上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)
时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 @wa"pWx8 授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天 AM 9:00-PM 16:00 =oIt.`rf 授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 !L{mE&
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 k kAg17 ^ 课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 $.pCoS]i [attachment=120542] >!@D^3PPA 易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 u9|Eos i 获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 ]|eMEN[' 随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 :0Jn`Ds4o 本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 jvsSP?]n 1. Essential Macleod软件介绍 MymsDdQ] 1.1 介绍软件 ]o]`X$n 1.2 创建一个简单的设计 i_Q1\_m ! 1.3 绘图和制表来表示性能 p@%Pdx 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 lAM)X&}0 1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) v~Dobk/n 1.6 特定设计的公式技术 Ar~/KRK 1.7 交互式绘图 WN{8gL&y 2. 光学薄膜理论基础 rhQ+ylt8I 2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 y\;oZ]J 2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 <Tjhj* 3. 材料管理 _g/d/{-{Q 3.1 材料模型 Bj2iYk_cLa 3.2 介质薄膜光学常数的提取 }wn|2K' 3.3 金属薄膜光学常数的提取 YToG'#qs 3.4 基板光学常数的提取 zeQ~'ao< 4. 光学薄膜设计优化方法 N*|EfI|X 4.1 参考波长与g {'A
15 4.2 四分之一规则 NpZ'pBl 4.3 导纳与导纳图 )e PQxx 4.4 斜入射光学导纳 Bf00&PE; 4.5 光学薄膜设计的进展 -M6vg4gf 4.6 Macleod软件的设计与优化功能 Zy3F%]V0 4.6.1 优化目标设置 qXq#A&
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) /<LjD 4.6.3 膜层锁定和链接 paD[4L?4Hk 5. Essential Macleod中各个模块的应用 ~s4JGV~R 5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 \G v\&_ 5.2 光通信用窄带滤光片模拟 3{co.+ 5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 }0E@eL 5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 85io%>&0 5.5 如何在Function中编写脚本 uGXvP(Pg' 6. 光学薄膜系统案例 hl**G4z9q 6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 c/bT5TIEWs 6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 rjcH[U( 6.3 Stack应用范例说明 N)E'k%?, 7. 薄膜性能分析 vFJ4`Gjw( 7.1 电场分布 Ja*,ht(5 7.2 公差与灵敏度分析 8M!9gvcaO 7.3 反演工程 b_{+O qI 7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 M_E$w$l2< 8. 真空技术 9<CUm"%J 8.1 常用真空泵介绍 hOLlZP+ 8.2 真空密封和检漏 8b,Z)"(U3 9. 薄膜制备技术 wd|^m% 9.1 常见薄膜制备技术 2ALYfZ|d 10. 薄膜制备工艺 LL3| U 10.1 薄膜制备工艺因素 Y(rQ032s 10.2 薄膜均匀性修正技术 x?{l<mc 10.3 光学薄膜监控技术 rS\mFt X 11. 激光薄膜 S?v;+3TG 11.1 薄膜的损伤问题 QrmGrRH 11.2 激光薄膜的制备流程 ]OKKR/: 11.3 激光薄膜的制备技术 ^v;8 (eF 12. 光学薄膜特性测量 DPnrzV) 12.1 薄膜光谱测量 .ejC#vB{KM 12.2 薄膜光学常数测量 "0G)S' 12.3 薄膜应力测量 E?K(MT&@ 12.4 薄膜损伤测量 O>X!78]#K 12.5 薄膜形貌、结构与组分分析[attachment=120543] tJd/uQJ
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541] 书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) [attachment=120544] k~<ORnda
内容简介 0\ j)!b Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 2V9"{F? 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 'g)5vI~' 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 z9AX8k(B6 {|zQ
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讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 u?g;fh6 #c<F,` gdi 目录 Pa\yp?({q Preface 1 b7M ) 内容简介 2 =1B;<aZH! 目录 i M _Lj5` 1 引言 1 +Sv2'& B 2 光学薄膜基础 2 0R+<^6^l) 2.1 一般规则 2 i}:^<jDv? 2.2 正交入射规则 3 i"!j:YEo 2.3 斜入射规则 6 czo*_q% 2.4 精确计算 7 V,tYqhQ3 2.5 相干性 8 P]4u`& 2.6 参考文献 10 A:sP%c; 3 Essential Macleod的快速预览 10 ,tFLx#e# 4 Essential Macleod的特点 32 Q?m= a0g 4.1 容量和局限性 33 !Cm9DzG 4.2 程序在哪里? 33 +{e2TY 4.3 数据文件 35 FO|Eg9l 4.4 设计规则 35 jA%R8hdr_ 4.5 材料数据库和资料库 37 %8%0l*n' 4.5.1材料损失 38 5Obv/C 4.5.1材料数据库和导入材料 39 :bp8S@ 4.5.2 材料库 41 olDzmy(=W* 4.5.3导出材料数据 43 NydoX9 4.6 常用单位 43 #k)J);&ZA 4.7 插值和外推法 46 /EM=!@ka 4.8 材料数据的平滑 50 *zPz)3; 4.9 更多光学常数模型 54 ZoKX ao 4.10 文档的一般编辑规则 55 cC`PmDGq 4.11 撤销和重做 56 l)
)Cvre+ 4.12 设计文档 57 r<kqs,-~ 4.10.1 公式 58 }cy<$=c#E_ 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 %Zu+=IZ 4.10.3 沉积密度 59 hKK"D:?PRs 4.10.4 平行和楔形介质 60 2I~a{:O 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 iJ`v3PP 4.10.4 性能 61 yD&UH_ 1g 4.10.5 保存设计和性能 64 Y5Z<uD 4.10.6 默认设计 64 ?)c9!hR 4.11 图表 64 xOpCybmc 4.11.1 合并曲线图 67 V0$:t^^ 4.11.2 自适应绘制 68 klC48l 4.11.3 动态绘图 68 0',-V2 4.11.4 3D绘图 69 %?:eURQ 4.12 导入和导出 73 v/7iu*u 4.12.1 剪贴板 73 7;:Uv= 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 _/[(&}M 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 cLnvb!g'# 4.13 背景 77 _Nq7_iT0 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 ulnlRx 4.15 生成Rugate 84 wd~!j&`a 4.16 参考文献 91 w=75?3c7 F 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 c3aF lxW 5.1 Jobs 92 -jsk-, 5.2 创建一个新Job(工作) 93 ?`D/#P 5.3 输入材料 94 {d,~=s0T 5.4 设计数据文件夹 95 6oLq2Z8uP 5.5 默认设计 95 @460r 6 细化和合成 97 0N G<uZ 6.1 优化介绍 97 P"mD73a 6.2 细化 (Refinement) 98 nqyB,vv0 6.3 合成 (Synthesis) 100 0V:PRq;v0 6.4 目标和评价函数 101 B mxBbg 6.4.1 目标输入 102 %g*AGu` 6.4.2 目标 103 r$Ck:Q} 6.4.3 特殊的评价函数 104 wi/dR}*A 6.5 层锁定和连接 104 .q7o7J% 6.6 细化技术 104 |\~!oN 6.6.1 单纯形 105 2f$6}m'Ad 6.6.1.1 单纯形参数 106 G+xdh 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 [8Zvs=1 6.6.2.1 Optimac参数 108 :vJ0Ypz-u 6.6.3 模拟退火算法 109 uCNi&. 6.6.3.1 模拟退火参数 109 GE[J`?E] 6.6.4 共轭梯度 111 m2"~.iM8 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 -F| C6m! 6.6.5 拟牛顿法 112 ^.@BD4/RPt 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 As7Y4w* + 6.6.6 针合成 113 ]1
OZY@ 6.6.6.1 针合成参数 114 r/vRaOg>X 6.6.7 差分进化 114 KoNJ;YiKtN 6.6.8非局部细化 115 2U;ImC1g 6.6.8.1非局部细化参数 115 ,s,VOyr @F 6.7 我应该使用哪种技术? 116 6-<>P E2 6.7.1 细化 116 xui.63/ 6.7.2 合成 117 )tyhf(p6 6.8 参考文献 117 )N4_SA 7 导纳图及其他工具 118 GwoN= 7.1 简介 118 ;:l\_b'Z} 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 u/BCl!` 7.2.1 四分之一波长规则 119 5h2@n0 7.2.2 导纳图 120
$fwv' 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 M1/Rba Q 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 RMx$]wn_ 7.5 斜入射导纳图 141 `'{>2d%\g 7.6 对称周期 141 ,:QzF"MV 7.7 参考文献 142 SGREpOlJ+ 8 典型的镀膜实例 143 p=65L 8.1 单层抗反射薄膜 145 #X(KW&;m 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 1 f;k)x 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 D^knN-nZ* 8.4 W-膜层 148 AVys`{*c 8.5 V-膜层 149 ']hB_4v 8.6 V-膜层高折射基底 150 #FBq8iJ 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 .(0'l@#fT 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 BQcrF{q 8.9 四层抗反射薄膜 153 OXs-gC{b 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 2%'iTXF 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 ^$7Lmd.qI 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 C[ ehw 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 ;:[!I ]E0 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 Fx.hti 8.15十五层宽带抗反射膜 159 y-TS?5Dr] 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 ZV`D} CQ 8.17 1/4波长堆栈 162 ;L5'3+U 8.18 陷波滤波器 163 #l6L7u0~wC 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 $vC!Us{z 8.20 褶皱 165 CVh^~!"7j 8.21 消偏振分光器1 169 8#9di 8.22 消偏振分光器2 171 ~L G). 8.23 消偏振立体分光器 172 d+_wN2 8.24 消偏振截止滤光片 173 DL5`A?/ 8.25 立体偏振分束器1 174 DA_[pR 8.26 立方偏振分束器2 177 #[^?f[9r 8.27 相位延迟器 178 s!Xj'H7K 8.28 红外截止器 179 meHAa` 8.29 21层长波带通滤波器 180 $DmWK_A 8.30 49层长波带通滤波器 181 Rl7V~dUY 8.31 55层短波带通滤波器 182 ik@g; >pQD 8.32 47 红外截止器 183 n1n1} 8.33 宽带通滤波器 184 >g]S"ku| 8.34 诱导透射滤波器 186 3McBTa! 8.35 诱导透射滤波器2 188 x: `]uOp 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 2Rc'1sCth- 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 Vj7(6'Hg 8.35 增益平坦滤波器 193 E-NuCP%|c 8.38 啁啾反射镜 1 196 ;O*y$|+PA 8.39 啁啾反射镜2 198 &wbe^Wp 8.40 啁啾反射镜3 199 \dAh^B K1( 8.41 带保护层的铝膜层 200 h2 2-vX 8.42 增加铝反射率膜 201 t>J 43 8.43 参考文献 202 /lKgaq. 9 多层膜 204 fLj#+h-! 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 N4$!V}pp 9.2 内部透过率 204 Iz/o|o]# 9.3 内部透射率数据 205 iV!o)WvG,F 9.4 实例 206 _L mDF8Q( 9.5 实例2 210 *Z! #6(G 9.6 圆锥和带宽计算 212 lHBk&UN' 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 `)`J 10 光学薄膜的颜色 216 - Dm/7Sxd` 10.1 导言 216 Hmt}@ 10.2 色彩 216 b[<zT[.: 10.3 主波长和纯度 220 x:W nF62 10.4 色相和纯度 221 o+sb2:x 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 )~1QOl
"~ 10.6 色差 226 58"Cn ||tF 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 acgtXfHR 10.8 颜色渲染指数 234
`A8nAgbe 10.9 色差计算 235 xEN""*Q 10.10 参考文献 236 5Z]zul@+* 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 P9~7GFas| 11.1 短脉冲 238 3fJGJW!zu 11.2 群速度 239 7mipj] 11.3 群速度色散 241 <]6])f,y\ 11.4 啁啾(chirped) 245
NIcPjo 11.5 光学薄膜—相变 245 {_0m0
8 11.6 群延迟和延迟色散 246 @^8tk3$Y 11.7 色度色散 246 lwEJ)Bv 11.8 色散补偿 249 .CI {g2 11.9 空间光线偏移 256 VP
H 11.10 参考文献 258 :kUZNw'Bi 12 公差与误差 260 *NdSL 12.1 蒙特卡罗模型 260 \_pP:e 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 YPQ&hEu0 12.2.1 误差工具 267 LeBuPR$ 12.2.2 灵敏度工具 271 w=.w*?> 12.2.2.1 独立灵敏度 271 %N#8D<ULd 12.2.2.2 灵敏度分布 275 i3~"qbU%z[ 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 B#RwW, 12.3 参考文献 276 4LqJ4jo 13 Runsheet 与Simulator 277 iaAVGgA9+ 13.1 原理介绍 277 }eUeADbC 13.2 截止滤光片设计 277 tz&'!n}
14 光学常数提取 289 \M~M 14.1 介绍 289 H!Gsu$C 14.2 电介质薄膜 289 m\>531& 14.3 n 和k 的提取工具 295 }%_h|N 14.4 基底的参数提取 302 h#Cq-^D#~ 14.5 金属的参数提取 306 ydo"H9NOS 14.6 不正确的模型 306 U4]>8L 14.7 参考文献 311 KE3/sw0 15 反演工程 313 Pt~mpRlH 15.1 随机性和系统性 313 >S4klW=*I 15.2 常见的系统性问题 314 M)t d%<_ 15.3 单层膜 314 qdoJIP{ 15.4 多层膜 314 mJT< 15.5 含义 319 @/i;/$\ 15.6 反演工程实例 319 t(69gF\" 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 %[(DFutJY+ 15.6.2 反演工程提取折射率 327 OQ&?^S`8', 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 c,%9Fh?( 16.1 光学性质的热致偏移 329 r|t;# 16.2 应力工具 335 1:]iV}OFqR 16.3 均匀性误差 339 Jolr"F? 16.3.1 圆锥工具 339 p!^.;c 16.3.2 波前问题 341 RD_IGV 16.4 参考文献 343 Ei!5Qya> 17 如何在Function(模块)中编写操作数 345 r8\"'4B1 17.1 引言 345 Lc ,te1 17.2 操作数 345 >vE1,JD)w 18 如何在Function中编写脚本 351 bl. y4 18.1 简介 351 EsR_J/:Qe 18.2 什么是脚本? 351 rb_ cm 18.3 Function中脚本和操作数对比 351 xBH`=e< 18.4 基础 352 \DsP'-t 18.4.1 Classes(类别) 352 u4QPO:,a4 18.4.2 对象 352 2Qg.b-C 18.4.3 信息(Messages) 352 {=Y%=^! s 18.4.4 属性 352 [iE% P^ 18.4.5 方法 353 n_5m+
1N 18.4.6 变量声明 353 o~7~S 18.5 创建对象 354 TCAtb('D 18.5.1 创建对象函数 355 T1TKwU8l 18.5.2 使用ThisSession和其它对象 355 p9]008C89 18.5.3 丢弃对象 356 *B"p:F7J| 18.5.4 总结 356 v;.7-9c* 18.6 脚本中的表格 357 \tf \fa 18.6.1 方法1 357 # Vz9j 18.6.2 方法2 357 ,4$ZB(\ 18.7 2D Plots in Scripts 358 4$Oakl*l 18.8 3D Plots in Scripts 359 WE""be8 18.9 注释 360 3=w$1.B d 18.10 脚本管理器调用Scripts 360 zbsdK 18.11 一个更高级的脚本 362 J6Uo+0S 18.12 <esc>键 364 dL%?k@R 18.13 包含文件 365 FoY_5/ 18.14 脚本被优化调用 366 IQ_2(8Kv 18.15 脚本中的对话框 368 J#DYZ>}Y 18.15.1 介绍 368 (`+%K_ 18.15.2 消息框-MsgBox 368 aw9/bp*N 18.15.3 输入框函数 370 &Rw4ub3 18.15.4 自定义对话框 371 39| W(, 18.15.5 对话框编辑器 371 #"{wm 18.15.6 控制对话框 377 YCvIB' 18.15.7 更高级的对话框 380 @[{9B6NlV 18.16 Types语句 384 XOsPKq 18.17 打开文件 385 TR:V7d 18.18 Bags 387 I}JC ~=`j 18.13 进一步研究 388 *?'nA{a)E 19 vStack 389 XB 19.1 vStack基本原理 389 tU2 8l. 19.2 一个简单的系统——直角棱镜 391 5Vo8z8]t` 19.3 五棱镜 393 qN h:;` 19.4 光束距离 396 YTH3t]
& 19.5 误差 399 `I|$U)' 19.6 二向分色棱镜 399 pR6mSfer 19.7 偏振泄漏 404 ;&B;RUUnTO 19.8 波前误差—相位 405 E.V#Bk=
19.9 其它计算参数 405 'p3JYRT$ 20 报表生成器 406 m$^Wyk} 20.1 入门 406 _;baZ- 20.2 指令(Instructions) 406 5 [{l9 20.3 页面布局指令 406 r;}%} /IX 20.4 常见的参数图和三维图 407 =6FA(R|QU 20.5 表格中的常见参数 408 .U.Knn 20.6 迭代指令 408 WGwpryaya 20.7 报表模版 408 eUP.:(E 20.8 开始设计一个报表模版 409 9[yW&t;# 21 一个新的project 413 wc?`QX}I 21.1 创建一个新Job 414 OwhMtYq 21.2 默认设计 415 Wk1o H 21.3 薄膜设计 416 1?:/8l%V 21.4 误差的灵敏度计算 420 u#9 H 21.5 显色指数计算 422 QWL$F:9: 21.6 电场分布 424 ;S
Re` 后记 426 $ ?ayE o+{]&V->gN 1/b5i8I2v 书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 fuRCM^U( TmI~P+5w 《Essential Macleod中文手册》[attachment=120545] 9!CD25u QD6<sw@]P 目 录 Zb> UY8 ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 A HnXN%m 第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 '3B"@^] 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 {O24:'K& 第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 N %;bV@A9 第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 )4h4ql W 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 Er@'X0n 第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 9j'(T:Zs 第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167
g!/O)X3 第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 l@edR)n < 第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 h=<x%sie 第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 v#/k`x\ 第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 p./9^S
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 . W ~&d_n 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 ,O`a_b] 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 .7GTL 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 CKB~&>xx d@d\9*mn 价 格:400元
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