上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)
时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 q]2}UuM|U 授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天 AM 9:00-PM 16:00 'SsPx&)l 授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 8 h55$j 课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 -HO6K)ur 课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 \Sz4Gr0g3Z [attachment=120542] ]H@v 易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 F!
|TW6)gv 获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 DMy4"2
o 随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 |:!EHFr 本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 <|mE9u 1. Essential Macleod软件介绍 oVKsic? 1.1 介绍软件 9\\@I
=; 1.2 创建一个简单的设计 f(EYx)gZ 1.3 绘图和制表来表示性能 m0dFA<5- 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 {s9y@c*15. 1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) "~.8eKRQ 1.6 特定设计的公式技术 \c5#\1< 1.7 交互式绘图 )Mm;9UA 2. 光学薄膜理论基础 S
jC)6mo 2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 `kaR@t 2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 u *#-7 3. 材料管理 wa-_O< 3.1 材料模型 ^sr:N5~z` 3.2 介质薄膜光学常数的提取 Pf^Ly97 3.3 金属薄膜光学常数的提取 CDwFVR'_Af 3.4 基板光学常数的提取 X^?|Sz<^E 4. 光学薄膜设计优化方法 .j'@K+<45 4.1 参考波长与g H| eD/6K 4.2 四分之一规则 6!gtve_
4.3 导纳与导纳图 r7]?g~zb 4.4 斜入射光学导纳 \4]zNV ~x 4.5 光学薄膜设计的进展 >*<6 zQf 4.6 Macleod软件的设计与优化功能 r1^m#!=B 4.6.1 优化目标设置 SNopAACf1 4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) {="Su{i}} 4.6.3 膜层锁定和链接 *Bb|N--jI 5. Essential Macleod中各个模块的应用 A*-]J=:E { 5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 VR5e CJ:i 5.2 光通信用窄带滤光片模拟 !#_h2a 5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 0C"PC:h5 5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 l&e5_]+% 5.5 如何在Function中编写脚本 $)kBz*C[ 6. 光学薄膜系统案例 x):k#cu[L 6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 ?-RoqF 6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 X*c_^g{ 6.3 Stack应用范例说明 D-2v>l_ 7. 薄膜性能分析 yP1Y3Tga= 7.1 电场分布 %O4}i@Fe 7.2 公差与灵敏度分析
01UR 7.3 反演工程 Npf7 p 7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 tehI!->l 8. 真空技术 q|Pt>4c5? 8.1 常用真空泵介绍 $jUS[.S_|I 8.2 真空密封和检漏 jU3;jm.) 9. 薄膜制备技术 XeIUdg4>R 9.1 常见薄膜制备技术 >TQBRA;' 10. 薄膜制备工艺 8R??J>h5\ 10.1 薄膜制备工艺因素 a2klOX{ 10.2 薄膜均匀性修正技术 7/U<\(V!g 10.3 光学薄膜监控技术 N8MlT \+r 11. 激光薄膜 ftI+#0?[! 11.1 薄膜的损伤问题 q|]0on~] 11.2 激光薄膜的制备流程 |)72E[lL 11.3 激光薄膜的制备技术 bVAgul=__ 12. 光学薄膜特性测量 =p&'_a^$ 12.1 薄膜光谱测量
6Qzu- 12.2 薄膜光学常数测量 +DbWMm 12.3 薄膜应力测量 5M\=+5wB 12.4 薄膜损伤测量 ma]F%E+$ 12.5 薄膜形貌、结构与组分分析[attachment=120543] _w5~/PbWt
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541] 书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) [attachment=120544] EV?47\~
内容简介 5w [= Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 N|Cy!E=d 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 4W//Oc@e 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 0Z);.l^ |q.:hWYFpM
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 L/iVs`qF <@AsCiQF 目录 V^$rH< Preface 1 S'-`\%@7 内容简介 2 ,b.4uJg' 目录 i CAo )v,f 1 引言 1 )T};Q: 2 光学薄膜基础 2 %[\Ft 2.1 一般规则 2 *_).UAP. 2.2 正交入射规则 3 E][{RTs 2.3 斜入射规则 6 vo( j@+dz 2.4 精确计算 7 5q_OuZ/6 2.5 相干性 8 z)Q^j>% 2.6 参考文献 10 6nWx>R< 3 Essential Macleod的快速预览 10 @aV~.!! 4 Essential Macleod的特点 32 @gqs4cg{f 4.1 容量和局限性 33 j_a~)o-p 4.2 程序在哪里? 33 | 8L`osg 4.3 数据文件 35 rX>y>{w~ 4.4 设计规则 35 %}ApO{ 4.5 材料数据库和资料库 37 gM5p1?E 4.5.1材料损失 38 =u3@ Dhw 4.5.1材料数据库和导入材料 39 ]-5jgz" 4.5.2 材料库 41 0iZ9a/v 4.5.3导出材料数据 43 T;[c<gc/ 4.6 常用单位 43 e9_O/i N 4.7 插值和外推法 46 lKhh=Pc2 4.8 材料数据的平滑 50 ~j&:)a'^
4.9 更多光学常数模型 54 6[h$r/GXh" 4.10 文档的一般编辑规则 55 &<P^Tvqq& 4.11 撤销和重做 56 Qdr-GODx 4.12 设计文档 57 wAOVH]. 4.10.1 公式 58 5f*'wA 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 ,S0~:c:) 4.10.3 沉积密度 59 h. (;GJO 4.10.4 平行和楔形介质 60 'iISbOM 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 UrcN? 4.10.4 性能 61 'GzhZ`E6 4.10.5 保存设计和性能 64 7fTg97eF 4.10.6 默认设计 64 "QFADk1 4.11 图表 64 \y )4`A 4.11.1 合并曲线图 67 @oc%4~zl 4.11.2 自适应绘制 68 rD
U6 5j 4.11.3 动态绘图 68 (F
' 4.11.4 3D绘图 69 i`nw"8 4.12 导入和导出 73 3&nc' 4.12.1 剪贴板 73 qddT9U|8~ 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 6BN(^y#-X 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 JX0_UU 4.13 背景 77 KIBZQ.uG 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 s>``-
]3 4.15 生成Rugate 84 jKV?!~/F 4.16 参考文献 91 I;Fy
k70w; 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 7RFkHME 5.1 Jobs 92 xOyL2 5.2 创建一个新Job(工作) 93 6ym)F!t8l 5.3 输入材料 94 $F()`L{Tj 5.4 设计数据文件夹 95 r\ Yur 5.5 默认设计 95 f uNXY-; 6 细化和合成 97 rHBjR_L.2 6.1 优化介绍 97 JR<-'
6.2 细化 (Refinement) 98 bl>b/u7/6 6.3 合成 (Synthesis) 100 {BCjVmY 6.4 目标和评价函数 101 =egi?Ne 6.4.1 目标输入 102 5YH
mp7c-z 6.4.2 目标 103 UR2)e{RXg 6.4.3 特殊的评价函数 104 %e<dV\x?T 6.5 层锁定和连接 104 !K~$-jlT 6.6 细化技术 104 EEZ2Gu6c 6.6.1 单纯形 105 GXlg% 6.6.1.1 单纯形参数 106 /cen#pb 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 C$ `Y[w 6.6.2.1 Optimac参数 108 [_hhC 6.6.3 模拟退火算法 109 i6:yNb =' 6.6.3.1 模拟退火参数 109 j"u)/A8* 6.6.4 共轭梯度 111 _O,ZeES 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 rPpAg 6.6.5 拟牛顿法 112 *>$)#?t 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 T>%ny\?tHW 6.6.6 针合成 113
G5f57F 6.6.6.1 针合成参数 114 P2JRsZ. 6.6.7 差分进化 114 gbf=H8] 6.6.8非局部细化 115 "I FGW4FnL 6.6.8.1非局部细化参数 115 E(LE*J 6.7 我应该使用哪种技术? 116 %ys}Q!gR 6.7.1 细化 116 pP,bW~rk 6.7.2 合成 117 Hll}8d6[ 6.8 参考文献 117 rg/vxTl 7 导纳图及其他工具 118 1+}Ud.v3VW 7.1 简介 118 =T4w: 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 NB+O; 7.2.1 四分之一波长规则 119 ;O|63 7.2.2 导纳图 120 VDY1F_Fk 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 HWOH8q{f! 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 r$Qh`[< 7.5 斜入射导纳图 141 jUSr t)o03 7.6 对称周期 141 Z`c{LYP,y" 7.7 参考文献 142 xG/qDc 8 典型的镀膜实例 143 AK?j1Pk 8.1 单层抗反射薄膜 145 qDd/wR,44 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 VVl-cU 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 q#3X*!) 8.4 W-膜层 148 Bt3=/<.\ 8.5 V-膜层 149 lFY8^#@ 8.6 V-膜层高折射基底 150 r!,V_a4n 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 bI(98V,t 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 [V0 h9! 8.9 四层抗反射薄膜 153 7!nAWlQ&-E 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 zRFM/IYC 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 S`w)b'B!M 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 ~GYtU9s5 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 9W$)W 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 hO@3-SRa,k 8.15十五层宽带抗反射膜 159 [`\Qte%UH 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 7b2<,
.E 8.17 1/4波长堆栈 162 BmXGk 8.18 陷波滤波器 163 TN`:T.B 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 x's-UO"^ 8.20 褶皱 165 !I_4GE, 8.21 消偏振分光器1 169 8:fiO|~% 8.22 消偏振分光器2 171 SH|$Dg 8.23 消偏振立体分光器 172 0 %+k>(@R 8.24 消偏振截止滤光片 173 ,m]q+7E 8.25 立体偏振分束器1 174 hj,x~^cS 8.26 立方偏振分束器2 177 Mwc3@ 8.27 相位延迟器 178 ?='9YM 8.28 红外截止器 179 ZE`{J=, 8.29 21层长波带通滤波器 180 X&Lt?e,& 8.30 49层长波带通滤波器 181 &}1)]6q$ 8.31 55层短波带通滤波器 182 ]]3D`
F} 8.32 47 红外截止器 183 q8>Q,F`BA 8.33 宽带通滤波器 184 q/?_djv 8.34 诱导透射滤波器 186 =C)1NJx&~ 8.35 诱导透射滤波器2 188 `oBzt|f5 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 Kjw\SQ)2~ 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 1PSb72h< 8.35 增益平坦滤波器 193 sc60:IxgI 8.38 啁啾反射镜 1 196 E76:}( 8.39 啁啾反射镜2 198 S
&u94hlC 8.40 啁啾反射镜3 199 P7-3Vf_L 8.41 带保护层的铝膜层 200 )zo ;r!eP 8.42 增加铝反射率膜 201 cC.DBYV+- 8.43 参考文献 202 2_X0Og8s[ 9 多层膜 204 "g-NUl`' 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 aa/9o] 9.2 内部透过率 204 9<S-b |!@ 9.3 内部透射率数据 205 +)SX 9.4 实例 206 ,RQ-w2j? 9.5 实例2 210 aK'r=NU 9.6 圆锥和带宽计算 212 to7)gOX( 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 A4' aB0^ 10 光学薄膜的颜色 216 ( Iew%U 10.1 导言 216 a0.XJR{T" 10.2 色彩 216 pdSyx>rJ 10.3 主波长和纯度 220 ^ZG 1 10.4 色相和纯度 221 -S@: 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 Sdp1h0E}7= 10.6 色差 226 \ua.%| 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 v<1;1m 10.8 颜色渲染指数 234 *en{pR' 10.9 色差计算 235 :cTi$n 10.10 参考文献 236 x]Ef}g 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 &&O=v]6,V 11.1 短脉冲 238 Xl;N=fc 11.2 群速度 239 1~Nz6 11.3 群速度色散 241 M .,|cx 11.4 啁啾(chirped) 245 z/b*]"g, 11.5 光学薄膜—相变 245 ] ?(=rm9u 11.6 群延迟和延迟色散 246 *F0N'* 11.7 色度色散 246 :Kiu*&{ 11.8 色散补偿 249 >pKI' 11.9 空间光线偏移 256 zYgLGwi{ 11.10 参考文献 258
r DuG[" 12 公差与误差 260 uypD`%pC 12.1 蒙特卡罗模型 260 X*KT=q^?n 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 *?{)i~ 12.2.1 误差工具 267 RswR DLl 12.2.2 灵敏度工具 271 K#jm6Xh?E 12.2.2.1 独立灵敏度 271 Cb.Aw! 12.2.2.2 灵敏度分布 275 }R^{<{KVJ 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 k:sh:G+=$d 12.3 参考文献 276 Y2Bu,/9^ 13 Runsheet 与Simulator 277 GfDA5v[ 13.1 原理介绍 277 zw?6E8$h 13.2 截止滤光片设计 277 +Ji dP 14 光学常数提取 289 ;XT$rtuX 14.1 介绍 289 X`&E,;bIb 14.2 电介质薄膜 289
n" sGI 14.3 n 和k 的提取工具 295 A Ho<E"R\ 14.4 基底的参数提取 302 SPBXI[[- 14.5 金属的参数提取 306 8Xr"4;}f+ 14.6 不正确的模型 306 OR3TRa XD 14.7 参考文献 311 *h UrE 15 反演工程 313 c!zu0\[Id 15.1 随机性和系统性 313 \ CYu; 15.2 常见的系统性问题 314 rAWBuEU;! 15.3 单层膜 314 VuGSP]$q 15.4 多层膜 314 g(1'i 1 15.5 含义 319 _wIAr 15.6 反演工程实例 319 VrpYBU 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 3jeR;N]x 15.6.2 反演工程提取折射率 327 % uKDcj 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 3hkA`YSYt 16.1 光学性质的热致偏移 329 a`}-^;}SW 16.2 应力工具 335 [yz;OoA:; 16.3 均匀性误差 339 ?pFHpz 16.3.1 圆锥工具 339 rVLA"x 9u 16.3.2 波前问题 341
u!(|y9p 16.4 参考文献 343
&f[[@EF7 17 如何在Function(模块)中编写操作数 345 :H~r
_>E 17.1 引言 345 "xWC49 17.2 操作数 345 X:YxsZQ5Y 18 如何在Function中编写脚本 351 \-^3Pe, 18.1 简介 351 kns[b [!H 18.2 什么是脚本? 351 c8(.bmvF 18.3 Function中脚本和操作数对比 351 *{uu_O 18.4 基础 352 xaPTTa 18.4.1 Classes(类别) 352 # aC}\ 18.4.2 对象 352 Q,>AT$| 18.4.3 信息(Messages) 352 bcQ$S;U) 18.4.4 属性 352 PWTAy\ 18.4.5 方法 353 W*P/~U= 18.4.6 变量声明 353 @ ~PL|Pp_ 18.5 创建对象 354 cng1k
18.5.1 创建对象函数 355 s;>jy/o0 s 18.5.2 使用ThisSession和其它对象 355 )pg?Z M9 18.5.3 丢弃对象 356 nF=h|rN 18.5.4 总结 356 wEdXaOEB5 18.6 脚本中的表格 357 ,$*$w< 18.6.1 方法1 357 'INdZ8j_ 18.6.2 方法2 357 ur;8uv2o 18.7 2D Plots in Scripts 358 \5Hfe;ny-~ 18.8 3D Plots in Scripts 359 zzM 'uo 18.9 注释 360 \2uQ"kJC 18.10 脚本管理器调用Scripts 360 GZse8ng 18.11 一个更高级的脚本 362 5WEF^1 18.12 <esc>键 364 )AnX[:y 18.13 包含文件 365 B7cXbUAQs 18.14 脚本被优化调用 366 *\emRI> 18.15 脚本中的对话框 368 gP`8hNwR 18.15.1 介绍 368 ^hU7QxW 18.15.2 消息框-MsgBox 368 w9vqFtj 18.15.3 输入框函数 370 t'^/}=c- 18.15.4 自定义对话框 371 hS<+=3
<M 18.15.5 对话框编辑器 371 }=NjFK_6 18.15.6 控制对话框 377 tv5SQ+AI3
18.15.7 更高级的对话框 380 n<?:!f` 18.16 Types语句 384 8dP^zjPj 18.17 打开文件 385 >=wlS\:" 18.18 Bags 387 h&&ufF]D 18.13 进一步研究 388 ENygD 19 vStack 389 QDs]{F# 19.1 vStack基本原理 389 c'[l%4U8[ 19.2 一个简单的系统——直角棱镜 391 <f1Pj 19.3 五棱镜 393 8@Pv
nOL 19.4 光束距离 396 -Zkl\A$> 19.5 误差 399
'RXhE 19.6 二向分色棱镜 399 PC/Oo~Gx 19.7 偏振泄漏 404 5EM(3eY ^q 19.8 波前误差—相位 405 0:Xvch0 19.9 其它计算参数 405 -|T.APxB 20 报表生成器 406 (z\@T`6` 20.1 入门 406 tAefBFu 20.2 指令(Instructions) 406 Pr9$(6MX 20.3 页面布局指令 406 6Wl+5
a6V 20.4 常见的参数图和三维图 407 YuFJJAJ 20.5 表格中的常见参数 408 Z%k)'%_ 20.6 迭代指令 408 3 cu`U` 20.7 报表模版 408 QYPsqkF* 20.8 开始设计一个报表模版 409 -b8Vz}Y 21 一个新的project 413 #2s$dI 21.1 创建一个新Job 414 DR;rK[f 21.2 默认设计 415 h#a,<B| 21.3 薄膜设计 416 O)n"a\LD 21.4 误差的灵敏度计算 420 IZ/+RO n 21.5 显色指数计算 422 Pd6 p)zj 21.6 电场分布 424 |\Nu+w 后记 426 h${+{1](6 e<#t]V `{#0C- 书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 J4&d6[40 (
$A0b 《Essential Macleod中文手册》[attachment=120545] 1YL6:5n VyK[*kyN 目 录 },lHa!<^ ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 LB1LQ0M 第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 D6fry\ 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 V4PI~"4q#1 第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 @m[q0G} 第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 c 2t<WRG 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 Iy% fg',% 第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 mII7p LbQ 第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 %ukFn
&-2@ 第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 pUi|&F K"> 第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 (e.?). e 第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 )RG@D\t , 第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 ;/l$&: 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297
+uZ,}J 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 LhO%^`vu 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 w/&)mm{ 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 Z\c^CN 8`~M$5! 价 格:400元
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