上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)
时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 3aq'JVq 授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天 AM 9:00-PM 16:00 kL1<H%1' 授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 3'.@aMA@ 课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问
I6
?(@, 课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 k^Qf | [attachment=120542]
] :;x,$k 易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 gl+d0<Rzw 获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 G{!er:Vwdh 随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。
E4 eXfu 本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 r>fGj\#R = 1. Essential Macleod软件介绍 $ztsb V} 1.1 介绍软件 _ 94
W@dW 1.2 创建一个简单的设计 'O(=Pz 1.3 绘图和制表来表示性能 VVDN3 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 upuN$4m&{ 1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) 0cycnOd 1.6 特定设计的公式技术 &MSU<S?1 1.7 交互式绘图 M?lh1Yu" 2. 光学薄膜理论基础 ]$ "eGHX 2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 L"&T3i 2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 gNEcE9y2 3. 材料管理 MOD&3>NI 3.1 材料模型 o^/
#i`) 3.2 介质薄膜光学常数的提取 !uGfS' Vl 3.3 金属薄膜光学常数的提取 W q<t+E[ 3.4 基板光学常数的提取 fF)Q;~_VA 4. 光学薄膜设计优化方法 6&x\!+]F8 4.1 参考波长与g G[mqLI{q 4.2 四分之一规则 $/M-@3wro 4.3 导纳与导纳图 <(KCiM=E$ 4.4 斜入射光学导纳 5e+j51 4.5 光学薄膜设计的进展 :gV~L3YW5 4.6 Macleod软件的设计与优化功能 FY'0?CT$ 4.6.1 优化目标设置 J|BElBY 4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) FC1rwXL( 4.6.3 膜层锁定和链接 Y2DL%'K^ 5. Essential Macleod中各个模块的应用 OV]xo8a; 5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 fi
HE`]0 5.2 光通信用窄带滤光片模拟 $YX{gk> 5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 ipn-HUrE@ 5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 i%9vZ 5.5 如何在Function中编写脚本 tL OGj?/r 6. 光学薄膜系统案例 |3FI\F;^q 6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 K(?V]Mxl6 6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 =v<w29P(g 6.3 Stack应用范例说明 st)is4 7. 薄膜性能分析 Z^V;B _ 7.1 电场分布 qO"QSSbZqQ 7.2 公差与灵敏度分析 ]Uwp\2Bc 7.3 反演工程 dCoP
qKy 7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 t+KW=eW 8. 真空技术 Ixn|BCi60A 8.1 常用真空泵介绍 sg,\!' 8.2 真空密封和检漏 "zcAYg^U 9. 薄膜制备技术 []A9j?_w 9.1 常见薄膜制备技术 Dd1k? 10. 薄膜制备工艺 6>)fNCe` 10.1 薄膜制备工艺因素 ]S%_&ZMCM 10.2 薄膜均匀性修正技术 -
jZAvb 10.3 光学薄膜监控技术 ''9]`B,:a0 11. 激光薄膜 wG)e8,# 11.1 薄膜的损伤问题 MQP9^+f)O? 11.2 激光薄膜的制备流程 {O>Td9
11.3 激光薄膜的制备技术 f4p*!e 12. 光学薄膜特性测量 _5 Lcr) 12.1 薄膜光谱测量 c= t4 gf 12.2 薄膜光学常数测量 1#x5
o2n 12.3 薄膜应力测量 p-"C^=l 12.4 薄膜损伤测量 K.yc[z)un 12.5 薄膜形貌、结构与组分分析[attachment=120543] n=-vOa%
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541] 书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) [attachment=120544] >IS4
内容简介 -dovk?'Gj
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 zCJ"O9G<V 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 .h
<=C&Yg 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ]lA}5 _zDS-e@
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 C+/EPPi gba1R 目录 m u9,vH Preface 1 <*J"6x 内容简介 2 #v(As)4^ 目录 i 6|p8_[e` 1 引言 1 ,IhQ %)l 2 光学薄膜基础 2 UhJS=YvT 2.1 一般规则 2 _kBmKE 2.2 正交入射规则 3 yreH/$Ou8 2.3 斜入射规则 6 dXDyY 2.4 精确计算 7 N$>Ml!J 2.5 相干性 8 ED8{ 2.6 参考文献 10 %S^ke`MhF 3 Essential Macleod的快速预览 10 gA=Pz[i)p 4 Essential Macleod的特点 32 1CJ1-]S(3 4.1 容量和局限性 33 nrE.0Ue1 4.2 程序在哪里? 33 Uhvy2}w 4.3 数据文件 35 y3(~8n 4.4 设计规则 35 8o:h/F 4.5 材料数据库和资料库 37 F
lVG, Z 4.5.1材料损失 38 \#biwX 4.5.1材料数据库和导入材料 39 kDJYEI9j> 4.5.2 材料库 41 ,sj(g/hg 4.5.3导出材料数据 43 f]10^y5& 4.6 常用单位 43 L__{U_p 4.7 插值和外推法 46 yUcU-pQ 4.8 材料数据的平滑 50 G-D}J2r=F 4.9 更多光学常数模型 54 v "2A? 4.10 文档的一般编辑规则 55 EQoK\.;
G~ 4.11 撤销和重做 56 F+G+XtOS 4.12 设计文档 57 r!w4Br0 4.10.1 公式 58 Eva&FHRTY 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 4NRj>y 4.10.3 沉积密度 59 !gyW15z' 4.10.4 平行和楔形介质 60 -^_^ByJe 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 -c8h!.Q$ 4.10.4 性能 61 Jm=3%H 4.10.5 保存设计和性能 64 QX?moW6UW 4.10.6 默认设计 64 YO.ddy*59 4.11 图表 64 w?_'sP{pd 4.11.1 合并曲线图 67 {y{O ze 4.11.2 自适应绘制 68 F'wG% 4.11.3 动态绘图 68 ~Q^.7.-T 4.11.4 3D绘图 69 OtAAzc!dQ 4.12 导入和导出 73 T
g(\7Kq 4.12.1 剪贴板 73 E}zGY2Xx 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 u=PLjrB~} 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 Q-iBK*-w 4.13 背景 77 $2]>{g 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 v"Bm4+c&0 4.15 生成Rugate 84 Z9MU%*N 4.16 参考文献 91 1e9~):C~W 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 yz>S($u 5.1 Jobs 92 \u6.*w5TI 5.2 创建一个新Job(工作) 93 U
|eh 5.3 输入材料 94 +i /4G.=* 5.4 设计数据文件夹 95 `o{_+Li9 5.5 默认设计 95 `)8SIx 6 细化和合成 97 lRS'M,/ 6.1 优化介绍 97 VeEa17g& 6.2 细化 (Refinement) 98 f\hQ>MLzt 6.3 合成 (Synthesis) 100 a_VWgPVdDS 6.4 目标和评价函数 101 1LSD,t| 6.4.1 目标输入 102 TrgKl2xfx 6.4.2 目标 103 3:w_49~:~ 6.4.3 特殊的评价函数 104 !gsrPM 6.5 层锁定和连接 104 ]T40VGJ:h 6.6 细化技术 104 5ld?N2<8/ 6.6.1 单纯形 105 o=zl{tZV 6.6.1.1 单纯形参数 106 S]}}r) 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 bO('y@)X 6.6.2.1 Optimac参数 108 ~USyN'5lU7 6.6.3 模拟退火算法 109 `.~*pT*u 6.6.3.1 模拟退火参数 109 h`v T[u~l 6.6.4 共轭梯度 111 >CcDG 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 j:8Pcx 6.6.5 拟牛顿法 112 H:Q4!< 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 WK0IagYw 6.6.6 针合成 113 '"hSX= 6.6.6.1 针合成参数 114 ;B }4pv} 6.6.7 差分进化 114 /,<s9
: 6.6.8非局部细化 115 2h@&yW2j 6.6.8.1非局部细化参数 115 FUL'=Xo 6.7 我应该使用哪种技术? 116 1;,<UHF8N 6.7.1 细化 116 NTGWI$ 6.7.2 合成 117 qx0F*EH| 6.8 参考文献 117 roi,?B_8 7 导纳图及其他工具 118 }QCn>LXE 7.1 简介 118 J_<6;# 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 IQ$ 6}. 7.2.1 四分之一波长规则 119 pFBK'NE 7.2.2 导纳图 120 m}beT~FT_ 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 cUw$F{|W 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 pOB<Bx5t 7.5 斜入射导纳图 141 %Yg|QBm| 7.6 对称周期 141 }dU!PZ9N) 7.7 参考文献 142 7pyaHe 8 典型的镀膜实例 143 y\:Ma7V 8.1 单层抗反射薄膜 145 L|'B* 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 #op0|:/N 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 m3(p7Z^Bq 8.4 W-膜层 148 fCX8s(|F 8.5 V-膜层 149 "d0D8B7HI@ 8.6 V-膜层高折射基底 150 s=K?-O 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 tHM0]Gb} 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 W]>%*n 8.9 四层抗反射薄膜 153 YKOj 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 fL-$wK<p< 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 +KTHZpp!c2 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 rzvKvGd#N 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 Z(LTHAbBk| 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 q(2ZJn13f 8.15十五层宽带抗反射膜 159 g<$2#c} 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 0<f.r~ 8.17 1/4波长堆栈 162 C/9]TkX}q 8.18 陷波滤波器 163 NE Zu?g 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 #D ]CuSi 8.20 褶皱 165 oDt{;S8|] 8.21 消偏振分光器1 169 {#pwr WG 8.22 消偏振分光器2 171 mO8/eVws[M 8.23 消偏振立体分光器 172 bFH`wLW 8.24 消偏振截止滤光片 173 >V\^oh)t]t 8.25 立体偏振分束器1 174 f)r6F JLU 8.26 立方偏振分束器2 177 t4hc X[ 8.27 相位延迟器 178 0fqycGSmU 8.28 红外截止器 179 /cvMp#<] 8.29 21层长波带通滤波器 180 Nz;\PS 8.30 49层长波带通滤波器 181 2,|;qFJY-@ 8.31 55层短波带通滤波器 182 Pl2eDv-y 8.32 47 红外截止器 183 =NNxe"Kd;U 8.33 宽带通滤波器 184 uZI7,t -7 8.34 诱导透射滤波器 186 AYp~;@ 8.35 诱导透射滤波器2 188 bUYjmb2g) 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 M[Nv> 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 &$l#0?Kc^ 8.35 增益平坦滤波器 193 Fw}|c 8.38 啁啾反射镜 1 196 K(WKx7Kky^ 8.39 啁啾反射镜2 198 ":GC}VIS 8.40 啁啾反射镜3 199 MGre_=Dm_ 8.41 带保护层的铝膜层 200 uW!saT5o 8.42 增加铝反射率膜 201 3od16{YH 8.43 参考文献 202 0y+i?y
9 9 多层膜 204 cF?0=un 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 dt"& 9.2 内部透过率 204 (qz)3Fa 9.3 内部透射率数据 205 VC%.u.< F 9.4 实例 206 Io&HzQW^a 9.5 实例2 210 q[/pE7FL 9.6 圆锥和带宽计算 212 #5{BxX&\ 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 lXzm) 10 光学薄膜的颜色 216 S.<4t*, 10.1 导言 216 [8 H:5Ho 10.2 色彩 216 l@-h.tS 10.3 主波长和纯度 220 /{W6]6^ 10.4 色相和纯度 221 tE-g]y3 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 ?zbW z=nq 10.6 色差 226 8lA,3'z 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 -8<vW e 10.8 颜色渲染指数 234 :fq4oHA# 10.9 色差计算 235 Htln <N 10.10 参考文献 236 t*u#4I1 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 fc[_~I' 11.1 短脉冲 238 n+i=Ff
11.2 群速度 239 ~l*<LXp8 11.3 群速度色散 241 ErQ6a%~, 11.4 啁啾(chirped) 245 c&
bms)Jwa 11.5 光学薄膜—相变 245 >7S@3,C3ke 11.6 群延迟和延迟色散 246 ;Zr7NKs 11.7 色度色散 246 m4Ue) 11.8 色散补偿 249 Zj1bG{G=i 11.9 空间光线偏移 256 Z&P\}mm 11.10 参考文献 258 TY'61xWi 12 公差与误差 260 Vo6g /h?` 12.1 蒙特卡罗模型 260 -|>T?
t'K 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 1xkrhqq 12.2.1 误差工具 267 \j3dB
tc 12.2.2 灵敏度工具 271 Re
%dNxJ= 12.2.2.1 独立灵敏度 271 D!.1R!(Z 12.2.2.2 灵敏度分布 275 3wcFR0f 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 G.v(2~QFd 12.3 参考文献 276 p8?v
o?^ 13 Runsheet 与Simulator 277 Mw)6,O` 13.1 原理介绍 277 #.$y 13.2 截止滤光片设计 277 _{gqi$Mi 14 光学常数提取 289 {IaDZ/XS6 14.1 介绍 289 %~gI+0HK 14.2 电介质薄膜 289 BMu Efa^ 14.3 n 和k 的提取工具 295 t8rFn 14.4 基底的参数提取 302 T#*H 14.5 金属的参数提取 306 Au}l^&,zN 14.6 不正确的模型 306 pe\Nwq 14.7 参考文献 311 2CneRKQy 15 反演工程 313 7')W+`o8eL 15.1 随机性和系统性 313 mtn^+* 15.2 常见的系统性问题 314 xIC@$GP 15.3 单层膜 314 pRL:,q\ 15.4 多层膜 314 n+te5_F 15.5 含义 319 K7K/P{@9[9 15.6 反演工程实例 319 o[fg:/5)A 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 &
d2`{H 15.6.2 反演工程提取折射率 327 Y0A(-" 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 X;Sb^c"j1 16.1 光学性质的热致偏移 329 hpPacN 16.2 应力工具 335 +*?l">?|F 16.3 均匀性误差 339 FO:L+&hr?> 16.3.1 圆锥工具 339 y_=y% 16.3.2 波前问题 341 ;l
ZKgi8` 16.4 参考文献 343 ) ba~7A 17 如何在Function(模块)中编写操作数 345 g= Vu'p 3u 17.1 引言 345 x3+{Y 17.2 操作数 345 @z{SDM 18 如何在Function中编写脚本 351 t"q'"FX 18.1 简介 351 [H>u'fy:C 18.2 什么是脚本? 351 V|$PO
Qa3 18.3 Function中脚本和操作数对比 351 !*NDsC9 18.4 基础 352 /#H P;>!n 18.4.1 Classes(类别) 352 #S'uqP! 18.4.2 对象 352 J ~3m7 18.4.3 信息(Messages) 352 ,_Bn{T=U 18.4.4 属性 352 ( I#6!Yt9J 18.4.5 方法 353 V<jj'dZfW 18.4.6 变量声明 353 D5snaGss9a 18.5 创建对象 354 QOSMV#Nw% 18.5.1 创建对象函数 355 9&AO 18.5.2 使用ThisSession和其它对象 355 jYRSV7d 18.5.3 丢弃对象 356 ~ILv*v@m 18.5.4 总结 356 xd^Pkf 18.6 脚本中的表格 357 k'#3fz\ 18.6.1 方法1 357 i\ X3t5 18.6.2 方法2 357 ]0ErT9 18.7 2D Plots in Scripts 358 Vb\g49\o/ 18.8 3D Plots in Scripts 359 Babzrt- 18.9 注释 360 !V3+(o1 18.10 脚本管理器调用Scripts 360 a'?;;ZC- 18.11 一个更高级的脚本 362 6{=U=
* 18.12 <esc>键 364 `?(J(H 18.13 包含文件 365 8TT#b?d 18.14 脚本被优化调用 366 xw
43P. 18.15 脚本中的对话框 368 $jE<n/8 18.15.1 介绍 368 H/x0' 18.15.2 消息框-MsgBox 368 A+* lV*@0 18.15.3 输入框函数 370 ZZI}
Ot{ 18.15.4 自定义对话框 371 $Z#~wsw 18.15.5 对话框编辑器 371 M?"4{ 18.15.6 控制对话框 377 nsU7cLf"^V 18.15.7 更高级的对话框 380 *m+FMyr 18.16 Types语句 384 1bCE~,tD 18.17 打开文件 385 x-CjxU3 18.18 Bags 387 9=MNuV9/s 18.13 进一步研究 388 -6kX?sNl)X 19 vStack 389 PKrG6%
W+ 19.1 vStack基本原理 389 y1%OH#:duD 19.2 一个简单的系统——直角棱镜 391 BNCM{}e 19.3 五棱镜 393 -(:T&rfTp 19.4 光束距离 396 (l{8Ixs 19.5 误差 399 HJ7A/XW 19.6 二向分色棱镜 399 NeY*l 19.7 偏振泄漏 404 Y:TfD{Xgc 19.8 波前误差—相位 405 5.{=Op! 19.9 其它计算参数 405 EtN, 20 报表生成器 406 IeYNTk&< 20.1 入门 406 s_NY#MPz[ 20.2 指令(Instructions) 406 `J,>#Y6(J 20.3 页面布局指令 406 +d\o|}c 20.4 常见的参数图和三维图 407 t;w<n" 20.5 表格中的常见参数 408 0q"4\#4l 20.6 迭代指令 408 q<q IT 20.7 报表模版 408 -@(LN%7!C 20.8 开始设计一个报表模版 409 JT0j2_*Rr 21 一个新的project 413 ?g+3 URpK 21.1 创建一个新Job 414 yM@sGz6c! 21.2 默认设计 415 + m-88 21.3 薄膜设计 416 GuR^L@+ -. 21.4 误差的灵敏度计算 420 &SbdX 21.5 显色指数计算 422 _`?cBu` 21.6 电场分布 424 #17 &rizl 后记 426 [E
a{); /ZV2f3;t \[3~*eX6 书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 D}y W:Pi' tJ;qZyy( 《Essential Macleod中文手册》[attachment=120545] i;^lh]u zb9G&'7 目 录 _S
ng55s ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 n<8WjrK 第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 aJ(/r.1G 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 ;99oJD, 第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 p"%D/-%Gu 第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 c%pf,sm' 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 zJw5+
+
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 <WIIurp 第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 BN79\rt
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 59)w+AW 第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 YgcW1}
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 JGHj(0j 第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 `YqtI/-w 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 jI\@<6O 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 V>QyiB 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 8S8qj"s 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 ASbIc"S6 g0zzDv7~ 价 格:400元
|