 97 ydB$4ZB3[  
6.2  细化 (Refinement) 98 5N1}Ns  
6.3  合成 (Synthesis) 100 l=xt;c!  
6.4  目标和评价函数 101 *<xrp*O  
6.4.1  目标输入 102 Li]k7w?H  
6.4.2  目标 103 \q,s?`+B  
6.4.3  特殊的评价函数 104 4~Dax)  
6.5  层锁定和连接 104 -,|ha>r  
6.6  细化技术 104 $ o " L;j  
6.6.1  单纯形 105 HA1]M`&  
6.6.1.1 单纯形参数 106 L{<7.?{Y  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 QkL@JF]Re  
6.6.2.1 Optimac参数 108 <}]{~y  
6.6.3  模拟退火算法 109 S~> 5INud  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 GkciA{  
6.6.4  共轭梯度 111 |AC6sfA+  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 Dp`HeSKU^  
6.6.5  拟牛顿法 112 GQ[pG{ _+  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 K#wK1 Sv  
6.6.6  针合成 113 kN.B/itvA  
6.6.6.1 针合成参数 114 9ad6uTc  
6.6.7 差分进化 114 rH.gF43O:  
6.6.8非局部细化 115 !*_K.1'  
6.6.8.1非局部细化参数 115 <6R"h-u"  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 G5;V.#"Z[  
6.7.1  细化 116 *i@T!O(1)M  
6.7.2  合成 117 -bm,:Iy!  
6.8  参考文献 117 +sRP<as  
7  导纳图及其他工具 118 r :NH6tAL  
7.1  简介 118 l]) Q.m  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 kW +G1|  
7.2.1  四分之一波长规则 119 lLMPw}r<  
7.2.2  导纳图 120 /BKtw8  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 [@|be.g  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 Cg3ODfe  
7.5  斜入射导纳图 141 qv uxhzF  
7.6  对称周期 141 k}U JVH21k  
7.7  参考文献 142 )88nMH-  
8  典型的镀膜实例 143 \K}aQKB/j  
8.1  单层抗反射薄膜 145 SOj`Y|6^:  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 ) $#(ZL^m  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 b2s~%}T  
8.4  W-膜层 148 yl/a:Q  
8.5  V-膜层 149 "{ FoA3g|  
8.6  V-膜层高折射基底 150 PQ3h\CL1n  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 4.'JLArw  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 N~| t!G*9  
8.9  四层抗反射薄膜 153 \8>oJR 6  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 !F$R+A+L  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 )x[HuIRaa  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 J=9#mOcg"  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 T>F9Hs  W  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 0D~=SekQ 9  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 H(&Z:{L  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 0m&3?"5u  
8.17  1/4波长堆栈 162 !^L-T?y.2  
8.18  陷波滤波器 163 oCuV9dA.  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 8^vArS;  
8.20  褶皱 165 k!owl+a   
8.21  消偏振分光器1 169 v ): V  
8.22  消偏振分光器2 171 gt@SuX!@{^  
8.23  消偏振立体分光器 172 y 1nU{Sc@  
8.24  消偏振截止滤光片 173 /< QSe  
8.25  立体偏振分束器1 174 uLK(F B  
8.26  立方偏振分束器2 177 qd8pF!u|#  
8.27  相位延迟器 178 ?wCs&tM  
8.28  红外截止器 179 CjKRP;5  
8.29  21层长波带通滤波器 180 =<.F3lo\s  
8.30  49层长波带通滤波器 181 4U{m7[  
8.31  55层短波带通滤波器 182 ^Plc}W7h  
8.32  47 红外截止器 183 75AslL?t  
8.33  宽带通滤波器 184 [b;Uz|o  
8.34  诱导透射滤波器 186 JO}?.4B  
8.35  诱导透射滤波器2 188 tT-=hDw  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 enumK\  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 =:/>6 H1x  
8.35  增益平坦滤波器 193 hVf^  
8.38  啁啾反射镜 1 196 >qpqQ; bm  
8.39  啁啾反射镜2 198 s0lYj@E'  
8.40  啁啾反射镜3 199 |_nC6 ;  
8.41  带保护层的铝膜层 200 De]^&qw(  
8.42  增加铝反射率膜 201 WsB3SFNG  
8.43  参考文献 202 G=cNzr9  
9  多层膜 204 GA@ Ue9  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 ]3+``vL  
9.2  内部透过率 204 !g2a|g   
9.3 内部透射率数据 205 HfZtL  
9.4  实例 206 Abf1"#YImy  
9.5  实例2 210 h>W@U9  
9.6  圆锥和带宽计算 212 +* D4(  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 TvM24Orct  
10  光学薄膜的颜色 216 4E'|.tt(  
10.1  导言 216 @yKZRwg  
10.2  色彩 216 rKp1%S1  
10.3  主波长和纯度 220  2d~LNy  
10.4  色相和纯度 221 (: OHyeNt  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 )&z4_l8`=  
10.6 色差 226 N7pt:G2~%  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 tBv3~Of.  
10.8  颜色渲染指数 234 KIIym9%  
10.9  色差计算 235 Q S;F+cmTh  
10.10  参考文献 236 ytz8=\p_b  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 4>_d3_1sn  
11.1  短脉冲 238 /RqhykgZ  
11.2  群速度 239 =GTD"*vwr  
11.3  群速度色散 241 u-39r^`5  
11.4  啁啾(chirped) 245 ppFYc\&=  
11.5  光学薄膜—相变 245 :'Xr/| s  
11.6  群延迟和延迟色散 246 @'gl~J7  
11.7  色度色散 246 +c r  
11.8  色散补偿 249 p%8 v`  
11.9  空间光线偏移 256 !qaDn.9  
11.10  参考文献 258 $}4K`Iu  
12  公差与误差 260 `j:M)2:*y  
12.1  蒙特卡罗模型 260 ph#efY`a:  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 8 }z3CuM  
12.2.1  误差工具 267 lM+ xU;  
12.2.2  灵敏度工具 271 PY -+Bf  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 ~},~c:fF?  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 +f|6AeE  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 )-q\aX$])  
12.3  参考文献 276 OHhs y|W  
13  Runsheet 与Simulator 277 x< S\D&  
13.1  原理介绍 277 ,ey0:.!;  
13.2  截止滤光片设计 277 ~<eVl l=  
14  光学常数提取 289 6Hn)pD#U  
14.1  介绍 289 B-dlm8gX  
14.2  电介质薄膜 289 ]ViOr8u  
14.3  n 和k 的提取工具 295 >HIt}Zh  
14.4  基底的参数提取 302 }! =U^A)  
14.5  金属的参数提取 306 h ~fWE  
14.6  不正确的模型 306 jN{Zw*  
14.7  参考文献 311 +;6)  
15  反演工程 313 _NT[ ~M_Q  
15.1  随机性和系统性 313 3I\m,Ob  
15.2  常见的系统性问题 314 quRPg)  
15.3  单层膜 314 ^Xa*lR 3  
15.4  多层膜 314 $l#{_~ "m7  
15.5  含义 319 o$\tHzB9!A  
15.6  反演工程实例 319 V&R$8tpz  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 ~$*`cO  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 V4EM5 Z\k  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 eQ\jZ0s;p  
16.1  光学性质的热致偏移 329 ]<+3Vw  
16.2  应力工具 335 wI>h%y-%!  
16.3  均匀性误差 339 ?UJSxL  
16.3.1  圆锥工具 339 >|(%2Zl  
16.3.2  波前问题 341 zv@bI~3~  
16.4  参考文献 343 F"v:}Vy|   
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 p;e$kg1  
17.1  引言 345 (JU_8j!  
17.2  操作数 345 shNE~TA  
18  如何在Function中编写脚本 351 IhwN],-V  
18.1  简介 351 B5 &YL  
18.2  什么是脚本? 351 }+_9"YQ:  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 -_HRqw,Z0  
18.4  基础 352 :Dj#VN  
18.4.1  Classes(类别) 352 }U i_ynZ!  
18.4.2  对象 352 w#<p^CS  
18.4.3  信息(Messages) 352 ?CFoe$M  
18.4.4  属性 352 H@4/#V|Uy  
18.4.5  方法 353  -tMA  
18.4.6  变量声明 353 "]UIz_^'`U  
18.5  创建对象 354 DU`v J2  
18.5.1  创建对象函数 355 ZqFUPHc  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 R|-j]Ne  
18.5.3 丢弃对象 356 Pr2;Kp  
18.5.4  总结 356 ?y46o2b*)  
18.6  脚本中的表格 357 A9iQ{l  
18.6.1  方法1 357 T$ IUKR  
18.6.2  方法2 357 Mn{XVXY@qm  
18.7 2D Plots in Scripts 358 q^%5HeV 2  
18.8 3D Plots in Scripts 359 >HX)MwAP  
18.9  注释 360 La]4/=a  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 fQ1 0O(`g,  
18.11  一个更高级的脚本 362 x*J|i4  
18.12  <esc>键 364 9GE]<v,_[  
18.13 包含文件 365 pW7kj&a_.  
18.14  脚本被优化调用 366 99EX8  
18.15  脚本中的对话框 368 /0l-mfRr  
18.15.1  介绍 368 ?l>e75V%w  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 .5N Zf4:C  
18.15.3  输入框函数 370 9j2\y=<&  
18.15.4  自定义对话框 371 Bqp&2zg)@  
18.15.5  对话框编辑器 371 `;e^2  
18.15.6  控制对话框 377 Q<C@KBiVE  
18.15.7  更高级的对话框 380 MorW\7-}  
18.16 Types语句 384 "d2LyQy  
18.17 打开文件 385 mgxz1d  
18.18 Bags 387 "!^c  
18.13  进一步研究 388 =<TO"  
19  vStack 389 ,;c{9H  
19.1  vStack基本原理 389 (c<f<D|  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 T*8_FR<  
19.3  五棱镜 393 "s${!A)  
19.4 光束距离 396 M",];h(I6(  
19.5 误差 399 l=,.iv=W  
19.6  二向分色棱镜 399 ;}f6Y['z  
19.7  偏振泄漏 404 O8iu+}]/6  
19.8  波前误差—相位 405 !}y8S'Yjw  
19.9  其它计算参数 405 uV!MW=)  
20  报表生成器 406 O4n8MM|`  
20.1  入门 406 #c :9 V2  
20.2  指令(Instructions) 406 NPP3 (3C  
20.3  页面布局指令 406 FRc  |D  
20.4  常见的参数图和三维图 407 9Y\F53p&j  
20.5  表格中的常见参数 408 ??q!jm-m  
20.6  迭代指令 408 `9:v*KuM#R  
20.7  报表模版 408 '8L(f w{k  
20.8  开始设计一个报表模版 409 f x%z| K  
21  一个新的project 413 1O|RIv7F[/  
21.1  创建一个新Job 414 |HNQ|r_5S  
21.2  默认设计 415 [GOX0}$?  
21.3  薄膜设计 416 Gi;9 S  
21.4  误差的灵敏度计算 420 e W9)@nVJ  
21.5  显色指数计算 422 Q.*'H_Y  
21.6  电场分布 424 2Qw )-EB  
后记 426 Z"4VH rA  
xu`d`!Tx  
K90D1sD  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 1k*n1t):  
</8be=e7p  
《Essential Macleod中文手册》
[attachment=121031]
5f/@: ~  
[f /v LLK  
目  录 4RlnnXY  
sb8z_3   
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 |dW2dQ  
第1章 介绍 ..........................................................1 u!m,ilAnd  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 ?G2qlna  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 9@kc K  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 *;>V2!N=U  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 ;GiI'M  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 |2WxcW]U.%  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 k];L!Fj1  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 ~+7ad$   
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 YK(XS"Kl  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 #rqyy0k0'h  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 C]aOgt/U  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 !pG+Ak?  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 tn(f rccy  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 ,?P8m"  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 L3-<Kop  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 %V@Rk.<  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 2<p5_4"-U*  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 e);bF>.~  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 B:.;,@r]  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 0+$hkd n  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 ~e,f)?  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 oHYD_8'f  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 -wPuml!hZ|  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 FKDamHL<  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 ~}hba3&b;#  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 AAeQ-nbP  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 $8<j5%/ $M  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 qk"oFP6  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
查看本帖完整版本: [-- 线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海) --] [-- top --]

Copyright © 2005-2025 光行天下 蜀ICP备06003254号-1 网站统计