首页 -> 登录 -> 注册 -> 回复主题 -> 发表主题
光行天下 -> 光电资讯及信息发布 -> 线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海) [点此返回论坛查看本帖完整版本] [打印本页]

infotek 2023-10-11 11:59

线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

时间地点 /u)Rppu  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 ^%8qKC`Tt  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 ck+b/.gw`  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 NaA+/:  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 h/Hl?O8[  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
h.V]fS  
特邀专家介绍 ADGnBYE  
[attachment=121028] =dM.7$6) R  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 D#7_T KX  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 &$c5~9p\B  
课程概要 h}|6VJ@.  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 -2\ZzK0tM  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 L}W1*L$;<  
课程大纲 ^Cg^ `n?@b  
1. Essential Macleod软件介绍 B:-U`CHHQ  
1.1 介绍软件 \2Og>{"U  
1.2 创建一个简单的设计 fpvvV(  
1.3 绘图和制表来表示性能 Y}LLOj@L  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 @Y UY9+D&  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) .G}k/`a  
1.6 特定设计的公式技术 dC` tN5  
1.7 交互式绘图 UP;Q=t  
2. 光学薄膜理论基础 WRD A `  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 +2DE/wE]e+  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 gF[6c`-s  
3. 材料管理 MBB5wj  
3.1 材料模型 py{eX`(MS  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 u 1ZJHry  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 > z=Ou<,  
3.4 基板光学常数的提取 /vjGjb=3U  
4. 光学薄膜设计优化方法 TZ_rsj/t  
4.1 参考波长与g YwL`>?  
4.2 四分之一规则 (=1q!c`  
4.3 导纳与导纳图 53 @oP  
4.4 斜入射光学导纳 (kIz  
4.5 光学薄膜设计的进展 dhHEE|vrz  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 -Z%F mv8  
4.6.1 优化目标设置 |gnAqkW0  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) RF_[?O)Q  
4.6.3 膜层锁定和链接 HU &)  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 _>Pk8~m  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 x;]x_f z  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 fVe@YqNa  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 5W+{U8\  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 ^m*3&x8  
5.5 如何在Function中编写脚本 _(C^[:s  
6. 光学薄膜系统案例 ITyzs4"VV  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 XHxz @_rw  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 v f`9*xF  
6.3 Stack应用范例说明 naz:A  
7. 薄膜性能分析 &=6%>  
7.1 电场分布 bV@7mmz:X+  
7.2 公差与灵敏度分析 eC~ jgB  
7.3 反演工程 W57&\PXYn  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 |;P^clS3  
8. 真空技术 q IM  
8.1 常用真空泵介绍 FV A UR  
8.2 真空密封和检漏 _J,xT  
9. 薄膜制备技术 1otspOy  
9.1 常见薄膜制备技术 A 4j<\xL  
10. 薄膜制备工艺 R"*R99  
10.1 薄膜制备工艺因素 -vV'Lw(  
10.2 薄膜均匀性修正技术 OX+hZ<y  
10.3 光学薄膜监控技术 GR%{T'ZD`  
11. 激光薄膜 dK.R[ aQ  
11.1 薄膜的损伤问题 EX:{EmaT  
11.2 激光薄膜的制备流程 {I{3(M#"  
11.3 激光薄膜的制备技术 #{x5L^v>]  
12. 光学薄膜特性测量 3 >|uF  
12.1 薄膜光谱测量 vM`7s[oAK  
12.2 薄膜光学常数测量 >AG^fUArH  
12.3 薄膜应力测量 Wr5Q5s)c  
12.4 薄膜损伤测量 @EHIp{0.  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 Z:@6Lv?CN  
[attachment=121029]
K\P!a@>1  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系[attachment=121027]
D`VFf\7  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=121030]
mc ZGg;3  
内容简介 /b#q*x-b  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 VD$ Eb  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 Vl<9=f7[  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 RN[]Jt#6  
.x}gg\  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
QU/fT_ORw  
目录 )TU<:V  
Preface 1 q[ ULG v  
内容简介 2 \iru7'S  
目录 i s<vs:jna  
1  引言 1 Ma6W@S  
2  光学薄膜基础 2 kUa)smh  
2.1  一般规则 2 9tK>gwb  
2.2  正交入射规则 3 rbyY8 bX  
2.3  斜入射规则 6 #Qh>z%Mn^3  
2.4  精确计算 7 :.uk$jx  
2.5  相干性 8 yNa;\UF  
2.6 参考文献 10 LjaGyj>)  
3  Essential Macleod的快速预览 10 /0lC KU!=  
4  Essential Macleod的特点 32 )(m0cP{7  
4.1  容量和局限性 33 {.CMD9F[  
4.2  程序在哪里? 33 -(#-I $z  
4.3  数据文件 35 :#u}.G  
4.4  设计规则 35 .Evy_o\^  
4.5  材料数据库和资料库 37 5~+XZA#2  
4.5.1材料损失 38 xWE8W m  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 *1^$.Q&  
4.5.2 材料库 41 %8mm Hh  
4.5.3导出材料数据 43 s-rfS7;  
4.6  常用单位 43 r:&|vP  
4.7  插值和外推法 46 ONX8}Ob~  
4.8  材料数据的平滑 50 *Zbuq8>  
4.9 更多光学常数模型 54 CQ^3v09N;~  
4.10  文档的一般编辑规则 55 s_ bR]G  
4.11 撤销和重做 56 ,9of(T(~  
4.12  设计文档 57 qZk:mlYd  
4.10.1  公式 58 mfom=-q3k  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 :%X Ls,  
4.10.3  沉积密度 59 n~g LPHY  
4.10.4 平行和楔形介质 60 s8<gK.atl  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 w%a8XnW]1  
4.10.4  性能 61 '6-$Xq0^E  
4.10.5  保存设计和性能 64 }Hcx=}j  
4.10.6  默认设计 64 vF4]ux&  
4.11  图表 64 v]"L]/"  
4.11.1  合并曲线图 67 k<j"~S1  
4.11.2  自适应绘制 68 cpZc9;@IC  
4.11.3  动态绘图 68 7J*N_8?2  
4.11.4  3D绘图 69 DWiBG  
4.12  导入和导出 73 F{m{d?:OA  
4.12.1  剪贴板 73 h<6UC%'ac  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 SJ?)%[(T  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 "Fnq>iR-  
4.13  背景 77 }-DE`c  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 @;Opx."  
4.15  生成Rugate 84 Y[ zZw~yx  
4.16  参考文献 91 {i [y9  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 \7v)iG|#G&  
5.1  Jobs 92 o[\HOe~;  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 s9)8b$t]  
5.3  输入材料 94 S* R,FKg  
5.4  设计数据文件夹 95 -db75=  
5.5  默认设计 95 kkCZNQ~I  
6  细化和合成 97 jd-glE,Y/  
6.1  优化介绍 97 {+.r5py  
6.2  细化 (Refinement) 98 S:bC[}  
6.3  合成 (Synthesis) 100 :t("L-GPW  
6.4  目标和评价函数 101 ,'fxIO  
6.4.1  目标输入 102 K^l:MxO-X  
6.4.2  目标 103 /t%u"dP"T~  
6.4.3  特殊的评价函数 104 iw9Q18:I}  
6.5  层锁定和连接 104 ^jE8+h  
6.6  细化技术 104 ;#/@+4@a&  
6.6.1  单纯形 105 tY|8s]{2  
6.6.1.1 单纯形参数 106 GW^,g@%C  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 DKL@wr}8  
6.6.2.1 Optimac参数 108 YB(Gk;]  
6.6.3  模拟退火算法 109 J^#:qk  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 vGy8Qu>  
6.6.4  共轭梯度 111 L1{GL #qV  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 z+{,WHjo  
6.6.5  拟牛顿法 112 <Zb/  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 !YL. .fb  
6.6.6  针合成 113 (!L5-8O  
6.6.6.1 针合成参数 114 NpP')m!`}  
6.6.7 差分进化 114 yay<GP?  
6.6.8非局部细化 115 \nNXxTxX!  
6.6.8.1非局部细化参数 115 feM6K!fL`  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 g|X;ahTT  
6.7.1  细化 116 21X`h3+=  
6.7.2  合成 117 {Ro2ouQ!V  
6.8  参考文献 117 dUrElXbXd  
7  导纳图及其他工具 118 uN*KHE+h  
7.1  简介 118 9pn>-1NJ  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 f|7\DeY9U  
7.2.1  四分之一波长规则 119 e}Vw!w  
7.2.2  导纳图 120  uF|3/x=  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 p{A}pnjf  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 ,_.I\EY[  
7.5  斜入射导纳图 141 nQX+pkJ  
7.6  对称周期 141 zET^T5>:  
7.7  参考文献 142 {P%9  
8  典型的镀膜实例 143 HAzBy\M{  
8.1  单层抗反射薄膜 145 K7knK  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 f"G-  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 7,qYV}  
8.4  W-膜层 148 +j_ ;(Gw7  
8.5  V-膜层 149 ^FmU_Q0  
8.6  V-膜层高折射基底 150 gN8hJG'0  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 {Bs~lC$  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 h0--B]f@  
8.9  四层抗反射薄膜 153 jd]s<C3o  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 Pt:e!qX)  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 }U~6^2 .,  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 ,_aM`%q?Fj  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 <#=N m0S$  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 u-D dq~;|  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 XgN` 7!Z  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 :K`ESq!8u  
8.17  1/4波长堆栈 162 O4\Z!R60g  
8.18  陷波滤波器 163 K5ZC:Ks  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 6fH@wQ"wN  
8.20  褶皱 165 z?/1Kj}xG  
8.21  消偏振分光器1 169 _R'Fco  
8.22  消偏振分光器2 171 00I}o%akO  
8.23  消偏振立体分光器 172 Va,<3z%O<  
8.24  消偏振截止滤光片 173 j Uv!9Y}F  
8.25  立体偏振分束器1 174 =L%DX#8  
8.26  立方偏振分束器2 177 [${ QzO  
8.27  相位延迟器 178 Nk=JBIsKv  
8.28  红外截止器 179 @2pu^k^  
8.29  21层长波带通滤波器 180 <DKS+R  
8.30  49层长波带通滤波器 181 9CA^B2u  
8.31  55层短波带通滤波器 182 IEKU-k7}Z  
8.32  47 红外截止器 183 >_rha~   
8.33  宽带通滤波器 184 D']ZlB 'K  
8.34  诱导透射滤波器 186 UNijFGi  
8.35  诱导透射滤波器2 188 GRb*EeT  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 d(vsE%/!  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 pi=-#g(2  
8.35  增益平坦滤波器 193 l Z#o+d2Y  
8.38  啁啾反射镜 1 196 \!(  
8.39  啁啾反射镜2 198 E$W{8?:{  
8.40  啁啾反射镜3 199 +iRq8aS_  
8.41  带保护层的铝膜层 200 QM3,'?ekRH  
8.42  增加铝反射率膜 201 1(|D'y#  
8.43  参考文献 202 ,yd MU\so(  
9  多层膜 204 mNmLyU=d  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 D:k 3" E"S  
9.2  内部透过率 204 ,Jcm+ Wb  
9.3 内部透射率数据 205 m(], r})  
9.4  实例 206  `:P  
9.5  实例2 210 obdFS,JxxG  
9.6  圆锥和带宽计算 212 ~m|Mg9-  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 u0P)7~%  
10  光学薄膜的颜色 216 u6`=x$&  
10.1  导言 216 GN KF&M  
10.2  色彩 216 "ZTTg>r  
10.3  主波长和纯度 220 .(pN5JI*  
10.4  色相和纯度 221 y5Tlpi`g  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 +?p.?I  
10.6 色差 226 [((;+B  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 8$(Dz]v|[&  
10.8  颜色渲染指数 234 {]"]uT#  
10.9  色差计算 235 ,J`'Y+7W  
10.10  参考文献 236 |_omr&[_  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 \~LQ%OM  
11.1  短脉冲 238 RI68%ZoL  
11.2  群速度 239 Vi4~`;|&b+  
11.3  群速度色散 241 ?"z]A7<Hj  
11.4  啁啾(chirped) 245 B||;'  
11.5  光学薄膜—相变 245 c/_ +o;Bc  
11.6  群延迟和延迟色散 246 5 H#W[^s"  
11.7  色度色散 246 l>Ub!^;  
11.8  色散补偿 249 k`GA\&zt  
11.9  空间光线偏移 256 3!5Ur&  
11.10  参考文献 258 E*#]**  
12  公差与误差 260 #Rg|BfV-  
12.1  蒙特卡罗模型 260 w.& 1%X(k  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 nFe%vu8a  
12.2.1  误差工具 267 WM)-J^)BJ  
12.2.2  灵敏度工具 271 <C9 XX~  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 >vuY+o;B  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 ljK rj  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 b)9'bJRvU  
12.3  参考文献 276 )5|I_PXB  
13  Runsheet 与Simulator 277 rQ=,y>-*  
13.1  原理介绍 277 *>VVt8*Et  
13.2  截止滤光片设计 277 w '3#&k+  
14  光学常数提取 289 xoOJauSX1  
14.1  介绍 289 V138d?Mm  
14.2  电介质薄膜 289 iS5W>1]  
14.3  n 和k 的提取工具 295 u*qV[y5Bl  
14.4  基底的参数提取 302 7Sz?S_N/j  
14.5  金属的参数提取 306 *6 _tQ9G  
14.6  不正确的模型 306 J)mh u}  
14.7  参考文献 311 \6;=$f/?t  
15  反演工程 313 K-&V,MI  
15.1  随机性和系统性 313 J[^}u_z  
15.2  常见的系统性问题 314 I |# 5NE6  
15.3  单层膜 314 B75k^ohfj  
15.4  多层膜 314 Jv.U Q  
15.5  含义 319 gIA@l `"  
15.6  反演工程实例 319 0(_l|PScF  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 v=('{/^~>  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 m^x6>9,  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 3_q3Bk  
16.1  光学性质的热致偏移 329 CR2_;x:0  
16.2  应力工具 335 .(Qx{r$  
16.3  均匀性误差 339 6i0A9SN  
16.3.1  圆锥工具 339 k1VT /u  
16.3.2  波前问题 341 >AJSqgHQ,  
16.4  参考文献 343 #$3yz'"QF  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 f<A5?eKw  
17.1  引言 345 udeoW-_  
17.2  操作数 345 nNXgW  
18  如何在Function中编写脚本 351 mqq;H}  
18.1  简介 351 h5yzwj:C?  
18.2  什么是脚本? 351 /*|oL# hK  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 Kt0(gQOr0  
18.4  基础 352 ]jpu,jz:  
18.4.1  Classes(类别) 352 wp7!>% s{  
18.4.2  对象 352 MQKfJru7  
18.4.3  信息(Messages) 352 t#!yrQ..'G  
18.4.4  属性 352 _{jjgQJ5  
18.4.5  方法 353 0|; .6\  
18.4.6  变量声明 353 3OM2Y_  
18.5  创建对象 354 l|5fE1K9U  
18.5.1  创建对象函数 355 L],f3<  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 Q]o C47(  
18.5.3 丢弃对象 356 WL{(Ob  
18.5.4  总结 356 ZIdA\_c  
18.6  脚本中的表格 357 hVUP4 A  
18.6.1  方法1 357 cwV]!=RtO  
18.6.2  方法2 357 BPr ^D0P  
18.7 2D Plots in Scripts 358 kF>o.uSV  
18.8 3D Plots in Scripts 359 3Tq\BZ  
18.9  注释 360 P9T5L<5  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 !a$ D4(`v  
18.11  一个更高级的脚本 362 ^T~gEv  
18.12  <esc>键 364 Pl-5ncb\  
18.13 包含文件 365 9_sA&2P{uV  
18.14  脚本被优化调用 366 >&!RWH9*q  
18.15  脚本中的对话框 368 #Km:}=  
18.15.1  介绍 368 {,OS-g  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 Cye$H9 2  
18.15.3  输入框函数 370 L,; D@Xi  
18.15.4  自定义对话框 371 H:H6b  
18.15.5  对话框编辑器 371 ;+1RU v  
18.15.6  控制对话框 377 ^*~;k|;&  
18.15.7  更高级的对话框 380 M,}|tsL  
18.16 Types语句 384 ps$7bN C  
18.17 打开文件 385 fIGFHZy,  
18.18 Bags 387 g/CxXSv@0  
18.13  进一步研究 388 @E.k/G!~Nb  
19  vStack 389 ! Q<>3 xZ  
19.1  vStack基本原理 389 c%*($)#  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 LI)!4(WH  
19.3  五棱镜 393 w:' dhr':  
19.4 光束距离 396 j PnM>=  
19.5 误差 399 'B0{U4?   
19.6  二向分色棱镜 399 ,<DB&&EV8  
19.7  偏振泄漏 404  '8j$';&`  
19.8  波前误差—相位 405 wW?,;B'74  
19.9  其它计算参数 405 .Wi{lt  
20  报表生成器 406 `pd&se'p  
20.1  入门 406 fIF<g@s  
20.2  指令(Instructions) 406 e4FM} z[  
20.3  页面布局指令 406 `]Bxn) b(  
20.4  常见的参数图和三维图 407 Il.Ed-&62  
20.5  表格中的常见参数 408 {K#NB_*To  
20.6  迭代指令 408 :R):b  
20.7  报表模版 408 7j7e61 Ax  
20.8  开始设计一个报表模版 409 ``ekR6[8c  
21  一个新的project 413 kX:tc   
21.1  创建一个新Job 414 ;O  0+,  
21.2  默认设计 415 aAu>Tn86D.  
21.3  薄膜设计 416 ":3 VJ(eY  
21.4  误差的灵敏度计算 420 D\ /xu-&  
21.5  显色指数计算 422 ZtVAEIZ)  
21.6  电场分布 424 z'p:gv]  
后记 426 (wmBjQ]B<  
(J"T]-[  
P\CDd=yWc  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 9t@:4O  
^7]"kg DA  
《Essential Macleod中文手册》
[attachment=121031]
~8|t*@D  
z=&z_}M8  
目  录 #<( = }?  
iA_8(Yo  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 -oz`"&%  
第1章 介绍 ..........................................................1 e7u^mJ  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 +D#Zn!P  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 vhr+g 'tf  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 mYB`)M*Y  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 E99CmG|"  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 6pE :A@  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 =G~~?>=@2  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 Q-rL$%~='  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 BcA31%  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 K7I&sS^x  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 &$`hQgi  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 ?B.~ AUN  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 x}$e}8|8YL  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 o-7>eE}+  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 h06ku2Q  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 6)]f6p&e  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 >95TvJ  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 2}}?'PwwT  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 1-I Swd'u  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 7=4A;Ybq  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 9+YD!y  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 ~#:e*:ro  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 jn9 ShF  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 [AEBF2OIv  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 RK9>dkW  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 I.}1JJF*   
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 z}}]jR \y?  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 g( 0;[#@  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
查看本帖完整版本: [-- 线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海) --] [-- top --]

Copyright © 2005-2026 光行天下 蜀ICP备06003254号-1 网站统计