线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)
时间地点 ^B9wmxe
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 ;|y,bo@sJJ 授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天 AM 9:00-PM 16:00 '5--eYG 授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 uzsN#'7= 课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 5P!17.W'u
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金) oH0\6:S 特邀专家介绍 *?+!(E [attachment=121028] =Yk$Q\c 易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 AF-.Nwp 获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 [PT_y3'% 课程概要 @:I/lg=Qd 随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 aRmS{X3 本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 ^l,Jbt 课程大纲 @C2<AmY9q* 1. Essential Macleod软件介绍 ceCshxTU 1.1 介绍软件 $7,dKC & 1.2 创建一个简单的设计 0^4*[?l9q 1.3 绘图和制表来表示性能 J:(l& 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 #a&Vx&7L 1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) 'Bx7b(xqk 1.6 特定设计的公式技术 8] *{i 1.7 交互式绘图 A VjtK 2. 光学薄膜理论基础 Mi/_hzZ\ 2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 r.GjM#X 2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 #C`!yU6( 3. 材料管理 Q8n?7JB 3.1 材料模型 4\?B,! 3.2 介质薄膜光学常数的提取 h(sD] N 3.3 金属薄膜光学常数的提取 P,wJ@8lv 3.4 基板光学常数的提取 rd RX 4. 光学薄膜设计优化方法 slx^" BF^ 4.1 参考波长与g ^:#%TCJ 4.2 四分之一规则 ol\IT9Zb~ 4.3 导纳与导纳图 .H&;pOf 4.4 斜入射光学导纳 L[K_!^MZ 4.5 光学薄膜设计的进展 <5q }j-Q 4.6 Macleod软件的设计与优化功能 1\p[mN 4.6.1 优化目标设置 i@RjG 4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) KlPH.R3MPO 4.6.3 膜层锁定和链接 L0Cf@~k 5. Essential Macleod中各个模块的应用 [Dhc9 5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 TwN8|ibVmP 5.2 光通信用窄带滤光片模拟 rW^&8E[ 5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 SXL6)pX 5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 b}
*cw2 5.5 如何在Function中编写脚本 0[];c$r< 6. 光学薄膜系统案例 g`j%jQuY 6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 J}x5Ko@ 6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 ZDf9Npe 6.3 Stack应用范例说明 !ZVMx*1Cf 7. 薄膜性能分析 O6pjuhMx 7.1 电场分布 vcmS]$} 7.2 公差与灵敏度分析 rcK*",> 7.3 反演工程 ZBGI_9wZ 7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 <3qbgn>}b 8. 真空技术 E(oNS\4 8.1 常用真空泵介绍 ;@L#0 8.2 真空密封和检漏 V)`?J) 9. 薄膜制备技术 !EFd-fk 9.1 常见薄膜制备技术 +[ F8>9o& 10. 薄膜制备工艺 iY2bRXA 10.1 薄膜制备工艺因素 k"Is.[I?^ 10.2 薄膜均匀性修正技术 0kkiS3T 10.3 光学薄膜监控技术 rT#QA=YB 11. 激光薄膜 iT%UfN/q=I 11.1 薄膜的损伤问题 $` 11.2 激光薄膜的制备流程 5s>9v 11.3 激光薄膜的制备技术 o+na`ed 12. 光学薄膜特性测量 ^2=zp.) 12.1 薄膜光谱测量 T:ck/:ZH 12.2 薄膜光学常数测量 W%P&o}' 12.3 薄膜应力测量 QZ6M,\ 12.4 薄膜损伤测量 pUmB
h 12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 *M*k-Z':.*
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书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) [attachment=121030] ^uj+d"a)
内容简介 zQ[mO Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 [bp"U*!9P 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 }vi%pfrB 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 b{oNV-<&{ +bXZE
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 OjCT%6hy; 目录 ;2iZX=P`n Preface 1 gO5;hd[l 内容简介 2 OLi;/(g 目录 i {T IGPK 1 引言 1 rQWft r^ 2 光学薄膜基础 2 =nsY[ s< 2.1 一般规则 2 \yxr@z1_b 2.2 正交入射规则 3 'i,<j
s3\f 2.3 斜入射规则 6 NE! Xt <A 2.4 精确计算 7 l YhwV\3 2.5 相干性 8 [bcqaT 2.6 参考文献 10 2vXMrh\ 3 Essential Macleod的快速预览 10 |\ay^@N 4 Essential Macleod的特点 32 }YjSv^ 4.1 容量和局限性 33 ij TtyTC 4.2 程序在哪里? 33 !nu['6I% 4.3 数据文件 35 l>G#+#{ 4.4 设计规则 35 e7;]+pN]J 4.5 材料数据库和资料库 37 $xl*P# 4.5.1材料损失 38 s:_5p`w> 4.5.1材料数据库和导入材料 39 &M2x` 4.5.2 材料库 41 &a0%7ea`.S 4.5.3导出材料数据 43 ''6"Xi|5 4.6 常用单位 43 ?G{fF
H 4.7 插值和外推法 46 6!'yU=Z` 4.8 材料数据的平滑 50 nQ+{1 C 4.9 更多光学常数模型 54 l9Vim9R5T 4.10 文档的一般编辑规则 55 & #|vGhA 4.11 撤销和重做 56 vr;7p[~ 4.12 设计文档 57 R|vF*0)>W 4.10.1 公式 58 9\;EX
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 LU]~d<i99 4.10.3 沉积密度 59 \kRBJ1)|f 4.10.4 平行和楔形介质 60 qg|+BIiUz 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 6->b(B V
$ 4.10.4 性能 61 8
jT"HZB6 4.10.5 保存设计和性能 64 &sRyM'XI 4.10.6 默认设计 64 r=k}EP&< 4.11 图表 64 :DD4BY 4.11.1 合并曲线图 67 {tM D*?C[6 4.11.2 自适应绘制 68 4e(@b3y 4.11.3 动态绘图 68 ?=vwr,ir 4.11.4 3D绘图 69 |N g[^ 4.12 导入和导出 73 D^u{zZy@e 4.12.1 剪贴板 73 $ D89|sy 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 tEeMl =u 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 m&\Gz*)3 4.13 背景 77 T;% SB& 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 k"U4E
J{ 4.15 生成Rugate 84 #Z.JOwi 4.16 参考文献 91 kb6v2 ^8H 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 tY#^3ac 5.1 Jobs 92 ^"f 5.2 创建一个新Job(工作) 93 8sg *qQ 5.3 输入材料 94 c;e,)$)-| 5.4 设计数据文件夹 95 Z\ Q7#dl 5.5 默认设计 95 W6PGv1iaW> 6 细化和合成 97 8 2qe|XD4p 6.1 优化介绍 97 Ac54VN 6.2 细化 (Refinement) 98 pI!55w| 6.3 合成 (Synthesis) 100 4{R` 6.4 目标和评价函数 101 M(BZ<,9V 6.4.1 目标输入 102 1Y`MJ\9 6.4.2 目标 103 Z/x1?{z 6.4.3 特殊的评价函数 104 -"<f( 6.5 层锁定和连接 104 5YCbFk^ 6.6 细化技术 104 0jmlsC> 6.6.1 单纯形 105 $_VD@YlAp 6.6.1.1 单纯形参数 106 I,[EL{fz 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 M~6I-HexT| 6.6.2.1 Optimac参数 108 7[)(;- 6.6.3 模拟退火算法 109 &td#m"wI 6.6.3.1 模拟退火参数 109 O^GX Fz^ 6.6.4 共轭梯度 111 g :EU\ 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 _H,RcpyJ 6.6.5 拟牛顿法 112 E=E<l?ob 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 lO
*Hv9# 6.6.6 针合成 113 p.HA`R> 6.6.6.1 针合成参数 114 v\Hyu1;8 6.6.7 差分进化 114 ox6rR
6.6.8非局部细化 115 {x:IsQZ 6.6.8.1非局部细化参数 115 \
C^D2Z6 6.7 我应该使用哪种技术? 116 ?Y9?x,x 6.7.1 细化 116 W@tLT[}CG 6.7.2 合成 117 |?>h$' 6.8 参考文献 117 H,}?YW 7 导纳图及其他工具 118 vEsSqzc 7.1 简介 118 [=Z{y8#:J 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 {
\ePJG# 7.2.1 四分之一波长规则 119 */)gk=x8 7.2.2 导纳图 120 ;w>B}v;RE 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 -&?- 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 NSq"\A\ 7.5 斜入射导纳图 141 ^wlep1D
7.6 对称周期 141 El%(je,| 7.7 参考文献 142 2XtQ"`) 8 典型的镀膜实例 143 iCS/~[ 8.1 单层抗反射薄膜 145 m+g>s&1H
8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 55,-1tWs 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 0 Yp;?p^ 8.4 W-膜层 148 >MT)=4
9q 8.5 V-膜层 149 v4$,Vt:7 8.6 V-膜层高折射基底 150 *"ShE=\p 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 }#J}8. 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 s__g*%@B
b 8.9 四层抗反射薄膜 153 d%hA~E1rR 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 UL%ihWq 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 pB./L&h 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 St`m52V(5X 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 B^9 #X5! 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 X\%3uPQ 8.15十五层宽带抗反射膜 159 yH^*Fp8V
8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 WQx;tX 8.17 1/4波长堆栈 162 H JiP:{ 8.18 陷波滤波器 163 ks D1NB;9 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 Vd4osBu{fY 8.20 褶皱 165 %*OJRL` 8.21 消偏振分光器1 169 JyO lVs<T 8.22 消偏振分光器2 171 OT i3T1& 8.23 消偏振立体分光器 172 `t6L'%\ 8.24 消偏振截止滤光片 173 gwJu&HA/ 8.25 立体偏振分束器1 174 z3]U%y(, 8.26 立方偏振分束器2 177 Ne
4*MwK 8.27 相位延迟器 178 DF2&j! 8.28 红外截止器 179 R`q!~8u 8.29 21层长波带通滤波器 180
Dfia=1A 8.30 49层长波带通滤波器 181 Z&,}Fgl!F 8.31 55层短波带通滤波器 182 =*jcO119L 8.32 47 红外截止器 183 cmI#R1\ 8.33 宽带通滤波器 184 'QF>e 8.34 诱导透射滤波器 186 A]$+
`uS\ 8.35 诱导透射滤波器2 188 ?M^t4nj 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 Kf#!IY][ 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 GwBQ
pNjy 8.35 增益平坦滤波器 193 \<**SSN 8.38 啁啾反射镜 1 196 S!_?# ^t 8.39 啁啾反射镜2 198 K5&C}Ey1 8.40 啁啾反射镜3 199 %SCu29km 8.41 带保护层的铝膜层 200 lvi:I+VgA 8.42 增加铝反射率膜 201 .Er/t"Qs; 8.43 参考文献 202 ?` i/ 9 多层膜 204 G`"Cqs< 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 0h4}RmS 9.2 内部透过率 204
+;;%Atgn 9.3 内部透射率数据 205 6/ipdi[
_ 9.4 实例 206 oE1]vX 9.5 实例2 210 _#mqg]W ' 9.6 圆锥和带宽计算 212 dRm'$
G9 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 !`o:+Gg@ 10 光学薄膜的颜色 216 om?CFl 10.1 导言 216 _`>7
Q),7 10.2 色彩 216 J|S^K kC 10.3 主波长和纯度 220 :n9~H+! 10.4 色相和纯度 221 Y{RB\}f( 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 |wQZ~Ux: 10.6 色差 226 pIiED9 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 N'P,QiR,z< 10.8 颜色渲染指数 234 s$x] fO 10.9 色差计算 235 \/'n[3x 10.10 参考文献 236 a] =\h'S 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 y4We}/-< 11.1 短脉冲 238 &> .1%x@R 11.2 群速度 239 @n*D>g 11.3 群速度色散 241 &\|<3sd( 11.4 啁啾(chirped) 245 K/v-P <g 11.5 光学薄膜—相变 245 ?3,tG z) 11.6 群延迟和延迟色散 246 O&iYGREO 11.7 色度色散 246 %C0O?q 11.8 色散补偿 249 UQ])QTrZFi 11.9 空间光线偏移 256 T,2Dr; 11.10 参考文献 258 =v$s+`cP 12 公差与误差 260 9w;J7jgOT! 12.1 蒙特卡罗模型 260
ZHECcPhz 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 fhIj+/{_O 12.2.1 误差工具 267 h?3l 12.2.2 灵敏度工具 271 Cmx2/N 12.2.2.1 独立灵敏度 271 -u9yR"n\} 12.2.2.2 灵敏度分布 275 Bi:wP/>v 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 ^@lg5d3F 12.3 参考文献 276 a {$k<@Ww 13 Runsheet 与Simulator 277 `W$0T;MPF 13.1 原理介绍 277 {-N90Oe 13.2 截止滤光片设计 277 J&ECm+2 14 光学常数提取 289 Po11EZa$a 14.1 介绍 289
i~B@(, 14.2 电介质薄膜 289 3J~kiy.nfW 14.3 n 和k 的提取工具 295 V/9"Xmv75 14.4 基底的参数提取 302 <&s)k 14.5 金属的参数提取 306 _7.GzQJ 14.6 不正确的模型 306 gq_7_Y/ 14.7 参考文献 311 QC5f:BwM 15 反演工程 313 ElR&scXi__ 15.1 随机性和系统性 313 #C;zS9(]B 15.2 常见的系统性问题 314 :Mu8W_ 15.3 单层膜 314 u4,X.3V]A 15.4 多层膜 314 hf+/kc!>i 15.5 含义 319 l&??2VO/t 15.6 反演工程实例 319 N!Wq}#&l 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 j)tCr Py 15.6.2 反演工程提取折射率 327 =#Cf5s6qt 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 t#pqXY/;D 16.1 光学性质的热致偏移 329 r>:L$_]L 16.2 应力工具 335 CziaxJ 16.3 均匀性误差 339 |;U=YRi 16.3.1 圆锥工具 339 [zTYiNa 16.3.2 波前问题 341 DPS1GO* 16.4 参考文献 343 :O'C:n<g 17 如何在Function(模块)中编写操作数 345 W^d4/] 17.1 引言 345 .W@4vrp@ 17.2 操作数 345 F'>GN}n 18 如何在Function中编写脚本 351 B==a 18.1 简介 351 s 9|a2/{ 18.2 什么是脚本? 351 5} MlZp 18.3 Function中脚本和操作数对比 351 ^M(`/1 : 18.4 基础 352 o~o6S=4,} 18.4.1 Classes(类别) 352 UC+7-y, 18.4.2 对象 352 mU3Y) 18.4.3 信息(Messages) 352 2 ]DCF 18.4.4 属性 352 aFr!PQp4{ 18.4.5 方法 353 3:~l2KIP4 18.4.6 变量声明 353 IglJEH[+ 18.5 创建对象 354 #7~tL23}] 18.5.1 创建对象函数 355 %EVV-n@ 18.5.2 使用ThisSession和其它对象 355 TvWU[=4Yk 18.5.3 丢弃对象 356 pqH(
Tbjq 18.5.4 总结 356 <=m
30{;f
18.6 脚本中的表格 357 )+w/\~@ 18.6.1 方法1 357 qb-2QPEB 18.6.2 方法2 357 |z#m 18.7 2D Plots in Scripts 358 GcZM+ c 18.8 3D Plots in Scripts 359 8_<&f%/ 18.9 注释 360 u 5Eo 18.10 脚本管理器调用Scripts 360 A{4G@k+#d 18.11 一个更高级的脚本 362 |B%BwE 18.12 <esc>键 364 O>SuZ>g+7 18.13 包含文件 365 J})$ 18.14 脚本被优化调用 366 C7b
5%a! 18.15 脚本中的对话框 368 1Nl&4 YLO 18.15.1 介绍 368 /63W\ 18.15.2 消息框-MsgBox 368 "M9TB. O 18.15.3 输入框函数 370 )BF \!sTn 18.15.4 自定义对话框 371 JNxW6 cK 18.15.5 对话框编辑器 371 }>{ L#JW 18.15.6 控制对话框 377 dysX 18.15.7 更高级的对话框 380 H5AK n*'7 18.16 Types语句 384 a9D gy_!Y 18.17 打开文件 385 d s|8lz, 18.18 Bags 387 ~A[YnJYA# 18.13 进一步研究 388 (XbMrPKG 19 vStack 389 P[rAJJN/E 19.1 vStack基本原理 389 VD9
q5tt7 19.2 一个简单的系统——直角棱镜 391 /'&.aGW4% 19.3 五棱镜 393 kZU"Xn 19.4 光束距离 396 C
'B4 mmC 19.5 误差 399 2!{_/@I\Y 19.6 二向分色棱镜 399 0)A=+zSS1 19.7 偏振泄漏 404 -O~C m}e 19.8 波前误差—相位 405 F* 3G_V 19.9 其它计算参数 405 B#HnPUUK 20 报表生成器 406 u;+%Qh 20.1 入门 406 ee&nU(pK 20.2 指令(Instructions) 406 ur/Oc24i1n 20.3 页面布局指令 406 K,x$c % 20.4 常见的参数图和三维图 407 &Q'\WA' 20.5 表格中的常见参数 408
tSEA999 20.6 迭代指令 408 ; @7 20.7 报表模版 408 4r_!>['`" 20.8 开始设计一个报表模版 409 \3%W_vU_ 21 一个新的project 413 ?-pxte8 21.1 创建一个新Job 414 9"WRI Ht'c 21.2 默认设计 415 ?@Z7O.u 21.3 薄膜设计 416 :0M'=~[ 21.4 误差的灵敏度计算 420 9M1a*frxZ 21.5 显色指数计算 422 wD<vg3e[H 21.6 电场分布 424 <WM -@J(1 后记 426 }x:\69$ CCuxC9i7 !(W[!% 书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 3xBN10R# /lf\
E= 《Essential Macleod中文手册》[attachment=121031] 2yl6~(JC+ m5e\rMN~>\ 目 录 Z -pyFK\ +DicP"~* ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 rU;
g0'4e 第1章 介绍 ..........................................................1 D",A$(lG 第2章 软件安装 ..................................................... 3
fkW3~b 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 OfD@\;L 第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 Vn)%C_-]A 第5章 软件结构 ............................................................... 21 d>YmKTk" 第6章 应用窗口 ................................................................. 44 x
HY+q; 第7章 设计窗口 .................................................................. 62 ])N|[ |$ 第8章 图形窗口 .................................................................. 100 `ifb<T 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 h^['rmd 第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 BD hLz 第11章 表格窗口 ................................................................. 116 NU|qX {- 第12章 优化和综合 ..................................................................120 3|q2rA 第13章 材料管理 ........................................................................ 149 ktN%!Mh\ 第14章 多层膜 ........................................................................... 167 6e,Apj 0 第15章 分析和设计工具 ........................................................180 .JNcY]V# 第16章 逆向工程 ................................................................ 200 .H
Fc9^.* 第17章 报告生成器 ............................................................. 208 1lbwJVY[ 第18章 堆栈 ......................................................................... 213 ]AFj&CteZ/ 第19章 功能扩展 .................................................................. 229 j -#E?&2 第20章 运行表单 .................................................................... 251 D`V6&_.p 第21章 模拟器 ...................................................................... 271 SrSG{/{ 第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 \.5F](: 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 :}^Rs9 ' 第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 b([:,T7 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 T0g0jr{ 第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 :eSc; 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 TKK,Y{{ 第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 ]GcV0&| 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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