线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)
时间地点 ,&\uuD&.@
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 9rn[46s` 授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天 AM 9:00-PM 16:00 k8; 授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 ,\FJVS;NeJ 课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 yn[^!GuJ_ 课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金) n0T'"i[ 特邀专家介绍 wER>a ( [attachment=121028] m-Uq6_e 易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 v_gQCS 获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 ]B<Hrnn 课程概要 U[a;eOLx 随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 .cQ<F4)!tu 本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 9W{=6D86e 课程大纲 )bqfj>%#c 1. Essential Macleod软件介绍 mGXjSWsd 1.1 介绍软件 ,4-) e 1.2 创建一个简单的设计 yB7=8 Pcx 1.3 绘图和制表来表示性能 ^fLePsmd 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 IQS:tL/ 1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) }/yhwijg 1.6 特定设计的公式技术 ov=[g l 1.7 交互式绘图 n0T\dc~ 2. 光学薄膜理论基础 Yd4J: 2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 >C`b4xQ 2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 iR9
$E 3. 材料管理 ag-\(i;K] 3.1 材料模型 1Z +3=$P 3.2 介质薄膜光学常数的提取 *N .f_s 3.3 金属薄膜光学常数的提取 Wb] ha1$ 3.4 基板光学常数的提取 u6AReL'f 4. 光学薄膜设计优化方法 O;9'0-F ? 4.1 参考波长与g Hb KJ&^ 4.2 四分之一规则 ?q(7avS9 4.3 导纳与导纳图 ?v>!wuiP 4.4 斜入射光学导纳 iw\RQ
0 4.5 光学薄膜设计的进展 gv}Esps
R 4.6 Macleod软件的设计与优化功能 %pNK ?M+ 4.6.1 优化目标设置 ;^}gC}tq 4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) ;/fZh:V2 4.6.3 膜层锁定和链接 ,%#FK| 5. Essential Macleod中各个模块的应用 9pKN^FX,76 5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 J~6+zBF 5.2 光通信用窄带滤光片模拟 $ ZD1_sJ. 5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 CBAMAr 5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 [V ~(7U 5.5 如何在Function中编写脚本 8.
[TPiUn' 6. 光学薄膜系统案例 )\C:| 6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 V]cD^Fqp 6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 NKD<VMcqw 6.3 Stack应用范例说明 LMf_wsp 7. 薄膜性能分析 \`\& G-\ 7.1 电场分布 `Nn=6[] 7.2 公差与灵敏度分析 `H6-g=C 7.3 反演工程 `Ym7XF& 7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 6fhH)]0 8. 真空技术 8<Cu S 8.1 常用真空泵介绍 |*5K fxq 8.2 真空密封和检漏 D.zEE-cGyb 9. 薄膜制备技术 W3s>+yU 9.1 常见薄膜制备技术 tCAh?nR 10. 薄膜制备工艺 -t_t3aU| 10.1 薄膜制备工艺因素 =7@N'xX 10.2 薄膜均匀性修正技术 cXiNO
ke& 10.3 光学薄膜监控技术 eXY*l>B 11. 激光薄膜 w yP|#Z\ 11.1 薄膜的损伤问题 7F OG^ 11.2 激光薄膜的制备流程 kw&,<V77 ~ 11.3 激光薄膜的制备技术 ;0ap#6 T 12. 光学薄膜特性测量 !%{/eQFT4 12.1 薄膜光谱测量 <H{%` 12.2 薄膜光学常数测量 t{#Btd 12.3 薄膜应力测量 'M>QA"*48E 12.4 薄膜损伤测量 @:\Iw"P 12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 ;/w-7O:
[attachment=121029] 68
%=
V>V
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系[attachment=121027] u}ULb F
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) [attachment=121030] \ s^a4l2
内容简介 qjQR0MC Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 FES_:?.0 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 T8( \:v 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 4RCD<7 ^'j? {@
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 b(JQ>,hX 目录 2Fk4jHj Preface 1 ol QT r 内容简介 2 d[mmwgSR?I 目录 i hK F*{,' 1 引言 1 #=mLQSiQ 2 光学薄膜基础 2 K.s\xA5`_ 2.1 一般规则 2 |[apLQ6 2.2 正交入射规则 3 l"70|~ 2.3 斜入射规则 6 &)[?D< 2.4 精确计算 7 IE7%u92 2.5 相干性 8 {;uOc{~+ 2.6 参考文献 10 G`H4#@] 3 Essential Macleod的快速预览 10 +XV7W= 4 Essential Macleod的特点 32 coa+@g,w7# 4.1 容量和局限性 33 G?`{OW3:_ 4.2 程序在哪里? 33 jcrLUs+\ 4.3 数据文件 35 ~6YTm6o 4.4 设计规则 35 \*x'7c/qg 4.5 材料数据库和资料库 37 !C13E lf 4.5.1材料损失 38 ]-ad\PI$ 4.5.1材料数据库和导入材料 39 ^3re*u4b= 4.5.2 材料库 41 T<:mG%Is 4.5.3导出材料数据 43 7i-G5%w7 4.6 常用单位 43 Kvx~2ZMx6 4.7 插值和外推法 46 .V~z6 4.8 材料数据的平滑 50 v@m2c_, 4.9 更多光学常数模型 54 =PU!hZj"L 4.10 文档的一般编辑规则 55 @ sLb=vb 4.11 撤销和重做 56 z~8`xn, 4.12 设计文档 57 -rg >y!L 4.10.1 公式 58 :wWPEhK 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 dsJMhB_41U 4.10.3 沉积密度 59 p;#@#>h 4.10.4 平行和楔形介质 60 okwkMd-yW 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 Tvp ~~Dk 4.10.4 性能 61 @fz0-vT, 4.10.5 保存设计和性能 64 bhk:Szqz 4.10.6 默认设计 64 }Pi}?
41! 4.11 图表 64 :$k]; 4.11.1 合并曲线图 67 B \WIoz;' 4.11.2 自适应绘制 68 V46=48K. 4.11.3 动态绘图 68 -hy`Np 4.11.4 3D绘图 69 .VD:FFkW 4.12 导入和导出 73 LVHIQ9 4.12.1 剪贴板 73 7-#R[8S 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 JSp V2c5Q 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 MBp,!_Q6 4.13 背景 77 g>gVO@"b2 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 z5njblUz 4.15 生成Rugate 84 oItEGJ| 4.16 参考文献 91 C!,|Wi2& 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 qoZUX3{ 5.1 Jobs 92 ~)fd+~4L 5.2 创建一个新Job(工作) 93 }#cFr)4f 5.3 输入材料 94 F7!q18ew 5.4 设计数据文件夹 95 5~ip N/)E 5.5 默认设计 95 77zfRSb+ 6 细化和合成 97 2)-V\:;js 6.1 优化介绍 97 6'S q|@VOi 6.2 细化 (Refinement) 98 ^ "D 6.3 合成 (Synthesis) 100 g$?kL 6.4 目标和评价函数 101 QV%,s!_b 6.4.1 目标输入 102 {zNFp#z 6.4.2 目标 103 aG*Mj;J 6.4.3 特殊的评价函数 104 e&k=fV 6.5 层锁定和连接 104 rl__3q 6.6 细化技术 104 s[dq-pc" 6.6.1 单纯形 105 P#j>hS
6.6.1.1 单纯形参数 106 ?xTdL738 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 f.e4 C, 6.6.2.1 Optimac参数 108 rCH? R 6.6.3 模拟退火算法 109 jhx @6[ 6.6.3.1 模拟退火参数 109 qA;!Pql` 6.6.4 共轭梯度 111 !
<O,xI' 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 <&CzM"\Em 6.6.5 拟牛顿法 112 PSB@yV < 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 [&MhAzF 6.6.6 针合成 113 PrQs_tNi 6.6.6.1 针合成参数 114 CqAv^n7 } 6.6.7 差分进化 114 o0&pSCK 6.6.8非局部细化 115 i
w(4!,4~ 6.6.8.1非局部细化参数 115 9zKbzT] 6.7 我应该使用哪种技术? 116 b%_[\(( 6.7.1 细化 116 4*9WxhJ ]0 6.7.2 合成 117 < |