线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)
时间地点 /u)Rppu
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 ^%8qKC`Tt 授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天 AM 9:00-PM 16:00 ck+b/.gw` 授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 NaA+/: 课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 h/Hl?O8[ 课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金) h.V]f S 特邀专家介绍 ADGnBYE [attachment=121028] =dM.7$6) R 易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 D#7_TKX 获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 &$c5~9p\B 课程概要 h}|6VJ@. 随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 -2\ZzK0tM 本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 L}W1*L$;< 课程大纲 ^Cg^`n?@b 1. Essential Macleod软件介绍 B:-U`CHHQ 1.1 介绍软件 \2Og>{"U 1.2 创建一个简单的设计 fpvvV( 1.3 绘图和制表来表示性能 Y}LLOj@L 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 @Y
UY9+D& 1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) .G}k/`a 1.6 特定设计的公式技术 dC`tN5 1.7 交互式绘图 UP;Q= t 2. 光学薄膜理论基础 WRD
A ` 2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 +2DE/wE]e+ 2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 gF[6c`-s 3. 材料管理 MBB5wj 3.1 材料模型 py{eX`(MS 3.2 介质薄膜光学常数的提取 u 1ZJHry 3.3 金属薄膜光学常数的提取 >z=Ou<, 3.4 基板光学常数的提取 /vjGjb=3U 4. 光学薄膜设计优化方法 TZ_rsj/t 4.1 参考波长与g YwL`>? 4.2 四分之一规则 (=1q!c`
4.3 导纳与导纳图 53
@oP 4.4 斜入射光学导纳 (kIz 4.5 光学薄膜设计的进展 dhHEE|vrz 4.6 Macleod软件的设计与优化功能 -Z%F mv8 4.6.1 优化目标设置 |gnAqkW0 4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) RF_[?O)Q 4.6.3 膜层锁定和链接 HU &) 5. Essential Macleod中各个模块的应用 _>Pk8~m 5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 x;]x_fz 5.2 光通信用窄带滤光片模拟 fVe@YqNa 5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 5W+{U8\ 5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 ^m*3&x8 5.5 如何在Function中编写脚本 _(C^[ :s 6. 光学薄膜系统案例 ITyzs4"VV 6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 XHxz @_rw 6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 v f`9*x F 6.3 Stack应用范例说明 naz:A 7. 薄膜性能分析 &=6%> 7.1 电场分布 bV@7mmz:X+ 7.2 公差与灵敏度分析 eC ~jgB 7.3 反演工程 W57&\PXYn 7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 |;P^clS3 8. 真空技术 q
IM 8.1 常用真空泵介绍 FV
A
UR 8.2 真空密封和检漏 _J,xT 9. 薄膜制备技术 1otspOy 9.1 常见薄膜制备技术 A 4j<\xL 10. 薄膜制备工艺 R"*R99 10.1 薄膜制备工艺因素 -vV'Lw( 10.2 薄膜均匀性修正技术 OX+hZ<y 10.3 光学薄膜监控技术 GR%{T'ZD` 11. 激光薄膜 dK.R[aQ 11.1 薄膜的损伤问题
EX:{EmaT 11.2 激光薄膜的制备流程 {I{3 (M#" 11.3 激光薄膜的制备技术 #{x5L^v>] 12. 光学薄膜特性测量 3 > |uF 12.1 薄膜光谱测量 vM`7s[oAK 12.2 薄膜光学常数测量 >AG^fUArH 12.3 薄膜应力测量 Wr5 Q5s)c 12.4 薄膜损伤测量 @EHIp{0. 12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 Z:@6Lv?CN
[attachment=121029] K\P!a@>1
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书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) [attachment=121030] mc
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内容简介 /b#q*x-b Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 VD$Eb 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 Vl<9=f7[ 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 RN[]Jt#6 .x}gg\
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 QU/fT_ORw 目录 )TU<:V Preface 1 q[ULGv 内容简介 2 \iru7'S 目录 i s<vs:jna 1 引言 1 Ma6W@S 2 光学薄膜基础 2 kUa)smh 2.1 一般规则 2 9t K>gwb 2.2 正交入射规则 3 rbyY8
bX 2.3 斜入射规则 6 #Qh>z%Mn^3 2.4 精确计算 7 :.uk$jx 2.5 相干性 8 yNa;\UF 2.6 参考文献 10 LjaGyj>) 3 Essential Macleod的快速预览 10 /0lC KU!= 4 Essential Macleod的特点 32 )(m0cP{7 4.1 容量和局限性 33 {.CMD9F[ 4.2 程序在哪里? 33 -(#-I$z 4.3 数据文件 35 :#u}.G 4.4 设计规则 35 .Evy_o\^ 4.5 材料数据库和资料库 37 5~+XZA#2 4.5.1材料损失 38 xWE8Wm 4.5.1材料数据库和导入材料 39 *1^$.Q& 4.5.2 材料库 41 %8mm Hh 4.5.3导出材料数据 43 s-rfS7; 4.6 常用单位 43 r:&|vP 4.7 插值和外推法 46 ONX8}Ob~ 4.8 材料数据的平滑 50 *Zbuq8> 4.9 更多光学常数模型 54 CQ^3v09N;~ 4.10 文档的一般编辑规则 55 s_ bR]G 4.11 撤销和重做 56 ,9of(T(~ 4.12 设计文档 57 qZk:mlYd 4.10.1 公式 58 mfom=-q3k 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 :%X Ls, 4.10.3 沉积密度 59 n~g LPHY 4.10.4 平行和楔形介质 60 s8<gK.atl 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 w%a8XnW]1 4.10.4 性能 61 '6-$Xq0^E 4.10.5 保存设计和性能 64 }Hcx=}j 4.10.6 默认设计 64 vF4]ux&
4.11 图表 64 v]"L]/" 4.11.1 合并曲线图 67 k< j"~S1 4.11.2 自适应绘制 68 cpZc9;@IC 4.11.3 动态绘图 68 7J*N_8?2 4.11.4 3D绘图 69 D WiBG 4.12 导入和导出 73 F{m{d?:OA 4.12.1 剪贴板 73 h<6UC%'ac 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 SJ?)%[(T 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 "Fnq>iR- 4.13 背景 77 }-DE`c 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 @;Opx." 4.15 生成Rugate 84 Y[
zZw~yx 4.16 参考文献 91 {i [y9 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 \7v)iG|#G& 5.1 Jobs 92 o[\HOe~; 5.2 创建一个新Job(工作) 93 s9)8b$t] 5.3 输入材料 94 S*
R,FKg 5.4 设计数据文件夹 95 -db75= 5.5 默认设计 95 kkCZNQ~I 6 细化和合成 97 jd-glE,Y/ 6.1 优化介绍 97 {+.r5py 6.2 细化 (Refinement) 98 S :bC[} 6.3 合成 (Synthesis) 100 :t("L-GPW 6.4 目标和评价函数 101 ,'fxIO 6.4.1 目标输入 102 K^l:MxO-X 6.4.2 目标 103 /t%u"dP"T~ 6.4.3 特殊的评价函数 104 iw9Q18:I} 6.5 层锁定和连接 104 ^jE8+h 6.6 细化技术 104 ;#/@+4@a& 6.6.1 单纯形 105 tY|8s]{2 6.6.1.1 单纯形参数 106 GW^,g@%C 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 DKL@wr}8 6.6.2.1 Optimac参数 108 YB( Gk;] 6.6.3 模拟退火算法 109 J^#:qk 6.6.3.1 模拟退火参数 109 v Gy8Qu> 6.6.4 共轭梯度 111 L1{GL #qV 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 z+{,WHjo 6.6.5 拟牛顿法 112 <Zb/ 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
!YL..fb 6.6.6 针合成 113 (!L5-8O 6.6.6.1 针合成参数 114 NpP')m!`} 6.6.7 差分进化 114 yay<GP? 6.6.8非局部细化 115 \nNXxTxX! 6.6.8.1非局部细化参数 115 feM6K!fL` 6.7 我应该使用哪种技术? 116 g|X ;ahTT 6.7.1 细化 116 21X`h3+= 6.7.2 合成 117 {Ro2ouQ!V 6.8 参考文献 117 dUrElXbXd 7 导纳图及其他工具 118 uN*KHE+h 7.1 简介 118 9pn>-1NJ 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 f|7\DeY9U 7.2.1 四分之一波长规则 119 e}Vw!w 7.2.2 导纳图 120
uF|3/x= 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 p{A}pnjf 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 ,_.I\EY[ 7.5 斜入射导纳图 141 nQX+pkJ 7.6 对称周期 141 zE T^T5>: 7.7 参考文献 142 {P%9 8 典型的镀膜实例 143 HAz By\M{ 8.1 单层抗反射薄膜 145 K7knK 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 f"G- 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 7,qYV} 8.4 W-膜层 148 +j_;(Gw7 8.5 V-膜层 149 ^FmU_Q0 8.6 V-膜层高折射基底 150 gN8hJG'0 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 {Bs~lC$ 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 h0--B]f@ 8.9 四层抗反射薄膜 153 jd]s<C3o 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 Pt:e!qX) 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 }U ~6^2 ., 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 ,_aM`%q?Fj 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 <#=N
m0S$ 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 u-Ddq~;| 8.15十五层宽带抗反射膜 159 XgN` 7!Z 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 :K`ESq!8u 8.17 1/4波长堆栈 162 O4\Z!R60g 8.18 陷波滤波器 163 K5ZC:Ks 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 6fH@wQ"wN 8.20 褶皱 165 z?/1Kj}xG 8.21 消偏振分光器1 169 _R'Fco 8.22 消偏振分光器2 171 00I}o%akO 8.23 消偏振立体分光器 172 Va,<3z%O< 8.24 消偏振截止滤光片 173 jUv!9Y}F 8.25 立体偏振分束器1 174 =L%DX#8 8.26 立方偏振分束器2 177 [${
QzO 8.27 相位延迟器 178 Nk=JBIsKv 8.28 红外截止器 179 @2pu^k^ 8.29 21层长波带通滤波器 180 <DKS+R 8.30 49层长波带通滤波器 181 9CA^B2u 8.31 55层短波带通滤波器 182 IEKU-k7}Z 8.32 47 红外截止器 183 >_rha~ 8.33 宽带通滤波器 184 D']ZlB'K 8.34 诱导透射滤波器 186 UNijFGi 8.35 诱导透射滤波器2 188 GRb*EeT 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 d(vsE%/! 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 pi=-#g(2 8.35 增益平坦滤波器 193 l Z#o+d2Y 8.38 啁啾反射镜 1 196 \!( 8.39 啁啾反射镜2 198 E$W{8?:{ 8.40 啁啾反射镜3 199 +iRq8aS_
8.41 带保护层的铝膜层 200 QM3,'?ekRH 8.42 增加铝反射率膜 201 1(|D'y# 8.43 参考文献 202 ,yd
MU\so( 9 多层膜 204 mNmLyU=d 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 D:k3"
E"S 9.2 内部透过率 204 ,Jc m+Wb 9.3 内部透射率数据 205 m(], r}) 9.4 实例 206 `:P
9.5 实例2 210 obdFS,JxxG 9.6 圆锥和带宽计算 212 ~m|Mg9- 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 u0P)7~% 10 光学薄膜的颜色 216 u6`=x$& 10.1 导言 216 GN KF&M 10.2 色彩 216 "ZTTg>r 10.3 主波长和纯度 220 .(pN5JI* 10.4 色相和纯度 221 y5Tlpi`g 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 +?p.?I 10.6 色差 226 [((;+B 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 8$(Dz]v|[& 10.8 颜色渲染指数 234 {]"]uT# 10.9 色差计算 235 ,J`'Y+7W 10.10 参考文献 236 |_omr&[_ 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 \~LQ%OM 11.1 短脉冲 238 RI68%ZoL 11.2 群速度 239 Vi4~`;|&b+ 11.3 群速度色散 241 ?"z]A7<Hj 11.4 啁啾(chirped) 245 B||;' 11.5 光学薄膜—相变 245 c/_+o;Bc 11.6 群延迟和延迟色散 246 5 H#W[^s" 11.7 色度色散 246 l>Ub!^; 11.8 色散补偿 249 k`GA\&zt 11.9 空间光线偏移 256 3!5Ur& 11.10 参考文献 258 E*# ]** 12 公差与误差 260 #Rg|BfV- 12.1 蒙特卡罗模型 260 w.&1%X(k 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 nFe%vu8a 12.2.1 误差工具 267 WM)-J^)BJ 12.2.2 灵敏度工具 271 <C9 XX~ 12.2.2.1 独立灵敏度 271 >vuY+o;B 12.2.2.2 灵敏度分布 275 ljKrj 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 b)9'bJRvU 12.3 参考文献 276 )5|I_PXB 13 Runsheet 与Simulator 277 rQ=,y>-* 13.1 原理介绍 277 *>VVt8*Et 13.2 截止滤光片设计 277 w
'3#&k+ 14 光学常数提取 289 xoOJauSX1 14.1 介绍 289 V138d?Mm 14.2 电介质薄膜 289 iS5W>1] 14.3 n 和k 的提取工具 295 u*qV[y5Bl 14.4 基底的参数提取 302 7Sz?S_N/j 14.5 金属的参数提取 306 *6 _tQ9G 14.6 不正确的模型 306 J)mhu} 14.7 参考文献 311 \6;=$f/?t 15 反演工程 313 K-&V,MI 15.1 随机性和系统性 313 J[^}u_z 15.2 常见的系统性问题 314 I|# 5NE6 15.3 单层膜 314 B75k^ohfj 15.4 多层膜 314 Jv.UQ 15.5 含义 319 gIA@l`" 15.6 反演工程实例 319 0(_l|PScF 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 v=('{/^~> 15.6.2 反演工程提取折射率 327 m^x6>9, 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 3_q3Bk 16.1 光学性质的热致偏移 329 CR2_;x:0 16.2 应力工具 335 .(Qx{r$ 16.3 均匀性误差 339 6i0A9SN 16.3.1 圆锥工具 339 k1VT /u 16.3.2 波前问题 341 >AJSqgHQ, 16.4 参考文献 343 #$3yz'"QF 17 如何在Function(模块)中编写操作数 345 f<A5?eKw 17.1 引言 345 udeoW-_ 17.2 操作数 345 nNXgW 18 如何在Function中编写脚本 351 mqq;H} 18.1 简介 351 h5yzwj:C? 18.2 什么是脚本? 351 /*|oL#hK 18.3 Function中脚本和操作数对比 351 Kt0(gQOr0 18.4 基础 352 ]jpu,jz: 18.4.1 Classes(类别) 352 wp7!>%s{ 18.4.2 对象 352 MQKfJru7 18.4.3 信息(Messages) 352 t#!yrQ..'G 18.4.4 属性 352 _{jjgQJ5 18.4.5 方法 353 0| ;
.6\ 18.4.6 变量声明 353 3OM2Y_ 18.5 创建对象 354 l|5fE1K9U 18.5.1 创建对象函数 355 L],f3< 18.5.2 使用ThisSession和其它对象 355 Q]o C47( 18.5.3 丢弃对象 356 WL{(Ob 18.5.4 总结 356 ZIdA\_c 18.6 脚本中的表格 357 hVUP4 A 18.6.1 方法1 357 cwV]!=RtO 18.6.2 方法2 357 BPr^D0P 18.7 2D Plots in Scripts 358 kF>o.uSV 18.8 3D Plots in Scripts 359 3Tq\BZ 18.9 注释 360 P9T5L<5 18.10 脚本管理器调用Scripts 360 !a$ D4(`v 18.11 一个更高级的脚本 362 ^T~gEv 18.12 <esc>键 364 Pl-5ncb\ 18.13 包含文件 365 9_sA&2P{uV 18.14 脚本被优化调用 366 >&!RWH9*q 18.15 脚本中的对话框 368 #Km:}= 18.15.1 介绍 368 {,OS-g 18.15.2 消息框-MsgBox 368 Cye$H9 2 18.15.3 输入框函数 370 L,;D@Xi 18.15.4 自定义对话框 371 H:H6b 18.15.5 对话框编辑器 371 ;+1RUv 18.15.6 控制对话框 377 ^*~;k|;& 18.15.7 更高级的对话框 380 M,}|tsL 18.16 Types语句 384 ps$7bN C 18.17 打开文件 385 fIGFHZy, 18.18 Bags 387 g/CxXSv@0 18.13 进一步研究 388 @E.k/G!~Nb 19 vStack 389 ! Q<>3xZ 19.1 vStack基本原理 389 c%*($)# 19.2 一个简单的系统——直角棱镜 391 LI)!4(WH 19.3 五棱镜 393 w:'dhr': 19.4 光束距离 396 jPnM>= 19.5 误差 399 'B0{U4?
19.6 二向分色棱镜 399 ,<DB&&EV8 19.7 偏振泄漏 404
'8j$';&` 19.8 波前误差—相位 405 wW?,;B'74 19.9 其它计算参数 405 .Wi{lt 20 报表生成器 406 `pd&se'p 20.1 入门 406 fIF<g@s 20.2 指令(Instructions) 406 e4FM} z[ 20.3 页面布局指令 406 `]Bxn)b( 20.4 常见的参数图和三维图 407 Il.Ed-&62 20.5 表格中的常见参数 408 {K#NB_*To 20.6 迭代指令 408 :R):b 20.7 报表模版 408 7j7e61
Ax 20.8 开始设计一个报表模版 409 ``ekR6[ 8c 21 一个新的project 413 kX:tc 21.1 创建一个新Job 414 ;O 0+, 21.2 默认设计 415 aAu>Tn86D. 21.3 薄膜设计 416 ":3 VJ(eY 21.4 误差的灵敏度计算 420 D\/xu-& 21.5 显色指数计算 422 ZtVAEIZ) 21.6 电场分布 424 z'p:gv] 后记 426 (wmBjQ]B< (J"T]-[ P\CDd=yWc 书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 9t@:4O ^7]"kg DA 《Essential Macleod中文手册》[attachment=121031] ~8|t*@D z=&z_}M8 目 录 #<( = }? iA_8(Yo ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 -oz`"&% 第1章 介绍 ..........................................................1 e7u^mJ 第2章 软件安装 ..................................................... 3 +D#Z n!P 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 vhr+g 'tf 第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 mYB`)M*Y 第5章 软件结构 ............................................................... 21 E99CmG|" 第6章 应用窗口 ................................................................. 44 6pE :A@ 第7章 设计窗口 .................................................................. 62 =G~~?>=@2 第8章 图形窗口 .................................................................. 100 Q-rL$%~=' 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 BcA31% 第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 K7I&sS^x 第11章 表格窗口 ................................................................. 116 &$`hQgi 第12章 优化和综合 ..................................................................120 ?B.~AUN 第13章 材料管理 ........................................................................ 149 x}$e}8|8YL 第14章 多层膜 ........................................................................... 167 o-7>eE}+ 第15章 分析和设计工具 ........................................................180 h06ku2Q
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 6)]f6p&e 第17章 报告生成器 ............................................................. 208
>95TvJ 第18章 堆栈 ......................................................................... 213 2}}?'PwwT 第19章 功能扩展 .................................................................. 229 1-I
Swd'u 第20章 运行表单 .................................................................... 251 7=4 A;Ybq 第21章 模拟器 ...................................................................... 271 9+Y D!y 第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 ~#:e *:ro 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 jn9 ShF 第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 [AEBF2OIv 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 RK9>dkW 第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 I.}1JJF* 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 z}}]jR\y? 第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 g(0;[#@ 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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