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infotek 2023-09-25 08:23

上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)

时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 DcYL8u  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 H1>~,zc>E  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 <` [o|>A Z  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 K</EVt,U~  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 )l?1 dR:sP  
[attachment=120542] 7.)kG}q]  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 fE`p  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 ,2oFt\`.r  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 _|+}4 ap  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 k;/K']4y  
1. Essential Macleod软件介绍 2qd5iOhX+  
1.1 介绍软件 ?#s9@R1  
1.2 创建一个简单的设计 vT@*o=I  
1.3 绘图和制表来表示性能 6`Hd)T5{w  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 =jv3O.zq  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) Db4(E*/pj!  
1.6 特定设计的公式技术 k_;g-r,  
1.7 交互式绘图 ]gjQy.c|  
2. 光学薄膜理论基础 @}; vl  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 %#t*3[  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 de=){.7Y  
3. 材料管理 ^^,cnDlm  
3.1 材料模型 W(5XcP(  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 ;k ?Z,M:  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 \k4tYL5  
3.4 基板光学常数的提取 =hRo#]{(K  
4. 光学薄膜设计优化方法 M( w'TE@  
4.1 参考波长与g 5 w-Pq&q  
4.2 四分之一规则 A1Ru&fd!  
4.3 导纳与导纳图 6v"WI@b4  
4.4 斜入射光学导纳 +Vv+<M  
4.5 光学薄膜设计的进展 [#@\A]LO  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 3d>8~ANi=%  
4.6.1 优化目标设置 0<i8 ;2KD  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) |j}D2q=  
4.6.3 膜层锁定和链接 '4KN  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 "DO|B=EejP  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 >\br8=R  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 QM('bbN  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 RGgePeaw  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 !;3hN$5  
5.5 如何在Function中编写脚本 f9K+o-P.h  
6. 光学薄膜系统案例 +D+v j|fn  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 } ~NM\rm  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等  g^l~AR  
6.3 Stack应用范例说明 vh"wXu  
7. 薄膜性能分析 r01u3!  
7.1 电场分布 C'~E q3  
7.2 公差与灵敏度分析 vpq"mpfkh  
7.3 反演工程 FuC#w 9_  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 .oS[ DTn5S  
8. 真空技术 F/SYmNp  
8.1 常用真空泵介绍 63E)RR_Lh  
8.2 真空密封和检漏 {S@gjMuN  
9. 薄膜制备技术 Etn uEU  
9.1 常见薄膜制备技术 redMlHM  
10. 薄膜制备工艺 WA6reZ  
10.1 薄膜制备工艺因素 `h%K8];<6f  
10.2 薄膜均匀性修正技术 dQn , 0  
10.3 光学薄膜监控技术 `pb=y}  
11. 激光薄膜 w=_q<1a  
11.1 薄膜的损伤问题 .],:pL9d  
11.2 激光薄膜的制备流程 vA"LV+@  
11.3 激光薄膜的制备技术 +H:}1sT;n  
12. 光学薄膜特性测量 XuoyB{U  
12.1 薄膜光谱测量 L\hid /NL  
12.2 薄膜光学常数测量 6&+}Hhe  
12.3 薄膜应力测量 *ESi~7;#  
12.4 薄膜损伤测量 wpWZn[j  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析
[attachment=120543]
%Rt 5$+dNT  
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541]
书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=120544]
C{:U<q  
内容简介 5dX /<  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 EfB.K}b^  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 $."D OZQ3U  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 +[ng99p  
&^`[$LtYd  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
Q#F9&{'l  
2]y Hxo/6  
目录 \JC_"gqt  
Preface 1 U2)?[C1q{  
内容简介 2 X?YT>+g;  
目录 i jR9;<qT/  
1  引言 1 7g5Pc_  
2  光学薄膜基础 2 -_xTs(;|8  
2.1  一般规则 2 YSzC's[  
2.2  正交入射规则 3 N1}r%!jk/  
2.3  斜入射规则 6 o5['5?i}/  
2.4  精确计算 7  1p K(tm  
2.5  相干性 8 O=eU38n:5u  
2.6 参考文献 10 mPF<2:)wv  
3  Essential Macleod的快速预览 10 e,xJ%f  
4  Essential Macleod的特点 32 G6}!PEwM  
4.1  容量和局限性 33 ykRd+H-t  
4.2  程序在哪里? 33 EERCb%M 8Z  
4.3  数据文件 35 'C=(?H)M  
4.4  设计规则 35 Scug wSB  
4.5  材料数据库和资料库 37 X(O:y^sX}  
4.5.1材料损失 38 Ng1bjq}E2  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 <isU D6TC  
4.5.2 材料库 41 Hh%"  
4.5.3导出材料数据 43 ahdwoB   
4.6  常用单位 43 odDVdVx0  
4.7  插值和外推法 46 B}P!WRNmln  
4.8  材料数据的平滑 50  f,kV  
4.9 更多光学常数模型 54 l9]nrT1Hy  
4.10  文档的一般编辑规则 55 V["'eJA,,  
4.11 撤销和重做 56 ] *U+nG  
4.12  设计文档 57 ^F qs,^~W  
4.10.1  公式 58 aTfc>A;  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 2c51kG77E  
4.10.3  沉积密度 59 s1R#X~d  
4.10.4 平行和楔形介质 60 Lxn-M5RPQ  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 d}  5  
4.10.4  性能 61 S(Z\h_m(  
4.10.5  保存设计和性能 64 z}iz~WZ  
4.10.6  默认设计 64 G*=&yx."E  
4.11  图表 64 Xq_h C"s  
4.11.1  合并曲线图 67 P^ht$)Y  
4.11.2  自适应绘制 68 L8Q/!+K  
4.11.3  动态绘图 68 tJ* /5k &  
4.11.4  3D绘图 69 \[|X^8j  
4.12  导入和导出 73 0$NzRPbH  
4.12.1  剪贴板 73 &G[W$2`@  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 G({5LjgW  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 m;nH v  
4.13  背景 77 t\]kVo)  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 H]*B5Jv~  
4.15  生成Rugate 84 ~.6% %1?  
4.16  参考文献 91 T*S) U ;  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 mKE' l'9A_  
5.1  Jobs 92 m<LzgX  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 xnJ#}-.7  
5.3  输入材料 94 oCLM'\  
5.4  设计数据文件夹 95 aK(e%Ed t"  
5.5  默认设计 95 >l=jJTJ;q  
6  细化和合成 97 3 g:P>(  
6.1  优化介绍 97 ,$aqF<+;  
6.2  细化 (Refinement) 98 xOr"3;^  
6.3  合成 (Synthesis) 100 xSO5?eR"u  
6.4  目标和评价函数 101 ,-kz \N@.  
6.4.1  目标输入 102 1FG"Ak}D  
6.4.2  目标 103 cp"{W-Q{$  
6.4.3  特殊的评价函数 104 :^qUr`)  
6.5  层锁定和连接 104 ?=1i:h  
6.6  细化技术 104 >s!k"s,  
6.6.1  单纯形 105 6;@:/kl t  
6.6.1.1 单纯形参数 106 Bs|#7mA[  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 9xK#( M  
6.6.2.1 Optimac参数 108 1D2RhM%  
6.6.3  模拟退火算法 109 R&:Qy7"  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 P(o>UDy  
6.6.4  共轭梯度 111 C!nbl+75  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 D51s)?  
6.6.5  拟牛顿法 112 -<AGCiLz  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 . Y$xNLoP[  
6.6.6  针合成 113 $VP\Ac,!  
6.6.6.1 针合成参数 114 U ]B-B+-  
6.6.7 差分进化 114 Ji1#>;&  
6.6.8非局部细化 115 >6W#v[  
6.6.8.1非局部细化参数 115 {iCX?Sb  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 0W_u"UY$c  
6.7.1  细化 116 =s*4y$%I  
6.7.2  合成 117 h Fan$W$  
6.8  参考文献 117 ~Y;Z5e=  
7  导纳图及其他工具 118 fN21[Jv3  
7.1  简介 118 _PQk<QZ  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 ] yWywa\  
7.2.1  四分之一波长规则 119 <u1`o`|-  
7.2.2  导纳图 120 ;TK$?hrv*1  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 )3V1aC  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 b_u; `^  
7.5  斜入射导纳图 141 32y 9rz  
7.6  对称周期 141 8A/rkoht*  
7.7  参考文献 142 .81 ~ K[  
8  典型的镀膜实例 143 hBifn\dFr  
8.1  单层抗反射薄膜 145 s$lJJL  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 ``@e7~F{  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 Q4Qf/q;U  
8.4  W-膜层 148 ;!7M<T$&  
8.5  V-膜层 149 ~BE=z:  
8.6  V-膜层高折射基底 150 ,Ij/ ^EC}  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 r gi4>  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 *+00  
8.9  四层抗反射薄膜 153 f]C^{Uk#  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 M"msLz  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 !/! Fc'A  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 x^ cJ~e2  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 K$s{e0 79  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 ytV[x  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 !t{  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 !9.\A:G  
8.17  1/4波长堆栈 162 {Q`Q2'@  
8.18  陷波滤波器 163 fEt BodA)  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 G,1g~h%I$  
8.20  褶皱 165 A!uiM*"W  
8.21  消偏振分光器1 169 Df]*S  
8.22  消偏振分光器2 171 cFq2 6(e  
8.23  消偏振立体分光器 172 6(Ntt  
8.24  消偏振截止滤光片 173 LWN9 D  
8.25  立体偏振分束器1 174 Hq?dqg'%~  
8.26  立方偏振分束器2 177 d6 9dC*>  
8.27  相位延迟器 178 o,?h}@  
8.28  红外截止器 179 ?+%bEZ`  
8.29  21层长波带通滤波器 180 znIS2{p/`  
8.30  49层长波带通滤波器 181 ^ ]+vtk  
8.31  55层短波带通滤波器 182 :2XX~|  
8.32  47 红外截止器 183 ta'wX   
8.33  宽带通滤波器 184 6?JvvS5  
8.34  诱导透射滤波器 186 S0LaQ<9.  
8.35  诱导透射滤波器2 188 m& D#5C  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 sWKdqs  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 I SdB5Va  
8.35  增益平坦滤波器 193 'e$8 IZm  
8.38  啁啾反射镜 1 196 : &~LPmJ  
8.39  啁啾反射镜2 198 qagR?)N)u  
8.40  啁啾反射镜3 199 pTncx%!W5  
8.41  带保护层的铝膜层 200 _kBx2>qQ  
8.42  增加铝反射率膜 201 >LPIvmT4D?  
8.43  参考文献 202 3BF3$_u)o  
9  多层膜 204 R:f ,g2  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 e nw*[D !  
9.2  内部透过率 204 b d C  
9.3 内部透射率数据 205 2 i NZz  
9.4  实例 206 SDk^fTV8x  
9.5  实例2 210 kQn}lD  
9.6  圆锥和带宽计算 212 Blj<|\ igc  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 l?Ibq}[~  
10  光学薄膜的颜色 216 wLvM<p7OX  
10.1  导言 216 kE[R9RS!  
10.2  色彩 216 :YLurng/]  
10.3  主波长和纯度 220 0JqvV  
10.4  色相和纯度 221 g8" H{u  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 Y n0iu$;n  
10.6 色差 226 }'n]C|gZ  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 2lqy<o  
10.8  颜色渲染指数 234 o*oFCR]j  
10.9  色差计算 235 0\!v{A> I'  
10.10  参考文献 236 @18}'k  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 2h)Qz+|7  
11.1  短脉冲 238 _c}# f\ +_  
11.2  群速度 239 rD9:4W`^  
11.3  群速度色散 241 ,K|UUosS-#  
11.4  啁啾(chirped) 245 >&^jKfY  
11.5  光学薄膜—相变 245 ~mv5{C  
11.6  群延迟和延迟色散 246 Nx E=^ v  
11.7  色度色散 246 "98 j-L=F+  
11.8  色散补偿 249 . lNf.x#u  
11.9  空间光线偏移 256 [X>f;;h  
11.10  参考文献 258 H?V b   
12  公差与误差 260 Vjd>j; H  
12.1  蒙特卡罗模型 260 >5D;uTy u  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 i)$<j!L  
12.2.1  误差工具 267 ?I\,RiZkz^  
12.2.2  灵敏度工具 271 $ ?|;w,%I  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 ,ne3uPRu7~  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 vUDMl Z  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 )CgH|z:=b  
12.3  参考文献 276 MT$)A:"  
13  Runsheet 与Simulator 277 *.Z~f"SZy*  
13.1  原理介绍 277 wzBI<0]z  
13.2  截止滤光片设计 277 'E\4/0 !  
14  光学常数提取 289 ~=|QPO(d  
14.1  介绍 289 tJ&tNSjTi  
14.2  电介质薄膜 289 `; j$]  
14.3  n 和k 的提取工具 295 i?7 ?I  
14.4  基底的参数提取 302 S,Tc\}  
14.5  金属的参数提取 306 }<*KM)%  
14.6  不正确的模型 306 cH+ ~|3  
14.7  参考文献 311 *d PbV.HCl  
15  反演工程 313 IFhS(3 YK[  
15.1  随机性和系统性 313 aM(x--UR=  
15.2  常见的系统性问题 314 Kx?8 HA[5  
15.3  单层膜 314 iq,rS"  
15.4  多层膜 314 \1QY=}  
15.5  含义 319 bR8`Y(=F9b  
15.6  反演工程实例 319 y*p02\)  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 @[Q`k=h$  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 0sTR`Xk  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 DgY !)cS  
16.1  光学性质的热致偏移 329 +(^H L3  
16.2  应力工具 335 ?-)v{4{s  
16.3  均匀性误差 339 I0!]J{  
16.3.1  圆锥工具 339 !SIk9~rJ  
16.3.2  波前问题 341 sRqecG(n  
16.4  参考文献 343 7!\zo mx  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 U.JE \/  
17.1  引言 345 s[t<2)i  
17.2  操作数 345 FZLx.3k4  
18  如何在Function中编写脚本 351 %$i}[ U  
18.1  简介 351 `*D"=5G+  
18.2  什么是脚本? 351 0=K8 nxdx  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 dC|6z/  
18.4  基础 352 q'TIN{\.{  
18.4.1  Classes(类别) 352 =itQ@ ``r  
18.4.2  对象 352 P+wpX  
18.4.3  信息(Messages) 352 OmS8cSYGc  
18.4.4  属性 352  WjCxTBI  
18.4.5  方法 353 OHrzN ']  
18.4.6  变量声明 353 P(/eVD#v  
18.5  创建对象 354 KSHq0A6/q%  
18.5.1  创建对象函数 355 %l6E0[   
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 o{^`Y   
18.5.3 丢弃对象 356 5$+ssR_?k  
18.5.4  总结 356 xc\zRsY`  
18.6  脚本中的表格 357 w~ON861  
18.6.1  方法1 357 m^=El7+  
18.6.2  方法2 357 =O-irGms*  
18.7 2D Plots in Scripts 358 i'4.w?OZ  
18.8 3D Plots in Scripts 359 51y#A Q@  
18.9  注释 360 v+8Ybq  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 C,GZ  
18.11  一个更高级的脚本 362 fc9@l a  
18.12  <esc>键 364 -e sQyLx  
18.13 包含文件 365 7D4tuXUq2  
18.14  脚本被优化调用 366 MU(I#Prpe  
18.15  脚本中的对话框 368 j<k6z   
18.15.1  介绍 368 D W^Zuu/)  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 X6 N&:<  
18.15.3  输入框函数 370  >]~|Nf/i  
18.15.4  自定义对话框 371 - l^3>!MAM  
18.15.5  对话框编辑器 371 A.dbb'^  
18.15.6  控制对话框 377 j@ D,2B;  
18.15.7  更高级的对话框 380 _53~D=  
18.16 Types语句 384 /jGV[_Q=P  
18.17 打开文件 385 3?@6QcHl{  
18.18 Bags 387 eZN"t~\rX  
18.13  进一步研究 388 7GWOJ^)  
19  vStack 389 ~BX=n9  
19.1  vStack基本原理 389 Z7RBJK7|.  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 [ ~2imS  
19.3  五棱镜 393 >]z^.U7=  
19.4 光束距离 396 l{>j8Ln  
19.5 误差 399 (QJe-)0_y  
19.6  二向分色棱镜 399 ?s3S$Ih  
19.7  偏振泄漏 404 a6^_iSk  
19.8  波前误差—相位 405 XWyP'\  
19.9  其它计算参数 405 3RT\G0?8f  
20  报表生成器 406 I "~.p='  
20.1  入门 406  J}:.I>  
20.2  指令(Instructions) 406 ^B% =P  
20.3  页面布局指令 406 XclTyUGoK+  
20.4  常见的参数图和三维图 407 UL{J%Ze=~  
20.5  表格中的常见参数 408 ne/JC(  
20.6  迭代指令 408 5<R m{  
20.7  报表模版 408 rxH]'6kP  
20.8  开始设计一个报表模版 409 dK4rrO  
21  一个新的project 413 ~IS8DW$;  
21.1  创建一个新Job 414 DQm%=ON7  
21.2  默认设计 415 Fu tS  
21.3  薄膜设计 416 =@?[.`  
21.4  误差的灵敏度计算 420 R]iV;j|  
21.5  显色指数计算 422 d%"XsbO  
21.6  电场分布 424 +ovK~K $A  
后记 426 %.<_+V#h  
5$D"uAp<V  
Qop,~yK  
书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 rUj\F9*5#  
}: HG)V  
《Essential Macleod中文手册》
[attachment=120545]
.t5.(0Xk[A  
Kbf(P95+uL  
目  录 pB 8D  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 Mz p<s<BX  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 z qo0P~  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 [49Cvde^  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 ExS5RV@v'  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 !S#3mT-  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 hx$61 E=  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 |JxVfX8^  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 )hXTgUZa  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 >8>!wi9U  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 D=TS IJ@  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 5M0Q'"`F:  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 % /VCjuV  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 gwRB6m$  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 m-vn5OX  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 H@=oVyn/  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 K8;SE !  
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infotek 2023-10-11 11:55
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infotek 2023-10-20 08:54
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