首页 -> 登录 -> 注册 -> 回复主题 -> 发表主题
光行天下 -> 讯技光电&黉论教育 -> 上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五) [点此返回论坛查看本帖完整版本] [打印本页]

infotek 2023-09-25 08:23

上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)

时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 EfUo<E  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 ~/Ry=8   
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 Y/hay[6  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 0FW=8hFp,  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 );*GOLka  
[attachment=120542] {:dE_tqo  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 C1nQZtF R  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 w5|"cD#8A  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 )a6i8b3  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 k |Lm;g  
1. Essential Macleod软件介绍 VEn%_9(]  
1.1 介绍软件 fU8;CZnx  
1.2 创建一个简单的设计 Gm%[@7-  
1.3 绘图和制表来表示性能 #z~oc^J^T  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 *%8us~w5/  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) ILpB:g  
1.6 特定设计的公式技术 W"0#  
1.7 交互式绘图 2V0R|YUt  
2. 光学薄膜理论基础 Rza \n8  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 *V\kS  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 f9 rToH  
3. 材料管理 ML]?`qv '  
3.1 材料模型 0O:TKgb&C.  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 OGVhb>LO1  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 W%wS+3Q/  
3.4 基板光学常数的提取 xtnB: 3  
4. 光学薄膜设计优化方法 /U`"|3  
4.1 参考波长与g ?L $KlF Y  
4.2 四分之一规则 k~gQn:.Cx  
4.3 导纳与导纳图 &sllM  
4.4 斜入射光学导纳 RHBEC@d[}  
4.5 光学薄膜设计的进展 *?8Q:@:  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 V?gQ`( ,  
4.6.1 优化目标设置 #A/jGv^  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) X}Csl~W8in  
4.6.3 膜层锁定和链接  O{4m-;  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 m1<B6*iG"  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 J>'o,"D  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 `?$R_uFh:  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 " c]Mz&z  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 vZKo&jU k  
5.5 如何在Function中编写脚本 (PNvv/A  
6. 光学薄膜系统案例 FxUH ?%w  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 7~65@&P>  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 <)}*S  
6.3 Stack应用范例说明 OO$<Wgh  
7. 薄膜性能分析 ;aF / <r  
7.1 电场分布 9-@w(kMu  
7.2 公差与灵敏度分析 @fY!@xSf  
7.3 反演工程 QVP $e`4  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 I?PKc'b  
8. 真空技术 x88$#N>Q5  
8.1 常用真空泵介绍 0I cyi#N  
8.2 真空密封和检漏 +]__zm/^  
9. 薄膜制备技术 YF"D;.  
9.1 常见薄膜制备技术 }C'z$i( y  
10. 薄膜制备工艺 z[';HJ0O;  
10.1 薄膜制备工艺因素 NBeGmC|  
10.2 薄膜均匀性修正技术 wb{y]~&6K  
10.3 光学薄膜监控技术 *=I#VN*_<.  
11. 激光薄膜 cVz.ac  
11.1 薄膜的损伤问题 ?;*mSQA`J  
11.2 激光薄膜的制备流程 55;xAsG  
11.3 激光薄膜的制备技术 $v^F>*I1  
12. 光学薄膜特性测量 ~E!"YkIr  
12.1 薄膜光谱测量 p7k0pSt  
12.2 薄膜光学常数测量 E`X+fJx  
12.3 薄膜应力测量 :?S2s Ne2  
12.4 薄膜损伤测量 !~ZL  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析
[attachment=120543]
E u@TCw8@  
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541]
书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=120544]
Q~]R#S  
内容简介 \nJr jH A  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 3!d|K%J  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 a@ lK+t  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ,wq.C6;&  
('gjf l  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
X{ Nif G  
e8[ *=&  
目录 h?TE$&CL?  
Preface 1 U,]z)1#X|  
内容简介 2 sFGXW  
目录 i q/Gy&8 K  
1  引言 1 -aO3/Ik [q  
2  光学薄膜基础 2 G,XFS8{%  
2.1  一般规则 2 8kqxr&,[  
2.2  正交入射规则 3 k}BNFv8  
2.3  斜入射规则 6 2x{3'^+l  
2.4  精确计算 7 >N*QK6"=|  
2.5  相干性 8 IUZsLNW  
2.6 参考文献 10 X-ml0 =M[  
3  Essential Macleod的快速预览 10 wRuJein#  
4  Essential Macleod的特点 32 KN%Xp/lkX  
4.1  容量和局限性 33 rbJ-vEzo.#  
4.2  程序在哪里? 33 ?W#! S  
4.3  数据文件 35  b'ew Od=  
4.4  设计规则 35 O aZ~  
4.5  材料数据库和资料库 37 MVTU$ 65  
4.5.1材料损失 38 *mBEF"  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 SKYS6b  
4.5.2 材料库 41 B0YY7od  
4.5.3导出材料数据 43 ]];7ozS)X  
4.6  常用单位 43 U %KoG-#  
4.7  插值和外推法 46 oACE:h9U  
4.8  材料数据的平滑 50 ? G3OAx?<  
4.9 更多光学常数模型 54 )ei+ewVZ  
4.10  文档的一般编辑规则 55 pY:xxnE  
4.11 撤销和重做 56 EJ86k>]  
4.12  设计文档 57 3w0m:~KS6V  
4.10.1  公式 58 E2\)>YF{ P  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 #!5GGe{I  
4.10.3  沉积密度 59 .AV--oA~  
4.10.4 平行和楔形介质 60 3FS:]|oC  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 =g&0CFF<  
4.10.4  性能 61 Ya>cGaLq  
4.10.5  保存设计和性能 64 HDC`g  
4.10.6  默认设计 64 aEgzQono  
4.11  图表 64 a @TAUJ,  
4.11.1  合并曲线图 67 FS20OD  
4.11.2  自适应绘制 68 ?49wq4L;a  
4.11.3  动态绘图 68 @c&)K^v8  
4.11.4  3D绘图 69 paF2{C)4  
4.12  导入和导出 73 7gJ`G@y  
4.12.1  剪贴板 73 CE?R/uNo{  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 >Cf]uiR  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 PPmZ[N9(;  
4.13  背景 77 r_ o2d8  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 7&+Gv6E  
4.15  生成Rugate 84 .Wb),  
4.16  参考文献 91 AU >d1S.  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 "cti(0F-d  
5.1  Jobs 92 3nG(z>  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 O[8Lp?  
5.3  输入材料 94 ~JBQjb]  
5.4  设计数据文件夹 95 gzuM>lf*{  
5.5  默认设计 95 \;g{qM 8  
6  细化和合成 97 HM<V$ R  
6.1  优化介绍 97 $YW z~^f  
6.2  细化 (Refinement) 98 *ZY{^f  
6.3  合成 (Synthesis) 100 6vmkDL8{A8  
6.4  目标和评价函数 101 m(&ZNZK  
6.4.1  目标输入 102 O[-wm;_(=*  
6.4.2  目标 103 {9)LHX7dN  
6.4.3  特殊的评价函数 104 &\5T`|~)!  
6.5  层锁定和连接 104 b@,w/Uw[*  
6.6  细化技术 104 z[7U>q[E  
6.6.1  单纯形 105 fEM8/bhq  
6.6.1.1 单纯形参数 106 tFb49zbk  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 *WOA",gZ  
6.6.2.1 Optimac参数 108 6g<JPc  
6.6.3  模拟退火算法 109 ;}:"[B3$  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 y/Nvts2!C  
6.6.4  共轭梯度 111 ? Bk"3{hl  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 ogPxj KSI  
6.6.5  拟牛顿法 112 C YnBZ  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 dp+wwNe  
6.6.6  针合成 113 <6Br]a60RR  
6.6.6.1 针合成参数 114 BPC$ v\a  
6.6.7 差分进化 114 JP[BSmhAV  
6.6.8非局部细化 115 qA*QFQ'-  
6.6.8.1非局部细化参数 115 ,Kdvt@vle  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 \ar.(J  
6.7.1  细化 116 & {B,m%G  
6.7.2  合成 117 ]1gt|M^  
6.8  参考文献 117  #p\sw  
7  导纳图及其他工具 118 Inr ~9hz  
7.1  简介 118 "WK.sBFz4  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 jb77uH_  
7.2.1  四分之一波长规则 119 ;g?5V  
7.2.2  导纳图 120 \z<'6,b  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 d<!bE(  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 O^ f[ ugs  
7.5  斜入射导纳图 141 2)mKcUL-  
7.6  对称周期 141 $yOfqr  
7.7  参考文献 142 g pO@xk$  
8  典型的镀膜实例 143 KJSN)yn\  
8.1  单层抗反射薄膜 145 (swP#t5S  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 #{<Jm?sU  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 vsLn@k3  
8.4  W-膜层 148 oA73\BFfP  
8.5  V-膜层 149 8qt|2%  
8.6  V-膜层高折射基底 150 S[*e K Z  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 <y~`J`-  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 T w/CJg  
8.9  四层抗反射薄膜 153 !sfUrUu  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 tpA7"JD  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 )|\72Z~eq  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 3/4xP|  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 d(R3![:  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 =q>eoXp  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 >WG$!o+R  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 } fSbH  
8.17  1/4波长堆栈 162 !) LMn  
8.18  陷波滤波器 163 `N2zeFG  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 .rax`@\8  
8.20  褶皱 165 0I079fqk<  
8.21  消偏振分光器1 169 sL[,J[AN;  
8.22  消偏振分光器2 171 1<pbO:r  
8.23  消偏振立体分光器 172 -s4qm)\  
8.24  消偏振截止滤光片 173 7?B]X%  
8.25  立体偏振分束器1 174 H@'Y>^z?  
8.26  立方偏振分束器2 177 { 5h6nYu  
8.27  相位延迟器 178 N'|zPFk g  
8.28  红外截止器 179 BL,YJM(y  
8.29  21层长波带通滤波器 180 L,Uqt,  
8.30  49层长波带通滤波器 181 9 /q4]%`  
8.31  55层短波带通滤波器 182 kXv -B-wOj  
8.32  47 红外截止器 183 Jg |/*Or  
8.33  宽带通滤波器 184 q'{E $V)E  
8.34  诱导透射滤波器 186 0=7C-A1(D  
8.35  诱导透射滤波器2 188 eH79,!=2  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 &!Y^DR/  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 e)>Z&e,3  
8.35  增益平坦滤波器 193 bV`Zo(z  
8.38  啁啾反射镜 1 196 >:h 8T]F  
8.39  啁啾反射镜2 198 k45xtKS>d  
8.40  啁啾反射镜3 199 O*!+D-  
8.41  带保护层的铝膜层 200 e2Ba@e-  
8.42  增加铝反射率膜 201 A+NLo[swwu  
8.43  参考文献 202 u6cWLV t  
9  多层膜 204 /?HRq ?n  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 Up)b;wR  
9.2  内部透过率 204 3v5]L3  
9.3 内部透射率数据 205 prhFA3 rW.  
9.4  实例 206 A]ciox$AjW  
9.5  实例2 210 ]D%D:>9|/  
9.6  圆锥和带宽计算 212 ;./Tv84I^  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 bWG}>{fj  
10  光学薄膜的颜色 216 0t6s20*q  
10.1  导言 216 N2xgyKy~  
10.2  色彩 216 `{8Sr)  
10.3  主波长和纯度 220 i#&]{]}Qv  
10.4  色相和纯度 221 ^cBA8 1  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 h"M}Iz~|V?  
10.6 色差 226 n"d~UV^Uw  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 [m!$01=  
10.8  颜色渲染指数 234 a'XCT@B  
10.9  色差计算 235 Y |n_Ro^~  
10.10  参考文献 236 5H;*Nj@  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 .KTDQA\  
11.1  短脉冲 238 nEyP Nm )  
11.2  群速度 239 l,-smK69  
11.3  群速度色散 241 J(g!>Sp!p  
11.4  啁啾(chirped) 245 +#,t  
11.5  光学薄膜—相变 245 ,k+jx53XV  
11.6  群延迟和延迟色散 246 =}u;>[3  
11.7  色度色散 246 }a-ikFQ]  
11.8  色散补偿 249 $A8eMJEpL  
11.9  空间光线偏移 256 :KMo'pL  
11.10  参考文献 258  H[fD >  
12  公差与误差 260 ,1RW}1n  
12.1  蒙特卡罗模型 260 `:?padZG  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 j?3J-}XC  
12.2.1  误差工具 267 Cf2rRH  
12.2.2  灵敏度工具 271 Nbuaw[[iz  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 5/>G)&  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 $1#|<|  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 +!'6:F  
12.3  参考文献 276 ;(TBg-LEK  
13  Runsheet 与Simulator 277 &h8+ -  
13.1  原理介绍 277 Xl@nv9m  
13.2  截止滤光片设计 277 kSoAnJ|  
14  光学常数提取 289 _OHz6ag  
14.1  介绍 289 Pg|q{fc  
14.2  电介质薄膜 289 x.>z2.  
14.3  n 和k 的提取工具 295 X}h{xl   
14.4  基底的参数提取 302 MoO jM&9  
14.5  金属的参数提取 306 at ]Lz_\  
14.6  不正确的模型 306 nNq|v=L  
14.7  参考文献 311 E!C~*l]wJx  
15  反演工程 313 g6;O)b  
15.1  随机性和系统性 313 =+A8s$Pb  
15.2  常见的系统性问题 314 d\'M ~VQ  
15.3  单层膜 314 0JKbp*H  
15.4  多层膜 314 f+-w~cN  
15.5  含义 319 S!up2OseW  
15.6  反演工程实例 319 gXc&uR0S  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 wa@X^]D8  
15.6.2 反演工程提取折射率 327  oC >^V5  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 akrEZ7A  
16.1  光学性质的热致偏移 329 e8--qV#<  
16.2  应力工具 335 ?v8B;="#w  
16.3  均匀性误差 339 J$]d%p_I  
16.3.1  圆锥工具 339 =y[eQS$  
16.3.2  波前问题 341 f*bs{H'5  
16.4  参考文献 343 b6R0za  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 +.b~2K1  
17.1  引言 345 SI8mr`gJ  
17.2  操作数 345 ]C}z3hhk  
18  如何在Function中编写脚本 351 [ wr0TbtV  
18.1  简介 351 gy_n=jhi+  
18.2  什么是脚本? 351 xH; 4lw  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 _lu.@IX-  
18.4  基础 352 Q0Dw2>~_K  
18.4.1  Classes(类别) 352 (B7M*e  
18.4.2  对象 352 +8mfq\ Y1  
18.4.3  信息(Messages) 352 &yp_wW-  
18.4.4  属性 352 w3fi2B&q  
18.4.5  方法 353 i *nNu-g  
18.4.6  变量声明 353 'FO^VJ;ha  
18.5  创建对象 354 \ Lrg:  
18.5.1  创建对象函数 355 y3))I\QT  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 "&77`R  
18.5.3 丢弃对象 356 7f~.Qus  
18.5.4  总结 356 H [R|U   
18.6  脚本中的表格 357 cuW$%$ F  
18.6.1  方法1 357 lH T?  
18.6.2  方法2 357 : -te  
18.7 2D Plots in Scripts 358 ;_1D-Mf  
18.8 3D Plots in Scripts 359 ,^`+mP  
18.9  注释 360 . p<*n6E  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 Q<wrO  
18.11  一个更高级的脚本 362 @]gP"Pp  
18.12  <esc>键 364 %h2U(=/:  
18.13 包含文件 365 pN1W|Wv2  
18.14  脚本被优化调用 366 {Lrez E4  
18.15  脚本中的对话框 368 lJ:B9n3OzT  
18.15.1  介绍 368 s@K|zOx  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 C[|jJ9VE,  
18.15.3  输入框函数 370 )zz"DH  
18.15.4  自定义对话框 371 Kw"7M~  
18.15.5  对话框编辑器 371 `>g: :  
18.15.6  控制对话框 377 <vhlT#p   
18.15.7  更高级的对话框 380 6- s/\  
18.16 Types语句 384 xCiY jl$  
18.17 打开文件 385 SHIK=&\~-  
18.18 Bags 387 6rq:jvlx$  
18.13  进一步研究 388 H+;>>|+:~  
19  vStack 389 yAW%y  
19.1  vStack基本原理 389 G\=7d%T+  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 PZ AyHXY  
19.3  五棱镜 393 |z-A;uL<  
19.4 光束距离 396 bmGIxBRq  
19.5 误差 399 ZdY:I;)s  
19.6  二向分色棱镜 399 }BzV<8F  
19.7  偏振泄漏 404 > CZ|Vx  
19.8  波前误差—相位 405 ,_F1g<^@u  
19.9  其它计算参数 405 K.JKE"j)d  
20  报表生成器 406 wHEt;rc(  
20.1  入门 406 Vyf r>pgW1  
20.2  指令(Instructions) 406 )8!""n~  
20.3  页面布局指令 406 K\,)9:`t  
20.4  常见的参数图和三维图 407 ]wc'h>w  
20.5  表格中的常见参数 408 1\$xq9  
20.6  迭代指令 408 =j#uH`jgW  
20.7  报表模版 408 d3St Z~&r!  
20.8  开始设计一个报表模版 409 -V%"i,t  
21  一个新的project 413 kL*  DU`  
21.1  创建一个新Job 414 ?<%GY dus  
21.2  默认设计 415 6`J*{%mP  
21.3  薄膜设计 416 >h(n8wTP  
21.4  误差的灵敏度计算 420 XBh0=E?qiS  
21.5  显色指数计算 422 .Wc<(pfa  
21.6  电场分布 424 :54ik,l  
后记 426 [sy~i{Bm  
bzF>Efza  
B8:G1r5G/  
书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 NhU~'k  
J NPEyC  
《Essential Macleod中文手册》
[attachment=120545]
Fw)#[  
_)"-zbh}{  
目  录 yT.h[yv"w  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 @!"w.@ Y  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 I} q2)@  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 Hbn%CdDk1  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 KLBU8%  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 lA<n}N)j  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 Nj rF":'Y  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 |-a5|3  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 HIsIW%B  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 jhgS@g=@ZC  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 >E;kM B  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 'y[74?1  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 #>i Bu:\J  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 @.0>gmY;:  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 _~/F-  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 zo6|1xq   
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 r'/&{?Je/  
Kkcb' aDR  
价  格:400元
infotek 2023-10-11 11:55
对课程和书籍感兴趣的小伙伴们,可以联系我
infotek 2023-10-20 08:54
课程最后报名中,有兴趣的小伙伴别错过
查看本帖完整版本: [-- 上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五) --] [-- top --]

Copyright © 2005-2025 光行天下 蜀ICP备06003254号-1 网站统计