线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)
时间地点 lc(}[Z/|V
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 ~(x"Y\PEu 授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天 AM 9:00-PM 16:00 3EA+tG4KnO 授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 gWGh:.*T 课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 F@l d#O 课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金) B1k;!@@14 特邀专家介绍 Koi-b [attachment=121028] IJk<1T7:(W 易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 .jv#<"DW 获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 m85Hx1!p. 课程概要 d "%6S*dL 随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 IIY3/ 本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 1EHL8@.M 课程大纲 K}(@Ek 1. Essential Macleod软件介绍 *%n(t+'q 1.1 介绍软件 s?7"iE 1.2 创建一个简单的设计
5_+pgJL 1.3 绘图和制表来表示性能 s(8e)0Tl 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 r
E&}B5PN= 1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) j58'P 5N 1.6 特定设计的公式技术 yfZYGhPN( 1.7 交互式绘图 Oq[YbQ'GE 2. 光学薄膜理论基础 ZkmYpi[ 2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 {:TOm0eK 2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 U.pGp]\Q)G 3. 材料管理 NRMEZ\*L 3.1 材料模型 R*l3 zn> 3.2 介质薄膜光学常数的提取 h'"~t#r 3.3 金属薄膜光学常数的提取 >c=-uI 3.4 基板光学常数的提取 fn,
YH 4. 光学薄膜设计优化方法 eZ|_wB'r 4.1 参考波长与g i'3)5 4.2 四分之一规则 <AN5>:k[pM 4.3 导纳与导纳图 4G'-"u^g 4.4 斜入射光学导纳 #]*]qdQWV^ 4.5 光学薄膜设计的进展 >Q2kXwN 4.6 Macleod软件的设计与优化功能 FnCMr_ 4.6.1 优化目标设置
NArr2o2 4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) CE7{>pl 4.6.3 膜层锁定和链接 }t0JI3 5. Essential Macleod中各个模块的应用 w^^8*b< 5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 .\7AJB\l 5.2 光通信用窄带滤光片模拟 Ns$,.D 5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 @e2P3K gg 5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 l9naqb:iP 5.5 如何在Function中编写脚本 zsr; 37 6. 光学薄膜系统案例 4"s/T0C 6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 xm0(U0
> 6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 w3FEX$`_ 6.3 Stack应用范例说明 3'!*/UnU 7. 薄膜性能分析 oC}2 Z{ 7.1 电场分布 .RpWE.C 7.2 公差与灵敏度分析 Qov*xRO6 7.3 反演工程 %+oV-o\ #A 7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 KvumU>c#A 8. 真空技术 T U^s!Tj 8.1 常用真空泵介绍 Ki dbcZ 8.2 真空密封和检漏 *})Np0k 9. 薄膜制备技术 [tkP2%1 9.1 常见薄膜制备技术 d0YQLh 10. 薄膜制备工艺 '[p0+5*x 10.1 薄膜制备工艺因素 FKy2C:R(] 10.2 薄膜均匀性修正技术 `S|T&|ad0 10.3 光学薄膜监控技术 wg^'oy 11. 激光薄膜 -/R?D1kOq 11.1 薄膜的损伤问题 {Z}zT1kA 11.2 激光薄膜的制备流程 ~iJ@x;` 11.3 激光薄膜的制备技术 ok{
F=z 12. 光学薄膜特性测量 ?ajVf./Ja 12.1 薄膜光谱测量 <f;Xs( 12.2 薄膜光学常数测量 gT2k}5d}p 12.3 薄膜应力测量 c@lH 12.4 薄膜损伤测量 r85j/YK 12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 ZOy^TR
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书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) [attachment=121030] m}]\ ^$d
内容简介 ?>q5Abp[ Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 Wql,*| 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 *l)}o4-$ 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 rSKZc`<^ 8@]vvZ2/gj
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 YXIAVSnr 目录 _+d*ljP)l3 Preface 1 9-EdT4=r, 内容简介 2 5>>JQ2'W 目录 i aK--D2@}i 1 引言 1 q{pa _ 2 光学薄膜基础 2 is`~C 2.1 一般规则 2 +0M0g_sk 2.2 正交入射规则 3 U,V+qnS 2.3 斜入射规则 6 fz<GPw
2.4 精确计算 7 Hu"TEhW(2 2.5 相干性 8 C /w]B[H 2.6 参考文献 10 ]%+T+zg(Y 3 Essential Macleod的快速预览 10 y)b=7sU 4 Essential Macleod的特点 32 bdHHOpXM 4.1 容量和局限性 33 X{P=2h#g
4.2 程序在哪里? 33 9lB$i2G>Zw 4.3 数据文件 35 y>] Yq- 4.4 设计规则 35 "B0I$`~wu 4.5 材料数据库和资料库 37 z)%]#QO 4.5.1材料损失 38 AL*M`m_ 4.5.1材料数据库和导入材料 39 U3|9a8^H 4.5.2 材料库 41 okH*2F(- 4.5.3导出材料数据 43 \`-a'u=S 4.6 常用单位 43 N]&:xd5 4.7 插值和外推法 46 @k\npFKQm 4.8 材料数据的平滑 50 "X\6tl7a| 4.9 更多光学常数模型 54 !mK}Rim~ 4.10 文档的一般编辑规则 55 ZC3;QKw> 4.11 撤销和重做 56 9/dADJe0b 4.12 设计文档 57 Dq`$3ZeA 4.10.1 公式 58 {11xjvAD 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 RAFdo 4.10.3 沉积密度 59 R+tQvxp# 4.10.4 平行和楔形介质 60 T}K@ykT 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 ]p8<Vluv 4.10.4 性能 61 URj2 evYW 4.10.5 保存设计和性能 64 uuYeXI; 4.10.6 默认设计 64 -(9TM*)O 4.11 图表 64 l]S% k& 4.11.1 合并曲线图 67 Wx|De7* 4.11.2 自适应绘制 68 b&*N 4.11.3 动态绘图 68 H.&"~eH
4.11.4 3D绘图 69 U|+c&TY 4.12 导入和导出 73 L+_
JKc 4.12.1 剪贴板 73 a=M/0N{! 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 H Yw7* 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 'LC0hoV 4.13 背景 77 n,`j~.l-=> 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 2j=HxE 4.15 生成Rugate 84 6`Diz_( 4.16 参考文献 91 <J-.,: 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 rtz ]PH 5.1 Jobs 92 ]:~z#k|2@6 5.2 创建一个新Job(工作) 93 Pp`[E/
qj4 5.3 输入材料 94 a2B9
.;F 5.4 设计数据文件夹 95 $.3J1DU 5.5 默认设计 95 dlBr2 9 6 细化和合成 97 z4JhLef % 6.1 优化介绍 97 X-`PF 6.2 细化 (Refinement) 98 nf,Ez 6.3 合成 (Synthesis) 100 Qb' Q4@. 6.4 目标和评价函数 101 7towjwr 6.4.1 目标输入 102 j9&x#U 6.4.2 目标 103 u^( s0q 6.4.3 特殊的评价函数 104 t(xe*xS 6.5 层锁定和连接 104 Xr{
r&Rl 6.6 细化技术 104 UVgDm&FF 6.6.1 单纯形 105 k\A4sj 6.6.1.1 单纯形参数 106 4{LKT^(!f 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 p$a+?5'Q 6.6.2.1 Optimac参数 108 fHXz{,?/w 6.6.3 模拟退火算法 109 R{q<V uN 6.6.3.1 模拟退火参数 109 SyIi*dH 6.6.4 共轭梯度 111 W$:D#;jz`h 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 hHyB;(3~ 6.6.5 拟牛顿法 112 T*92 o:^ 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 76b2 3| 6.6.6 针合成 113 rN`-ak 6.6.6.1 针合成参数 114 ftP]WGSS> 6.6.7 差分进化 114 o^Qy71Uj 6.6.8非局部细化 115 i wI} 6.6.8.1非局部细化参数 115 M4E== 6.7 我应该使用哪种技术? 116 QsyM[; \j: 6.7.1 细化 116 L[MAc](me- 6.7.2 合成 117 Wt!8.d}= 6.8 参考文献 117 :.SwO<j 7 导纳图及其他工具 118 vWjHHw 7.1 简介 118 Iy Vmz' 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 ;R^=($ X 7.2.1 四分之一波长规则 119 }UqL2KXi4 7.2.2 导纳图 120 N\85fPSMG| 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 yH]w(z5Z 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 L6J.^tpO 7.5 斜入射导纳图 141 U|v@v@IBA 7.6 对称周期 141 D'Uv7Mis 7.7 参考文献 142 ;upYam" 8 典型的镀膜实例 143 '3TfW61] 8.1 单层抗反射薄膜 145 +HoCG;C{ 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 GP_%.fO\M 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 @[~j|YH} 8.4 W-膜层 148 3q.HZfN~ 8.5 V-膜层 149 fT5vO.a
8.6 V-膜层高折射基底 150 @Op7OFY% 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 T*](oA@ 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 @-XMox/ 8.9 四层抗反射薄膜 153 '[Bok=$B) 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 As(6E}{S 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 z
9~|Su 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 _A6e|(.ll 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 2E@g#:3 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 QaSRD/,M 8.15十五层宽带抗反射膜 159 OD).kP}s^ 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 7$"n.cr
: 8.17 1/4波长堆栈 162 `]5 t'Ps 8.18 陷波滤波器 163 p`}G"DM 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 =qS\+ 8.20 褶皱 165 n(j5dN>] 8.21 消偏振分光器1 169 ,9~qLQ0O 8.22 消偏振分光器2 171 UGQHwz 8.23 消偏振立体分光器 172 pW-aX)\DR 8.24 消偏振截止滤光片 173 XF`?5G~~# 8.25 立体偏振分束器1 174 nmClP 8.26 立方偏振分束器2 177 rM)#}eZK! 8.27 相位延迟器 178 s \q
m 8.28 红外截止器 179 U^&y*gX1 8.29 21层长波带通滤波器 180 r~PVh? 8.30 49层长波带通滤波器 181 "T~A*a^ 8.31 55层短波带通滤波器 182 W4]jx] 8.32 47 红外截止器 183 ~-#8j3 J; 8.33 宽带通滤波器 184 /8LTM|( 8.34 诱导透射滤波器 186 @}hdMVi 8.35 诱导透射滤波器2 188 %!OA/7XbG 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 ]".SW5b_ 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 1a'0cSH 8.35 增益平坦滤波器 193 <O4W!UVg 8.38 啁啾反射镜 1 196 7xCm"jgP 8.39 啁啾反射镜2 198 l*+9R 8.40 啁啾反射镜3 199 %D E_kwL 8.41 带保护层的铝膜层 200 c:`CL<xzU 8.42 增加铝反射率膜 201 EOG&Xa 8.43 参考文献 202 %B04|Q 9 多层膜 204 5]Y?NN,GR 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 \' >d.'d 9.2 内部透过率 204 *iXaQu T 9.3 内部透射率数据 205 #>O+!IH 9.4 实例 206 C ,[q#D4 9.5 实例2 210 EsjZ;D,c( 9.6 圆锥和带宽计算 212 DB.)/(zWQ 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 b}Wm-]|+ 10 光学薄膜的颜色 216 z{A~d 10.1 导言 216 dWVm'd
10.2 色彩 216 IAb-O 10.3 主波长和纯度 220 {hBnEj^@ 10.4 色相和纯度 221 . 12H/F 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 KvtJtql; 10.6 色差 226 }cERCS\t 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 %KW NY(m 10.8 颜色渲染指数 234 0;2ApYks 10.9 色差计算 235 5 8gkE94 10.10 参考文献 236 QI6=[
11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 [}Y_O*C ! 11.1 短脉冲 238 DcmRvi)&6 11.2 群速度 239 ~o8x3`CoF 11.3 群速度色散 241 X?n($z/{ 11.4 啁啾(chirped) 245 !_+ok$"d 11.5 光学薄膜—相变 245 `WlQ<QEi 11.6 群延迟和延迟色散 246 ,*g.?q@W2 11.7 色度色散 246 0EBHRY_F 11.8 色散补偿 249 :p.f zL6X 11.9 空间光线偏移 256 lcEUK 11.10 参考文献 258 -k,?cEjCs 12 公差与误差 260 jF|LPWl 12.1 蒙特卡罗模型 260 t^8|t(Lq 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 yIqRSqM 12.2.1 误差工具 267 |!uC [= 12.2.2 灵敏度工具 271 l` ?4O 12.2.2.1 独立灵敏度 271 =$WDB=i 12.2.2.2 灵敏度分布 275 `l+9g"q 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 bipA{VU 12.3 参考文献 276 @zSj&4 13 Runsheet 与Simulator 277 \_AoG8B 13.1 原理介绍 277 KBwY _ 13.2 截止滤光片设计 277 o5< w2( 14 光学常数提取 289 CzG/=#IU 14.1 介绍 289 DXx),?s> 14.2 电介质薄膜 289 -'RD%_ 14.3 n 和k 的提取工具 295 *2r(!fJP=^ 14.4 基底的参数提取 302 smat6p[ 14.5 金属的参数提取 306 JJu}Ed_ 14.6 不正确的模型 306 jP"yG# 14.7 参考文献 311 Tu-I".d+ 15 反演工程 313 PAs.T4Av^ 15.1 随机性和系统性 313 XA-, 15.2 常见的系统性问题 314
>^Y)@J 15.3 单层膜 314 %oiA'hz;* 15.4 多层膜 314 K#a_7/!v/ 15.5 含义 319 vKTCS 15.6 反演工程实例 319 GFgh{'| 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 I0(nRu<
15.6.2 反演工程提取折射率 327 r lXMrn 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 tz_WxOQ0 16.1 光学性质的热致偏移 329 =xRxr@ 16.2 应力工具 335 E9:p A5H-j 16.3 均匀性误差 339 ^LAdN8Cbb 16.3.1 圆锥工具 339
bC%}1wwh 16.3.2 波前问题 341 jn#Ok@tZ 16.4 参考文献 343 -|`E'b81 17 如何在Function(模块)中编写操作数 345 *sq+ Vc( 17.1 引言 345 XMm(D!6 17.2 操作数 345 y\}<N6 18 如何在Function中编写脚本 351 ]hlYmT 18.1 简介 351 o&Sv2"2 18.2 什么是脚本? 351 ,=y8[(h 18.3 Function中脚本和操作数对比 351 'kk
B>g7B 18.4 基础 352 l8By2{pN 18.4.1 Classes(类别) 352 A3zO&4f
] 18.4.2 对象 352 Nt_7Z 18.4.3 信息(Messages) 352 J_>nn 18.4.4 属性 352 E?F?)!% 18.4.5 方法 353 y<n<uZ; 18.4.6 变量声明 353 @-Ln* 3n 18.5 创建对象 354 DK }1T 18.5.1 创建对象函数 355 21.N+H' 18.5.2 使用ThisSession和其它对象 355 t$5)6zG 18.5.3 丢弃对象 356 T.iVY5^< 18.5.4 总结 356 G,A;`:/ 18.6 脚本中的表格 357 M;1B}x@ 18.6.1 方法1 357 Ar1X
mHq 18.6.2 方法2 357 ,v>|Ub, 18.7 2D Plots in Scripts 358 `&qeSEs\ 18.8 3D Plots in Scripts 359 h} <Ie < 18.9 注释 360 5=9gH 18.10 脚本管理器调用Scripts 360 {^SHIL 18.11 一个更高级的脚本 362 #;Z+X) 18.12 <esc>键 364 t7b\ #o 18.13 包含文件 365 C}cYG 18.14 脚本被优化调用 366 jGKas I` 18.15 脚本中的对话框 368 -'Y@yIb 18.15.1 介绍 368 h,)UB1 18.15.2 消息框-MsgBox 368 &g\?znF]H 18.15.3 输入框函数 370 Q^\f,E\S 18.15.4 自定义对话框 371 r[y3@SE5 18.15.5 对话框编辑器 371 ~h6aTN 18.15.6 控制对话框 377 -
]Mp<Y 18.15.7 更高级的对话框 380
"xY]& 18.16 Types语句 384 D-4\AzIb 18.17 打开文件 385 .T }q"
18.18 Bags 387 <%Afa# 18.13 进一步研究 388 ~4[4"Pi>| 19 vStack 389 DJ<F8-sb2r 19.1 vStack基本原理 389 c;1Xu1 19.2 一个简单的系统——直角棱镜 391 _4MT,kN 19.3 五棱镜 393 +5IC-=ZB 19.4 光束距离 396 f1}b;JJTsv 19.5 误差 399 sH{4 .tw 19.6 二向分色棱镜 399 6qp'
_? 19.7 偏振泄漏 404 0w<qj T^U 19.8 波前误差—相位 405 gCc::[}\Y 19.9 其它计算参数 405 /J` ZO$ 20 报表生成器 406 ^=gzms 20.1 入门 406 EHY}gG) 20.2 指令(Instructions) 406 f+j-M|A 20.3 页面布局指令 406 p:q?8+W-r 20.4 常见的参数图和三维图 407 DqTp*hI 20.5 表格中的常见参数 408 )#_:5^1 20.6 迭代指令 408 2v9T&xo= 20.7 报表模版 408 _4h[q4Z 20.8 开始设计一个报表模版 409 E]IPag8C 21 一个新的project 413 v^QUYsar 21.1 创建一个新Job 414 b\H !\A 21.2 默认设计 415 ]^
"BLbDZ@ 21.3 薄膜设计 416 qGPIKu 21.4 误差的灵敏度计算 420 R2!_)Rpf 21.5 显色指数计算 422
*^b<CZd9 21.6 电场分布 424 lH8e?zJ 后记 426 q&N1| f7 h|S6LgB }m0hq+p^ 书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 C.}Vm};M
]6 ]Nr 《Essential Macleod中文手册》[attachment=121031] &*3O+$L Fi!XaO 目 录 o$,Dh?l Fi*j}4F1 ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 m? #J`?E 第1章 介绍 ..........................................................1 :UdH}u!Ek 第2章 软件安装 ..................................................... 3 yJ!x`RD),w 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 *)4`"D 第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 't:s6 第5章 软件结构 ............................................................... 21 / %:%la% 第6章 应用窗口 ................................................................. 44 c (Gl3^ 第7章 设计窗口 .................................................................. 62 ZyQ+}rO 第8章 图形窗口 .................................................................. 100 1}"PLq( 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 E5U{.45 第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 3A5:D# 第11章 表格窗口 ................................................................. 116 xp<p(y8e1d 第12章 优化和综合 ..................................................................120 :i>/aRNh1 第13章 材料管理 ........................................................................ 149 Kc[Y .CH 第14章 多层膜 ........................................................................... 167 q&`>&k 第15章 分析和设计工具 ........................................................180 FaUc"J 第16章 逆向工程 ................................................................ 200 ]fgYO+ 第17章 报告生成器 ............................................................. 208 =u^{Jvl[ 第18章 堆栈 ......................................................................... 213 "Yu';& 第19章 功能扩展 .................................................................. 229 *f4BD|| 第20章 运行表单 .................................................................... 251 [hT|]|fJS; 第21章 模拟器 ...................................................................... 271 g9F4nExo 第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 Jm(sx'qPx 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 c3NUJ~>=y 第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 )5(Ko<" 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 iB=v
>8l% 第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 +@c-:\K% 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311
P)$q 第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 V% c1+h < 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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