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infotek 2023-10-11 11:59

线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

时间地点 G P ' -  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 5`::#[  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 zN\C  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 q$}gQ9'z'  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 k<rJm P{  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
: TqeVf  
特邀专家介绍 c/Li,9cT'  
[attachment=121028] )6px5Vwz  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 ~/2OK!M  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 ._&SS,I5VZ  
课程概要 |jcIn[)=  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 a!;#u 8f  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 NA#,q 8  
课程大纲 Ghar hJ>v  
1. Essential Macleod软件介绍 9aKO||i,  
1.1 介绍软件 6DC+8I<  
1.2 创建一个简单的设计 j%8 1q  
1.3 绘图和制表来表示性能 Qzv&  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 ( F4c0  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) Na+h+wD.D  
1.6 特定设计的公式技术 dl3}\o_  
1.7 交互式绘图 U~oGg$  
2. 光学薄膜理论基础 b]N&4t  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 STPRC&7;  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 2M+ *VO  
3. 材料管理 5>~D3?IAd  
3.1 材料模型 bE3mOml  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 ^RYq !l$  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 }|Bs|$q  
3.4 基板光学常数的提取 bP4}a!t+n  
4. 光学薄膜设计优化方法 2{B ScI5K  
4.1 参考波长与g vXG?8Q  
4.2 四分之一规则  nL[G@1nR  
4.3 导纳与导纳图 ej \S c7.  
4.4 斜入射光学导纳 SU jo%3R  
4.5 光学薄膜设计的进展 `dRqheX  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 ;f)AM}~^Q  
4.6.1 优化目标设置 =RQI5 nHdw  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) xRq A^Ad  
4.6.3 膜层锁定和链接 o3h>)4  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 7&w|  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 T*'WS!z  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 Mu6DT p~k  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 1had8K-  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 >qd=lm <,  
5.5 如何在Function中编写脚本 Q&/WVRD  
6. 光学薄膜系统案例 `Io#440;  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 ACpecG  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 x1Z*R+|>2  
6.3 Stack应用范例说明 Gz(l~!n~a  
7. 薄膜性能分析 YWL7.Y>%5  
7.1 电场分布 z|\n^ZK=  
7.2 公差与灵敏度分析 XC O8A\  
7.3 反演工程 t=fP^bJ  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 @|e we. r  
8. 真空技术 [8K :ml  
8.1 常用真空泵介绍 Q2F20b  
8.2 真空密封和检漏 zMd><UQP{  
9. 薄膜制备技术 =y`-:j\  
9.1 常见薄膜制备技术 _/Ay$l;F  
10. 薄膜制备工艺 </aQ  
10.1 薄膜制备工艺因素 oe!4ng[  
10.2 薄膜均匀性修正技术 <5}j(jxz}  
10.3 光学薄膜监控技术 po.QM/b \  
11. 激光薄膜 kO$n0y5e  
11.1 薄膜的损伤问题 @#;*e] 1a  
11.2 激光薄膜的制备流程 @jrxbo;5  
11.3 激光薄膜的制备技术 @a,=ApS"  
12. 光学薄膜特性测量 >7~,w1t  
12.1 薄膜光谱测量 W_,7hvE?"H  
12.2 薄膜光学常数测量 ^66OzT8A  
12.3 薄膜应力测量 *kcc]*6@s  
12.4 薄膜损伤测量 `,4@;j<^@  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 E[4 vUnm-  
[attachment=121029]
$RUK<JN$6  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系[attachment=121027]
}>V=J aG  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=121030]
cvhwd\  
内容简介 -)R =p"-w  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 {dn:1IcN  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 [JV?Mdzu  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 9vSKIq  
@AK&R~<  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
1GB]Yi[>  
目录 0j 8`M"6  
Preface 1 # s7e/GdKb  
内容简介 2 v>N*f~n  
目录 i mIqm/5  
1  引言 1 eKZS_Qd  
2  光学薄膜基础 2 n$9Xj@  +  
2.1  一般规则 2 uX]]wj-R3  
2.2  正交入射规则 3 ]'w5s dP  
2.3  斜入射规则 6 S4-jFD)U  
2.4  精确计算 7 H4j1yD(d  
2.5  相干性 8 g,W34*7=Q  
2.6 参考文献 10 Of-xGo YZ  
3  Essential Macleod的快速预览 10 c]bG5  
4  Essential Macleod的特点 32 .k +>T*c{  
4.1  容量和局限性 33 (h g6<`  
4.2  程序在哪里? 33 .w'b%M  
4.3  数据文件 35 OK YbEn#  
4.4  设计规则 35 .yFO] r1aL  
4.5  材料数据库和资料库 37 DiTpjk ]c`  
4.5.1材料损失 38 EuImj#Zl  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 =1'WZp}D5  
4.5.2 材料库 41 9Oo`4  
4.5.3导出材料数据 43 yPs6_Qo!p  
4.6  常用单位 43 rK`^A  
4.7  插值和外推法 46 iHK.hs;  
4.8  材料数据的平滑 50 z( }w|  
4.9 更多光学常数模型 54 NffKK:HvBB  
4.10  文档的一般编辑规则 55 r/"^{0;F{W  
4.11 撤销和重做 56 #y[omla8  
4.12  设计文档 57 K2e *AE*  
4.10.1  公式 58 U^%)BI  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 ! Vlx  
4.10.3  沉积密度 59 AE~@F4MK  
4.10.4 平行和楔形介质 60 5 6.JB BZZ  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 *+2_!=4V  
4.10.4  性能 61 Oh>hy Y)}  
4.10.5  保存设计和性能 64 u86PTp+  
4.10.6  默认设计 64 ~(huUW  
4.11  图表 64 pV;0Hcy  
4.11.1  合并曲线图 67 E)f9`][  
4.11.2  自适应绘制 68 \ym^~ Q|  
4.11.3  动态绘图 68 ysl#Rwt/2  
4.11.4  3D绘图 69 b18f=<#  
4.12  导入和导出 73 !!)$?R;1  
4.12.1  剪贴板 73 $!y^t$u$@  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 o0S 8ki  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 1 A0BM  
4.13  背景 77 /c 7z[|  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 ;134$7!Y  
4.15  生成Rugate 84 vyB{35p$  
4.16  参考文献 91 "#-iD  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 )*{B_[  
5.1  Jobs 92 !MOsP<2  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 ^FBu|e AkE  
5.3  输入材料 94 _)!*,\*`{  
5.4  设计数据文件夹 95 )b>misb/  
5.5  默认设计 95 5U4V_*V  
6  细化和合成 97 dv3u<XM~  
6.1  优化介绍 97 sP eTW*HeR  
6.2  细化 (Refinement) 98 Dm8fcD  
6.3  合成 (Synthesis) 100 DI2e%`$  
6.4  目标和评价函数 101 wvxz:~M  
6.4.1  目标输入 102 3o/f, }_  
6.4.2  目标 103 Kg"eS`-  
6.4.3  特殊的评价函数 104 un -h%-e |  
6.5  层锁定和连接 104 ?wCX:? g  
6.6  细化技术 104 #\n* Qg4p  
6.6.1  单纯形 105 T4"D&~3 3q  
6.6.1.1 单纯形参数 106 9+s&|XS*  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 *AGf'+j*z  
6.6.2.1 Optimac参数 108 $@71 w~y  
6.6.3  模拟退火算法 109 s@7hoU-+  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 Ut;4`>T  
6.6.4  共轭梯度 111 ruB D ^-  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 QT^b-~^  
6.6.5  拟牛顿法 112 -l[$+Kw1S  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 ujmIS~"  
6.6.6  针合成 113 |3!)  
6.6.6.1 针合成参数 114 Pmd[2/][  
6.6.7 差分进化 114 t&q~ya/C  
6.6.8非局部细化 115 oVn&L*H   
6.6.8.1非局部细化参数 115 ]H}2|~c  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 I^![)# FC  
6.7.1  细化 116 f+n {9Hz  
6.7.2  合成 117 L3xN#W;m7  
6.8  参考文献 117 "G.X=, V  
7  导纳图及其他工具 118 7H{1i  
7.1  简介 118 2zh- ms  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 tcv(<0  
7.2.1  四分之一波长规则 119 FjtS  
7.2.2  导纳图 120 x< 2]UB`  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 w?|qKO  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 tUc<ExvP,  
7.5  斜入射导纳图 141 :?g+\:`/0j  
7.6  对称周期 141 xRXvTNEg  
7.7  参考文献 142 ``:[Jr &  
8  典型的镀膜实例 143 K|-m6!C!7  
8.1  单层抗反射薄膜 145 "B (?|r%  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 j<0 ;JAL  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 4=|Q2qgFV  
8.4  W-膜层 148 A-=hvJ5T  
8.5  V-膜层 149 la-:"gKC  
8.6  V-膜层高折射基底 150 W&|?8%"l]  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 wLqj<ot  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 S qb>a j  
8.9  四层抗反射薄膜 153 \X %FM"r  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 :dULsl$Nz  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 -wV2 79^b  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 *Ic^9njt  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 GAYn*'<  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 z|%Pi J ,  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 0{bl^#$f  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 2 A!*8w  
8.17  1/4波长堆栈 162 np6G~0Y`  
8.18  陷波滤波器 163 8uLS7\,$z  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 {fHor  
8.20  褶皱 165 l$9k:#\FD  
8.21  消偏振分光器1 169 zs I?X>4  
8.22  消偏振分光器2 171 "D_:`@V(  
8.23  消偏振立体分光器 172 PLs`Ci|`  
8.24  消偏振截止滤光片 173 SF-"3M  
8.25  立体偏振分束器1 174 2!B|w8ar  
8.26  立方偏振分束器2 177 M NwY   
8.27  相位延迟器 178 +z?gf*G_W'  
8.28  红外截止器 179 a}FyJp  
8.29  21层长波带通滤波器 180 H(76sE  
8.30  49层长波带通滤波器 181 $RYGAh  
8.31  55层短波带通滤波器 182 L{F]uz_[x  
8.32  47 红外截止器 183 j0{`7n  
8.33  宽带通滤波器 184 bs)wxU`Q*  
8.34  诱导透射滤波器 186 !P EKMDh  
8.35  诱导透射滤波器2 188 dB4ifeT]  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 C@`#@1X  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 2 >O[Y1  
8.35  增益平坦滤波器 193 @#,/6s7?  
8.38  啁啾反射镜 1 196 HSG Ln906  
8.39  啁啾反射镜2 198 k"DZ"JC  
8.40  啁啾反射镜3 199 U; m@  
8.41  带保护层的铝膜层 200 PL$XXj>|:  
8.42  增加铝反射率膜 201 4uoZw 3O  
8.43  参考文献 202 `IwZVz  
9  多层膜 204 n)q8y0if  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 9 CZ@IFS  
9.2  内部透过率 204 > VIFQ\  
9.3 内部透射率数据 205 C$+Q,guM  
9.4  实例 206 ^il$t]X5-  
9.5  实例2 210 hjg1By(  
9.6  圆锥和带宽计算 212 )$E){(Aa  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 PA,aYg0f  
10  光学薄膜的颜色 216 +yfUB8Xw  
10.1  导言 216 0$Rn|yqf%  
10.2  色彩 216 &57~i=A 3  
10.3  主波长和纯度 220 GZrN,M  
10.4  色相和纯度 221 \X*y~)+K`  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 A ~vx,|I  
10.6 色差 226 "]]LQb$  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 =h-E N_[  
10.8  颜色渲染指数 234 /FXvrH(  
10.9  色差计算 235 d<j`=QH  
10.10  参考文献 236 06AgY0\  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 sd%)g<t  
11.1  短脉冲 238 d9TTAaf  
11.2  群速度 239 -avxH?;?7  
11.3  群速度色散 241 zx\-He  
11.4  啁啾(chirped) 245 `H:`JBe=+[  
11.5  光学薄膜—相变 245 q9ra  
11.6  群延迟和延迟色散 246 W>w(|3\  
11.7  色度色散 246 tP! %(+V  
11.8  色散补偿 249 cb)7$S  
11.9  空间光线偏移 256 L1!~T+%uQ  
11.10  参考文献 258 |A*4Fuc&  
12  公差与误差 260 v^o`+~i  
12.1  蒙特卡罗模型 260 fWEQ vQ  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 `W)?d I?#M  
12.2.1  误差工具 267 LhAW|];  
12.2.2  灵敏度工具 271 y ]@JkF(  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 *Xk5H,:  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 }gX hN"  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 sHBTB6)lx  
12.3  参考文献 276 Iv  
13  Runsheet 与Simulator 277 3)W_^6>bM  
13.1  原理介绍 277 !6X6_ +}M  
13.2  截止滤光片设计 277 !~?/D  
14  光学常数提取 289 (kY  0<  
14.1  介绍 289 [sH3REE1h  
14.2  电介质薄膜 289 @hA`f4^  
14.3  n 和k 的提取工具 295 7/hn%obC  
14.4  基底的参数提取 302 /YZMP'v  
14.5  金属的参数提取 306 8~Zw"  
14.6  不正确的模型 306 1\@PrO35J  
14.7  参考文献 311 ["&{^  
15  反演工程 313 K5LJx-x*j  
15.1  随机性和系统性 313 EQ^]W-gN  
15.2  常见的系统性问题 314 J2x}@p  
15.3  单层膜 314 iupkb  
15.4  多层膜 314 V0>[bzI  
15.5  含义 319 zT)cg$8%fY  
15.6  反演工程实例 319 Vv(buG  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 T\p>wiY2|F  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 S{l)hwlE  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 7P(o!%H  
16.1  光学性质的热致偏移 329 AC <2.i_  
16.2  应力工具 335 :t`W&z41  
16.3  均匀性误差 339 U'F}k0h?\'  
16.3.1  圆锥工具 339 V]J"v#!{  
16.3.2  波前问题 341 !\{2s!l~  
16.4  参考文献 343 ^cPVnl  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 #'KM$l,P  
17.1  引言 345 E-Xz  
17.2  操作数 345 <?IDCOt ?  
18  如何在Function中编写脚本 351 c.LRS$o/j  
18.1  简介 351 Rkk`+0K7$J  
18.2  什么是脚本? 351 &uE )Vr4R  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 tx[;& ;  
18.4  基础 352 AKjobA#  
18.4.1  Classes(类别) 352 "4WnDd 5"  
18.4.2  对象 352 \;'#8  
18.4.3  信息(Messages) 352 g,WTXRy  
18.4.4  属性 352 <7ANXHuSW  
18.4.5  方法 353 ] H;E(1iU  
18.4.6  变量声明 353 qk'&:A  
18.5  创建对象 354 N e{=KdzT  
18.5.1  创建对象函数 355 rMJ@oc  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 v `/nX->  
18.5.3 丢弃对象 356 -a_qZ7  
18.5.4  总结 356 \6a' p Q,  
18.6  脚本中的表格 357 5s^vC2$)  
18.6.1  方法1 357 $H3C/|  
18.6.2  方法2 357 {~51h}>b#  
18.7 2D Plots in Scripts 358 ]!S#[Wt {k  
18.8 3D Plots in Scripts 359 0&NM=~  
18.9  注释 360 q7aqbkwz}  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 '=+N )O  
18.11  一个更高级的脚本 362  Rh6CV  
18.12  <esc>键 364 d!<>Fh^6,  
18.13 包含文件 365 c %Y *XJ'  
18.14  脚本被优化调用 366 [V?HK_~  
18.15  脚本中的对话框 368 r%=a:GdAg  
18.15.1  介绍 368 L=Aj+  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 \NDW@!X  
18.15.3  输入框函数 370 BR@gJ(2  
18.15.4  自定义对话框 371 vxPr)"Vvz  
18.15.5  对话框编辑器 371 -6_<]  
18.15.6  控制对话框 377 /KnIU|;  
18.15.7  更高级的对话框 380 `R (N3  
18.16 Types语句 384 +K'YVB U}  
18.17 打开文件 385 ]5*H/8Ke7  
18.18 Bags 387 l8+1{6xP  
18.13  进一步研究 388 C<:wSS^@1  
19  vStack 389 ?\4kV*/Cqz  
19.1  vStack基本原理 389 zBTxM  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 !}P^O(oY  
19.3  五棱镜 393 W=S^t_F  
19.4 光束距离 396 GfP'  
19.5 误差 399 EqD@o  
19.6  二向分色棱镜 399 ~IO'"h'w  
19.7  偏振泄漏 404 E 8W*^^z(  
19.8  波前误差—相位 405 py~[M'p(H  
19.9  其它计算参数 405 kd&~_=Q  
20  报表生成器 406 T^d<vH  
20.1  入门 406 Wn;%B].I  
20.2  指令(Instructions) 406 ?^-fivzS>  
20.3  页面布局指令 406 2XBHo (  
20.4  常见的参数图和三维图 407 4>Ht_B<<  
20.5  表格中的常见参数 408 Gl{2"!mt=  
20.6  迭代指令 408 #+" D?  
20.7  报表模版 408 FR50y+h^$  
20.8  开始设计一个报表模版 409 %y>*9$<pXe  
21  一个新的project 413 <uoVGV5N  
21.1  创建一个新Job 414 [}Rs  
21.2  默认设计 415 1$ }Tn  
21.3  薄膜设计 416 s;Zi   
21.4  误差的灵敏度计算 420 Gyi0SM6v5&  
21.5  显色指数计算 422 |,.1=|&u  
21.6  电场分布 424 6eB~S)Ko  
后记 426 I )% bOK]  
/NPx9cLW^  
bS|h~B]rd  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 5K|`RzZ`B$  
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《Essential Macleod中文手册》
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]U4C2}u  
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目  录 ow,! 7|m  
DvI^3iG8  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 2I=4l  
第1章 介绍 ..........................................................1 [8DPZU@  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 b\NY!)B  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 n%vmo f  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 {Aj=Rj@  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 &ML-\aSal  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 0|\A5 eG  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 #x6w M~  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 yi-)4#YN  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 ! v%%_sRV  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 HR'F  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 (c3O> *M  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 (G>g0(;D-  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 |hvclEu,  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 HXB & 6  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 Q`=d5Uvw  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 k1D|Cpnp  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 |mw3v>  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 oSR;Im<2  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 zb!RfQ,  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 JVx-4?  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 );p:[=$71  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 0)vX  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 kf' 4C "}  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 IV`+B<3  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 pe\]}&  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 _^0UK|[  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 ,F|49i.K  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 I<&) P#"  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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