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infotek 2023-10-11 11:59

线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

时间地点 lc(}[Z/|V  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 ~(x"Y\PEu  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 3EA+tG4KnO  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 gWGh:.*T  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 F@ld#O  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
B1k;!@@1 4  
特邀专家介绍 Koi-b  
[attachment=121028] IJk<1T7:(W  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 .jv#<"DW  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 m85H x1!p.  
课程概要 d "%6S*dL  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 IIY3/   
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 1EHL8@.M  
课程大纲 K}( @Ek  
1. Essential Macleod软件介绍 *%n(t+'q  
1.1 介绍软件 s?7"iE  
1.2 创建一个简单的设计 5_+pgJL  
1.3 绘图和制表来表示性能 s(8e)0Tl  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 r E&}B5PN=  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) j58'P 5N  
1.6 特定设计的公式技术 yfZYGhPN(  
1.7 交互式绘图 Oq[YbQ'GE  
2. 光学薄膜理论基础 ZkmY pi[  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 {:TOm0eK  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 U.pGp]\Q)G  
3. 材料管理 NRMEZ\*L  
3.1 材料模型 R*l3 zn>  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 h'"~t#r  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 >c=-uI  
3.4 基板光学常数的提取 fn, YH  
4. 光学薄膜设计优化方法 eZ|_wB'r  
4.1 参考波长与g i'3)5  
4.2 四分之一规则 <AN5>:k[pM  
4.3 导纳与导纳图 4G'-"u^g  
4.4 斜入射光学导纳 #]*]qdQWV^  
4.5 光学薄膜设计的进展 >Q2kXwN  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 FnCMr_  
4.6.1 优化目标设置  NArr2o2  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) CE7{>pl  
4.6.3 膜层锁定和链接 }t0JI3  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 w^^8*b<  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 .\7AJB\l  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 Ns$,.D  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 @e2P3K gg  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 l9naqb:iP  
5.5 如何在Function中编写脚本 zsr;37  
6. 光学薄膜系统案例 4"s/T0C  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 xm0(U0 >  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 w3FEX$`_  
6.3 Stack应用范例说明 3'!*/UnU  
7. 薄膜性能分析 oC}2 Z{  
7.1 电场分布 .RpWE.C  
7.2 公差与灵敏度分析 Qov*xRO6  
7.3 反演工程 %+oV-o\ #A  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 KvumU>c#A  
8. 真空技术 TU^s!Tj  
8.1 常用真空泵介绍 Kidbc Z  
8.2 真空密封和检漏 *})Np0k  
9. 薄膜制备技术 [tkP2%1  
9.1 常见薄膜制备技术 d0YQLh  
10. 薄膜制备工艺 '[p0+5*x  
10.1 薄膜制备工艺因素 FKy2C:R(]  
10.2 薄膜均匀性修正技术 `S|T&|ad0  
10.3 光学薄膜监控技术 w g^'oy  
11. 激光薄膜 -/R?D1kOq  
11.1 薄膜的损伤问题 {Z}zT1kA  
11.2 激光薄膜的制备流程 ~iJ@x;`  
11.3 激光薄膜的制备技术 ok{ F=z  
12. 光学薄膜特性测量 ?ajVf./Ja  
12.1 薄膜光谱测量 <f;X s(  
12.2 薄膜光学常数测量 gT2k}5d}p  
12.3 薄膜应力测量 c@ lH  
12.4 薄膜损伤测量 r85j /YK  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 ZOy^TR  
[attachment=121029]
a6'T]DW0W  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系[attachment=121027]
Bp/25jy  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=121030]
m}]\^$d  
内容简介 ?>q5Abp[  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 Wql,*|  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 *l)}o4-$  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 rSKZc`<^  
8@]vvZ2/gj  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
YXIAVSnr  
目录 _+d*ljP)l3  
Preface 1 9-E dT4=r,  
内容简介 2 5>>JQ2'W  
目录 i aK--D2@}i  
1  引言 1  q{pa _  
2  光学薄膜基础 2 is`~C  
2.1  一般规则 2 +0M0g_sk  
2.2  正交入射规则 3 U,V+qnS  
2.3  斜入射规则 6 fz<GPw  
2.4  精确计算 7 Hu"TEhW(2  
2.5  相干性 8 C /w]B[H  
2.6 参考文献 10 ]%+T+ zg(Y  
3  Essential Macleod的快速预览 10 y)b=7sU  
4  Essential Macleod的特点 32 bdHHOpXM  
4.1  容量和局限性 33 X{P=2h#g  
4.2  程序在哪里? 33 9lB$i2G>Zw  
4.3  数据文件 35 y>]Yq-  
4.4  设计规则 35 "B0I$`~wu  
4.5  材料数据库和资料库 37 z)%]# QO  
4.5.1材料损失 38 AL*M`m_  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 U3|9a8^H  
4.5.2 材料库 41 okH*2F(-  
4.5.3导出材料数据 43 \`-a'u=S  
4.6  常用单位 43 N]&:xd5  
4.7  插值和外推法 46 @k\npFKQm  
4.8  材料数据的平滑 50 "X\6tl7a|  
4.9 更多光学常数模型 54 !mK}Rim~  
4.10  文档的一般编辑规则 55 ZC3;QKw>  
4.11 撤销和重做 56 9/dADJe0b  
4.12  设计文档 57 Dq`$3ZeA  
4.10.1  公式 58 {11xjvAD  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59  RAF do  
4.10.3  沉积密度 59 R+ tQvxp#  
4.10.4 平行和楔形介质 60 T} K@ykT  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 ]p8<Vluv  
4.10.4  性能 61 URj2 evYW  
4.10.5  保存设计和性能 64 uuYeXI;  
4.10.6  默认设计 64 -(9TM*)O  
4.11  图表 64 l]S%k&  
4.11.1  合并曲线图 67 Wx|De7*  
4.11.2  自适应绘制 68 b&*N  
4.11.3  动态绘图 68 H.&"~eH  
4.11.4  3D绘图 69 U|+ c&TY  
4.12  导入和导出 73 L+_ JKc  
4.12.1  剪贴板 73 a=M/0N{!  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 H Yw7*  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 'L C0hoV  
4.13  背景 77 n,`j~.l-=>  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 2j=HxE  
4.15  生成Rugate 84 6`Diz_(  
4.16  参考文献 91 <J-.,:  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 rtz  ]PH  
5.1  Jobs 92 ]:~z#k|2@6  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 Pp`[E/ qj4  
5.3  输入材料 94 a2B9 .;F  
5.4  设计数据文件夹 95 $.3J1DU  
5.5  默认设计 95 dlBr2 9  
6  细化和合成 97 z4JhLef%  
6.1  优化介绍 97 X- `PF  
6.2  细化 (Refinement) 98 nf,Ez  
6.3  合成 (Synthesis) 100 Qb'Q4@.  
6.4  目标和评价函数 101 7towjw r  
6.4.1  目标输入 102 j9&x# U  
6.4.2  目标 103 u^( s0q  
6.4.3  特殊的评价函数 104 t(xe*xS  
6.5  层锁定和连接 104 Xr{ r&Rl  
6.6  细化技术 104 UVgDm&FF  
6.6.1  单纯形 105 k\A4sj  
6.6.1.1 单纯形参数 106 4{LKT^(!f  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 p$a+?5'Q  
6.6.2.1 Optimac参数 108 fHXz{,?/w  
6.6.3  模拟退火算法 109 R{q<V uN  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 SyI i*dH  
6.6.4  共轭梯度 111 W$:D#;jz`h  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 hHyB;(3~  
6.6.5  拟牛顿法 112 T*92o:^  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 76b2 3|  
6.6.6  针合成 113 rN`-ak  
6.6.6.1 针合成参数 114 ftP]WGSS>  
6.6.7 差分进化 114 o^Qy71Uj  
6.6.8非局部细化 115 iw I}  
6.6.8.1非局部细化参数 115 M4E==  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 QsyM[;\j:  
6.7.1  细化 116 L[MAc](me-  
6.7.2  合成 117 Wt!8.d} =  
6.8  参考文献 117 :.SwO<j  
7  导纳图及其他工具 118 vWjHHw  
7.1  简介 118 Iy Vmz'  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 ;R^=($X  
7.2.1  四分之一波长规则 119 }U qL2KXi4  
7.2.2  导纳图 120 N\85fPSMG|  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 yH]w(z5Z  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 L6J.^tpO  
7.5  斜入射导纳图 141 U|v@v@IBA  
7.6  对称周期 141 D'Uv7Mis  
7.7  参考文献 142 ;upYam"  
8  典型的镀膜实例 143 '3TfW61]  
8.1  单层抗反射薄膜 145 +HoCG;C{  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 GP_%. fO\M  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 @[~j|YH}  
8.4  W-膜层 148 3q.HZfN~  
8.5  V-膜层 149 fT5vO.a  
8.6  V-膜层高折射基底 150 @Op7OFY%  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 T*](oA@  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 @-XMox/  
8.9  四层抗反射薄膜 153 '[Bok=$B)  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 As(6E}{S  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 z 9~|Su  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 _A6e|(.ll  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 2E@g#:3  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 QaSRD/,M  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 OD).kP}s^  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 7$"n.cr :  
8.17  1/4波长堆栈 162 `]5t'Ps  
8.18  陷波滤波器 163 p`}G" DM  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 =qS\+  
8.20  褶皱 165 n(j5dN>]  
8.21  消偏振分光器1 169 ,9~qLQ0O  
8.22  消偏振分光器2 171 UGQH wz  
8.23  消偏振立体分光器 172 pW-aX)\DR  
8.24  消偏振截止滤光片 173 XF`?5G~~#  
8.25  立体偏振分束器1 174 nmClP  
8.26  立方偏振分束器2 177 rM)#}eZK!  
8.27  相位延迟器 178 s\q m  
8.28  红外截止器 179 U^&y*gX1  
8.29  21层长波带通滤波器 180 r~PVh?  
8.30  49层长波带通滤波器 181 "T~A*a^  
8.31  55层短波带通滤波器 182 W4]jx ]  
8.32  47 红外截止器 183 ~-#8j3 J;  
8.33  宽带通滤波器 184 /8LTM|(  
8.34  诱导透射滤波器 186 @}hdMVi  
8.35  诱导透射滤波器2 188 %!OA/7XbG  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 ]".SW5b_  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 1a'0cSH  
8.35  增益平坦滤波器 193 <O4W!UVg  
8.38  啁啾反射镜 1 196 7xCm"jgP  
8.39  啁啾反射镜2 198 l *+9R  
8.40  啁啾反射镜3 199 %D E_kwL  
8.41  带保护层的铝膜层 200 c:`CL<xzU  
8.42  增加铝反射率膜 201 EO G&Xa  
8.43  参考文献 202 %B04|Q  
9  多层膜 204 5]Y?NN,GR  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 \'>d.'d  
9.2  内部透过率 204 *iXaQuT  
9.3 内部透射率数据 205 #>O+!IH   
9.4  实例 206 C ,#D4  
9.5  实例2 210 EsjZ;D, c(  
9.6  圆锥和带宽计算 212 DB.)/(zWQ  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 b}Wm-]|+  
10  光学薄膜的颜色 216 z{A~d  
10.1  导言 216 dW Vm'd  
10.2  色彩 216 I Ab-O  
10.3  主波长和纯度 220 {hBnEj^@  
10.4  色相和纯度 221 .12H/F  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 KvtJ tql;  
10.6 色差 226 }cERCS\t  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 %KW NY(m  
10.8  颜色渲染指数 234 0;2ApYks  
10.9  色差计算 235 58gkE94  
10.10  参考文献 236 QI6=[  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 [}Y_O*C !  
11.1  短脉冲 238 DcmRvi)&6  
11.2  群速度 239 ~o8x3`CoF  
11.3  群速度色散 241 X?n($z/ {  
11.4  啁啾(chirped) 245 !_+ok$"d  
11.5  光学薄膜—相变 245 `WlQ<QEi  
11.6  群延迟和延迟色散 246 ,*g.?q@W2  
11.7  色度色散 246 0EBHR Y_F  
11.8  色散补偿 249 :p.f zL6X  
11.9  空间光线偏移 256 lcEUK  
11.10  参考文献 258 -k,?cEjCs  
12  公差与误差 260 jF|LPWl  
12.1  蒙特卡罗模型 260 t^8|t(Lq  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 yIqRSqM  
12.2.1  误差工具 267 |!uC [=  
12.2.2  灵敏度工具 271 l`?4O  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 =$WDB=i  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 `l+9g"q  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 bipA{VU  
12.3  参考文献 276  @zSj&4  
13  Runsheet 与Simulator 277 \_AoG8B  
13.1  原理介绍 277 KBwY _  
13.2  截止滤光片设计 277 o 5<w2(  
14  光学常数提取 289 CzG/=#IU  
14.1  介绍 289 DXx),?s>  
14.2  电介质薄膜 289 -'RD%_  
14.3  n 和k 的提取工具 295 *2r(!fJP=^  
14.4  基底的参数提取 302 sm at6p[  
14.5  金属的参数提取 306 JJu}Ed_  
14.6  不正确的模型 306 jP"yG#  
14.7  参考文献 311 Tu-I".d+  
15  反演工程 313 PAs.T4Av^  
15.1  随机性和系统性 313 X A-,  
15.2  常见的系统性问题 314 >^Y)@ J  
15.3  单层膜 314 %oiA'hz;*  
15.4  多层膜 314 K#a_7/!v/  
15.5  含义 319 vKTCS  
15.6  反演工程实例 319 GFgh{'|  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 I0(nRu<  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 rl XMrn  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 tz_WxOQ0  
16.1  光学性质的热致偏移 329 =xRxr @  
16.2  应力工具 335 E9:p A5H-j  
16.3  均匀性误差 339 ^LAdN8Cbb  
16.3.1  圆锥工具 339 bC%}1wwh  
16.3.2  波前问题 341 jn#Ok@tZ  
16.4  参考文献 343 -|`E'b81  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 *sq+ Vc(  
17.1  引言 345 XMm (D!6  
17.2  操作数 345 y\}<N6  
18  如何在Function中编写脚本 351 ]hlYmT  
18.1  简介 351 o&Sv2"2  
18.2  什么是脚本? 351 ,=y8[(h  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 'kk B>g7B  
18.4  基础 352 l8By2{pN  
18.4.1  Classes(类别) 352 A3zO&4f ]  
18.4.2  对象 352 N t_7Z  
18.4.3  信息(Messages) 352 J_>nn  
18.4.4  属性 352 E?F?)!%  
18.4.5  方法 353 y<n<uZ;  
18.4.6  变量声明 353 @-Ln* 3n  
18.5  创建对象 354 DK }1T  
18.5.1  创建对象函数 355 21.N+H'  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 t$5)6zG  
18.5.3 丢弃对象 356 T.iVY5^<  
18.5.4  总结 356 G,A;`:/  
18.6  脚本中的表格 357 M;1B}x@  
18.6.1  方法1 357 Ar1X mHq  
18.6.2  方法2 357 ,v>| Ub,  
18.7 2D Plots in Scripts 358 `&qeSEs\  
18.8 3D Plots in Scripts 359 h} <Ie <  
18.9  注释 360 5=9gH  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 {^SHIL  
18.11  一个更高级的脚本 362 #;Z+ X)  
18.12  <esc>键 364 t7b\#o  
18.13 包含文件 365 C}cYG  
18.14  脚本被优化调用 366 jGKasI`  
18.15  脚本中的对话框 368 -'Y@yIb  
18.15.1  介绍 368 h,)UB1  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 &g\?znF]H  
18.15.3  输入框函数 370 Q^\f,E\S  
18.15.4  自定义对话框 371 r[y3@SE5  
18.15.5  对话框编辑器 371 ~h6aTN  
18.15.6  控制对话框 377 - ]Mp<Y  
18.15.7  更高级的对话框 380 "xY]&  
18.16 Types语句 384 D-4\AzIb  
18.17 打开文件 385 .T }q"  
18.18 Bags 387 <%Afa#  
18.13  进一步研究 388 ~4[4"Pi>|  
19  vStack 389 DJ<F8-sb2r  
19.1  vStack基本原理 389 c;1Xu1  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 _4MT,kN  
19.3  五棱镜 393 +5IC-=ZB  
19.4 光束距离 396 f1}b;JJTsv  
19.5 误差 399 sH{ 4.tw  
19.6  二向分色棱镜 399 6qp' _?  
19.7  偏振泄漏 404 0w<qj T^U  
19.8  波前误差—相位 405 gCc::[}\Y  
19.9  其它计算参数 405 /J` ZO$  
20  报表生成器 406 ^=gzm s  
20.1  入门 406 E HY}gG)  
20.2  指令(Instructions) 406 f+j-M|A  
20.3  页面布局指令 406 p:q?8+W-r  
20.4  常见的参数图和三维图 407 DqTp*hI  
20.5  表格中的常见参数 408 )#_:5^1  
20.6  迭代指令 408 2v9T&xo=  
20.7  报表模版 408 _4h[q4Z  
20.8  开始设计一个报表模版 409 E]IPag8C  
21  一个新的project 413 v^QUYsar  
21.1  创建一个新Job 414 b\H !\A  
21.2  默认设计 415 ]^ "BLbDZ@  
21.3  薄膜设计 416 qGPIKu  
21.4  误差的灵敏度计算 420 R2!_)Rpf  
21.5  显色指数计算 422 *^b<CZd9  
21.6  电场分布 424 lH8e?zJ  
后记 426 q&N1| f7  
h|S6LgB  
}m0hq+p^  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 C.}Vm};M  
 ]6 ]Nr  
《Essential Macleod中文手册》
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&*3O+$L  
Fi!XaO  
目  录 o$,Dh?l  
Fi*j}4F1  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 m?#J`?E  
第1章 介绍 ..........................................................1 :UdH}u!Ek  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 yJ!x`RD),w  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 *)4 `"D  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 't:s6  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 / %:%la%  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 c (Gl3^  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 ZyQ+}rO  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 1}"PLq(  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 E5U{.45  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 3A5:D#  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 xp<p(y8e1d  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 :i>/aRNh1  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 Kc[Y .CH  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 q&`>&k  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 FaUc"J  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 ]fgYO+  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 =u^{Jvl[  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 "Yu';&  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 *f4BD||  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 [hT|]|fJS;  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 g9F4nExo  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 Jm(sx'qPx  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 c3NUJ~>=y  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 )5(Ko <"  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 iB=v >8l%  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 +@c-:\K%  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 P)$q  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 V%c1+h<  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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