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infotek 2023-09-25 08:23

上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)

时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 3aq'JVq   
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 kL1<H%1'  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 3'.@aMA@  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 I6 ?(@,  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 k^Qf |  
[attachment=120542] ] :;x,$k  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 gl+d0<R zw  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 G{!er:Vwdh  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。  E4eX fu  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 r>fGj\#R =  
1. Essential Macleod软件介绍 $ztsbV}  
1.1 介绍软件 _94 W@dW  
1.2 创建一个简单的设计 'O(=Pz  
1.3 绘图和制表来表示性能 VVDN3  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 upuN$4m&{  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) 0 cycnOd  
1.6 特定设计的公式技术 &MSU<S?1  
1.7 交互式绘图 M?lh1Yu"  
2. 光学薄膜理论基础 ]$"eGHX  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 L"&T3i  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 gNEcE9y 2  
3. 材料管理 MOD&3>NI  
3.1 材料模型 o^/ #i`)  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 !uGfS' Vl  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 W q<t+E[  
3.4 基板光学常数的提取 fF)Q;~_VA  
4. 光学薄膜设计优化方法 6&x\!+]F8  
4.1 参考波长与g G[mqLI{q  
4.2 四分之一规则 $/M-@3wro  
4.3 导纳与导纳图 <(KCiM=E$  
4.4 斜入射光学导纳 5 e+j51  
4.5 光学薄膜设计的进展 :gV~L3YW5  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 FY'0?CT$  
4.6.1 优化目标设置 J|BElBY  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) FC1rwXL(  
4.6.3 膜层锁定和链接 Y2DL%'K^  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 OV]xo8a;  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 fi HE`]0  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 $YX{gk>  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 i pn-HUrE@  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 i%9vZ  
5.5 如何在Function中编写脚本 tLOGj?/r  
6. 光学薄膜系统案例 |3FI\F;^q  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 K(?V]Mxl6  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 =v<w29P(g  
6.3 Stack应用范例说明 st) is4  
7. 薄膜性能分析 Z^V;B _  
7.1 电场分布 qO"QSSbZqQ  
7.2 公差与灵敏度分析 ]Uwp\2Bc  
7.3 反演工程 dCoP qKy  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 t+KW=eW  
8. 真空技术 Ixn|BCi60A  
8.1 常用真空泵介绍 sg,\!'  
8.2 真空密封和检漏 "zcAYg^U  
9. 薄膜制备技术 []A9j ?_w  
9.1 常见薄膜制备技术 Dd1k?  
10. 薄膜制备工艺 6 >)fNCe`  
10.1 薄膜制备工艺因素 ]S%_&ZMCM  
10.2 薄膜均匀性修正技术 - jZAvb  
10.3 光学薄膜监控技术 ''9]`B,:a0  
11. 激光薄膜 wG)e8,#  
11.1 薄膜的损伤问题 MQP9^+f)O?  
11.2 激光薄膜的制备流程 {O>Td9  
11.3 激光薄膜的制备技术 f4p*!e  
12. 光学薄膜特性测量 _5Lcr)  
12.1 薄膜光谱测量 c= t4 gf  
12.2 薄膜光学常数测量 1#x5 o2n  
12.3 薄膜应力测量 p-"C^=l  
12.4 薄膜损伤测量 K.yc[z)un  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析
[attachment=120543]
n=-vOa%  
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541]
书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=120544]
>IS4  
内容简介 -dovk?'Gj  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 zCJ"O9G<V  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 .h <=C&Yg  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ]lA}5  
_zDS-e@  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
C+/EPPi  
g ba1R  
目录 m u9,vH  
Preface 1 <*J"6x  
内容简介 2 #v(As) 4^  
目录 i 6|p8_[e`  
1  引言 1 ,IhQ%)l  
2  光学薄膜基础 2 UhJS=YvT  
2.1  一般规则 2 _kBmKE  
2.2  正交入射规则 3 yreH/$Ou 8  
2.3  斜入射规则 6 dXDyY  
2.4  精确计算 7 N $>Ml!J  
2.5  相干性 8 ED8{  
2.6 参考文献 10 %S^ke`MhF  
3  Essential Macleod的快速预览 10 gA=Pz[i)p  
4  Essential Macleod的特点 32 1CJ1-]S(3  
4.1  容量和局限性 33 nrE.0Ue1  
4.2  程序在哪里? 33 Uhvy 2}w  
4.3  数据文件 35 y3( ~8n  
4.4  设计规则 35 8o:h/F  
4.5  材料数据库和资料库 37 F lVG,Z  
4.5.1材料损失 38 \#biwX  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 kDJYEI9j>  
4.5.2 材料库 41 ,sj(g/hg  
4.5.3导出材料数据 43 f]10^y5&  
4.6  常用单位 43 L__{U_p  
4.7  插值和外推法 46 yUcU-pQ  
4.8  材料数据的平滑 50 G-D}J2r=F  
4.9 更多光学常数模型 54 v"2A?  
4.10  文档的一般编辑规则 55 EQoK\.; G~  
4.11 撤销和重做 56 F+G+XtOS  
4.12  设计文档 57 r!w4Br0  
4.10.1  公式 58 Eva&FHRTY  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 4NRj>y  
4.10.3  沉积密度 59 !gyW15z'  
4.10.4 平行和楔形介质 60 -^_^ByJe  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 -c8h!.Q$  
4.10.4  性能 61 Jm=3 %H  
4.10.5  保存设计和性能 64 QX?moW6UW  
4.10.6  默认设计 64 YO.ddy*59  
4.11  图表 64 w?_'sP{pd  
4.11.1  合并曲线图 67  {y{O ze  
4.11.2  自适应绘制 68 F'wG%  
4.11.3  动态绘图 68 ~Q^.7.-T  
4.11.4  3D绘图 69 OtAAzc!dQ  
4.12  导入和导出 73 T g(\7Kq  
4.12.1  剪贴板 73 E}zGY2Xx  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 u=PLjrB~}  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 Q-iBK*-w  
4.13  背景 77 $2]>{g  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 v"Bm4+c&0  
4.15  生成Rugate 84 Z9MU%*N  
4.16  参考文献 91 1e9~):C~W  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 yz>S($u  
5.1  Jobs 92 \u6.*w5TI  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 U |eh  
5.3  输入材料 94 + i /4G.=*  
5.4  设计数据文件夹 95 `o{_+Li9  
5.5  默认设计 95 `)8S Ix  
6  细化和合成 97 lRS'M,/  
6.1  优化介绍 97 VeEa17g&  
6.2  细化 (Refinement) 98 f\hQ>MLzt  
6.3  合成 (Synthesis) 100 a_VWgPVdDS  
6.4  目标和评价函数 101 1LSD,t|  
6.4.1  目标输入 102 TrgKl2xfx  
6.4.2  目标 103 3:w_49~: ~  
6.4.3  特殊的评价函数 104 !gsrPM  
6.5  层锁定和连接 104 ]T40VGJ:h  
6.6  细化技术 104 5ld?N2<8/  
6.6.1  单纯形 105 o=zl{tZV  
6.6.1.1 单纯形参数 106 S]}}r)  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 bO('y@)X  
6.6.2.1 Optimac参数 108 ~USyN'5lU7  
6.6.3  模拟退火算法 109 `.~*pT*u  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 h`vT[u~l  
6.6.4  共轭梯度 111 >CcDG  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 j:8Pcx  
6.6.5  拟牛顿法 112 H:Q4!<  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 WK0IagYw  
6.6.6  针合成 113  '"hSX=  
6.6.6.1 针合成参数 114 ;B }4pv}  
6.6.7 差分进化 114 /,< s9 :  
6.6.8非局部细化 115 2h@&yW2j  
6.6.8.1非局部细化参数 115 F U L'=Xo  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 1;,<UHF8N  
6.7.1  细化 116 NTGWI$  
6.7.2  合成 117 qx0F*EH|  
6.8  参考文献 117 roi,?B_8  
7  导纳图及其他工具 118 }QCn>LXE  
7.1  简介 118 J_<6;#  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 IQ$6}.  
7.2.1  四分之一波长规则 119 pFBK'NE  
7.2.2  导纳图 120 m}beT~FT_  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 cUw$F{|W  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 pOB<Bx5t  
7.5  斜入射导纳图 141 %Yg|QBm|  
7.6  对称周期 141 }dU!PZ9N)  
7.7  参考文献 142 7pyaHe  
8  典型的镀膜实例 143 y\:Ma7V  
8.1  单层抗反射薄膜 145 L|'B*  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 #op0|:/N  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 m3(p7Z^Bq  
8.4  W-膜层 148 fCX8s(|F  
8.5  V-膜层 149 "d0D8B7HI@  
8.6  V-膜层高折射基底 150 s=K?-O  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 tHM0]Gb}  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 W]>%*n  
8.9  四层抗反射薄膜 153 YKOj  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 fL-$wK<p<  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 +KTHZpp!c2  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 rzvKvGd#N  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 Z(LTHAbBk|  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 q(2ZJn13f  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 g<$2#c}  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 0<f.r~  
8.17  1/4波长堆栈 162 C/9]TkX}q  
8.18  陷波滤波器 163 NE Zu?g  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 #D ]CuSi  
8.20  褶皱 165 oDt{;S8|]  
8.21  消偏振分光器1 169 {#pw rWG  
8.22  消偏振分光器2 171 mO8/eVws[M  
8.23  消偏振立体分光器 172 bFH`wL W  
8.24  消偏振截止滤光片 173 >V\^oh)t]t  
8.25  立体偏振分束器1 174 f)r6F JLU  
8.26  立方偏振分束器2 177 t4hc X[  
8.27  相位延迟器 178 0fqycGSmU  
8.28  红外截止器 179 /cvMp#<]  
8.29  21层长波带通滤波器 180 Nz; \PS  
8.30  49层长波带通滤波器 181 2,|;qFJY-@  
8.31  55层短波带通滤波器 182 Pl2eDv-y  
8.32  47 红外截止器 183 =NNxe"Kd;U  
8.33  宽带通滤波器 184 uZI7,t-7  
8.34  诱导透射滤波器 186 AYp~;@  
8.35  诱导透射滤波器2 188 bUYjmb2g)  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 M[Nv>  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 &$l#0?Kc^  
8.35  增益平坦滤波器 193 Fw}|c  
8.38  啁啾反射镜 1 196 K(WKx7Kky^  
8.39  啁啾反射镜2 198 ":GC}VIS  
8.40  啁啾反射镜3 199 MGr e_=Dm_  
8.41  带保护层的铝膜层 200 uW!saT5o  
8.42  增加铝反射率膜 201 3od16{YH  
8.43  参考文献 202 0y+i?y 9  
9  多层膜 204 cF?0=un  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 dt"&  
9.2  内部透过率 204 (qz)3Fa  
9.3 内部透射率数据 205 VC% .u.< F  
9.4  实例 206 Io&HzQW^a  
9.5  实例2 210 q[/pE7FL  
9.6  圆锥和带宽计算 212 #5{BxX&\  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 lXzm)  
10  光学薄膜的颜色 216 S.<4t*,  
10.1  导言 216 [8 H:5 Ho  
10.2  色彩 216 l@-h.tS  
10.3  主波长和纯度 220 /{ W6]6^  
10.4  色相和纯度 221 tE-g]y3  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 ?zbWz=nq  
10.6 色差 226 8lA,3'z  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 -8<vWe  
10.8  颜色渲染指数 234 :fq4oHA#  
10.9  色差计算 235 Htln <N  
10.10  参考文献 236 t*u#4I1  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 fc[_~I'  
11.1  短脉冲 238 n+i=Ff  
11.2  群速度 239 ~l*<LXp8  
11.3  群速度色散 241 ErQ6a%~,  
11.4  啁啾(chirped) 245 c& bms)Jwa  
11.5  光学薄膜—相变 245 >7S@3,C3ke  
11.6  群延迟和延迟色散 246 ;Zr7NKs  
11.7  色度色散 246 m4Ue)  
11.8  色散补偿 249 Zj1bG{G=i  
11.9  空间光线偏移 256 Z&P\}mm   
11.10  参考文献 258 TY'61xWi  
12  公差与误差 260 Vo6g /h?`  
12.1  蒙特卡罗模型 260 -|>T? t'K  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 1xkrh qq  
12.2.1  误差工具 267 \j3dB tc  
12.2.2  灵敏度工具 271 Re %dNxJ=  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 D!.1R!(Z  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 3wcF R0f  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 G.v(2~QFd  
12.3  参考文献 276 p8?v o ?^  
13  Runsheet 与Simulator 277 Mw)6,O`  
13.1  原理介绍 277 #.$y   
13.2  截止滤光片设计 277 _{gqi$Mi  
14  光学常数提取 289 {IaDZ/XS6  
14.1  介绍 289 %~gI+0HK  
14.2  电介质薄膜 289 BMuEfa^  
14.3  n 和k 的提取工具 295 t8rFn  
14.4  基底的参数提取 302 T#*H  
14.5  金属的参数提取 306 Au}l^&,zN  
14.6  不正确的模型 306 pe\Nwq  
14.7  参考文献 311 2CneRKQy  
15  反演工程 313 7')W+`o8eL  
15.1  随机性和系统性 313 mtn^+*  
15.2  常见的系统性问题 314 xIC@$GP  
15.3  单层膜 314 pRL:,q\  
15.4  多层膜 314 n+te5_F  
15.5  含义 319 K7K/P{@9[9  
15.6  反演工程实例 319 o[fg:/5)A  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 & d2 `{H  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 Y0A(- "  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 X;Sb^c"j1  
16.1  光学性质的热致偏移 329 hpPacN  
16.2  应力工具 335 +*?l">?|F  
16.3  均匀性误差 339 FO:L+&hr?>  
16.3.1  圆锥工具 339 y_=y%  
16.3.2  波前问题 341 ;l ZKgi8`  
16.4  参考文献 343 ) ba~7A  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 g=Vu'p 3u  
17.1  引言 345 x3+ {Y  
17.2  操作数 345 @z{SDM  
18  如何在Function中编写脚本 351 t"q'"FX  
18.1  简介 351 [H>u'fy:C  
18.2  什么是脚本? 351 V|$PO Qa3  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 !*NDsC9  
18.4  基础 352 /#H P;>!n  
18.4.1  Classes(类别) 352 #S'uqP!  
18.4.2  对象 352 J ~3m7  
18.4.3  信息(Messages) 352 ,_Bn{T=U  
18.4.4  属性 352 (I#6!Yt9J  
18.4.5  方法 353 V<jj'dZfW  
18.4.6  变量声明 353 D5snaGss9a  
18.5  创建对象 354 QOSMV#Nw%  
18.5.1  创建对象函数 355 9&AO  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 jYRSV7d  
18.5.3 丢弃对象 356 ~ILv*v@m  
18.5.4  总结 356 xd ^Pkf  
18.6  脚本中的表格 357 k'#3fz\  
18.6.1  方法1 357 i\ X3t5  
18.6.2  方法2 357 ]0ErT9  
18.7 2D Plots in Scripts 358 Vb\g49\o/  
18.8 3D Plots in Scripts 359 Babzrt-  
18.9  注释 360 !V3+(o 1  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 a'?;;ZC-  
18.11  一个更高级的脚本 362 6{=U= *  
18.12  <esc>键 364 `?(J(H  
18.13 包含文件 365 8T T#b?d  
18.14  脚本被优化调用 366 xw 43P.  
18.15  脚本中的对话框 368 $jE<n/8  
18.15.1  介绍 368 H/x0'  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 A+* lV*@0  
18.15.3  输入框函数 370 ZZI} Ot{  
18.15.4  自定义对话框 371 $Z#~wsw  
18.15.5  对话框编辑器 371 M?" 4 {  
18.15.6  控制对话框 377 nsU7cLf"^V  
18.15.7  更高级的对话框 380 *m+FMyr  
18.16 Types语句 384 1bCE~,tD  
18.17 打开文件 385 x-CjxU3  
18.18 Bags 387 9=MNuV9/s  
18.13  进一步研究 388 -6kX?sNl)X  
19  vStack 389 PKrG6% W+  
19.1  vStack基本原理 389 y1%OH#:duD  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 BN CM{}e  
19.3  五棱镜 393 -(:T&rfTp  
19.4 光束距离 396 (l{8Ix s  
19.5 误差 399 HJ 7A/XW  
19.6  二向分色棱镜 399 Ne Y*l  
19.7  偏振泄漏 404 Y:TfD{Xgc  
19.8  波前误差—相位 405 5.{=Op!  
19.9  其它计算参数 405 Et N,  
20  报表生成器 406 IeYNTk &<  
20.1  入门 406 s_NY#MPz[  
20.2  指令(Instructions) 406 `J,>#Y6(J  
20.3  页面布局指令 406 +d\o|}c  
20.4  常见的参数图和三维图 407 t;w<n"  
20.5  表格中的常见参数 408 0q"4\#4l  
20.6  迭代指令 408 q< q IT  
20.7  报表模版 408 -@(LN%7!C  
20.8  开始设计一个报表模版 409 JT0j2_*Rr  
21  一个新的project 413 ?g+3 URpK  
21.1  创建一个新Job 414 yM@sGz6c!  
21.2  默认设计 415 + m-88  
21.3  薄膜设计 416 GuR^L@+ -.  
21.4  误差的灵敏度计算 420 &SbdX   
21.5  显色指数计算 422 _`? cBu`  
21.6  电场分布 424 #17 &rizl  
后记 426 [E a{);  
/ZV2f3;t  
\[3~*eX6  
书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 D}y W:Pi'  
tJ;qZyy(  
《Essential Macleod中文手册》
[attachment=120545]
i;^lh]u  
zb9G&'7  
目  录 _S ng55s  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 n<8WjrK  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 aJ(/r.1G  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 ;99oJD,  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 p"%D/-%Gu  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 c%pf,sm'  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 zJw5+ +  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 <WIIurp  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 B N79\rt  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 59)w+AW  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 YgcW1}  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 JGHj(0j  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 `YqtI/-w  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 jI\@<6O  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 V>QyiB  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 8S8qj"s  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 ASbI c"S6  
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