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infotek 2023-09-25 08:23

上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)

时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 .N zW@|  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 &viwo}ls0  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 ex@,F,u>o  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 /el["l  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 ] dm1Qm  
[attachment=120542] %h/#^esi  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 n,Yr!W:h  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 pr[B$X .V  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 tpNtoqg_$  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 dIBKE0`  
1. Essential Macleod软件介绍 K c2OLz#  
1.1 介绍软件 niBjq#bJi  
1.2 创建一个简单的设计 (_i vN  
1.3 绘图和制表来表示性能 EL 8N[]RF  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 @~!-a s7  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) q5'yD;[hE  
1.6 特定设计的公式技术 E.H,1 {  
1.7 交互式绘图 T~wZ  
2. 光学薄膜理论基础  s>*Q  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 9A* ?E  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 \CJx=[3(  
3. 材料管理 @LW xz  
3.1 材料模型 oM18aR&  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 c`$`0}  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 !CVBG *E^l  
3.4 基板光学常数的提取 :cmI"Bo  
4. 光学薄膜设计优化方法 qUDz(bFk/  
4.1 参考波长与g 8}pcanPg  
4.2 四分之一规则 mNnw G);$  
4.3 导纳与导纳图 guUr1Ij  
4.4 斜入射光学导纳 JXSqtk=  
4.5 光学薄膜设计的进展 }!Diai*C  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 8[`^(O#\E  
4.6.1 优化目标设置 IioE<wS)  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) VhH]n yi7D  
4.6.3 膜层锁定和链接 >Xh(`^}SQ*  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 xvx\H'  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 $)TF,-#x  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 a7v[l04  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 bE`*Uw4  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 TOPPa?=vk  
5.5 如何在Function中编写脚本 -'H+lrmv  
6. 光学薄膜系统案例 ?D~SHcBaN  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 "$V8y  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 ~&[P` Z$  
6.3 Stack应用范例说明 4_m /_Z0x  
7. 薄膜性能分析 Zs5I?R1e8  
7.1 电场分布 @R OY}CZ{/  
7.2 公差与灵敏度分析 'j"N2NJ  
7.3 反演工程 /c$Ht  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 J?Ep Nie  
8. 真空技术 :oj) eS[Y  
8.1 常用真空泵介绍 ,m?UFRi  
8.2 真空密封和检漏 hRy }G'0  
9. 薄膜制备技术 ^/d^$  
9.1 常见薄膜制备技术 t zW<&^  
10. 薄膜制备工艺 `Z7ITvF>  
10.1 薄膜制备工艺因素 /o1)ZC$  
10.2 薄膜均匀性修正技术 4h_4jqf=pU  
10.3 光学薄膜监控技术 0)`lx9&h  
11. 激光薄膜 M(h H#_ $  
11.1 薄膜的损伤问题 W$t}3Ru  
11.2 激光薄膜的制备流程 xu?QK6D:  
11.3 激光薄膜的制备技术 F;Xq:e8  
12. 光学薄膜特性测量 N;ecT@U g  
12.1 薄膜光谱测量 j3[OY  
12.2 薄膜光学常数测量 klC^xSx  
12.3 薄膜应力测量 vs0H^L  
12.4 薄膜损伤测量 2E ; %=e  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析
[attachment=120543]
UWWD8~:  
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541]
书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=120544]
*ckrn>E{h  
内容简介 FTYLMQ i  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 \IZ4( Z  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 vK.4JOlRF  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ~Ro:mH: w  
w%o4MFK=!  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
f93X5hFnF  
^)IL<S&h  
目录 +heS\I_Mp  
Preface 1 645C]l  
内容简介 2 oJ@PJvmR&a  
目录 i YlcF-a  
1  引言 1 N evvA(M  
2  光学薄膜基础 2 q\HBAr y  
2.1  一般规则 2 ]ifHA# z`~  
2.2  正交入射规则 3 ,WDAcQ8\  
2.3  斜入射规则 6 Lr\ B  
2.4  精确计算 7 s=~7m.m  
2.5  相干性 8 bSmaE7  
2.6 参考文献 10 WfbNar[  
3  Essential Macleod的快速预览 10 -Lf6]5$2'  
4  Essential Macleod的特点 32 Sd{"A0[A|  
4.1  容量和局限性 33 >T*g'954xF  
4.2  程序在哪里? 33 .@3u3i64'  
4.3  数据文件 35 FHcqu_;J  
4.4  设计规则 35 ,M h/3DPgE  
4.5  材料数据库和资料库 37 GK+\-U)v  
4.5.1材料损失 38 l/UG+7  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 8v=47G  
4.5.2 材料库 41 / bu<,o  
4.5.3导出材料数据 43 +\Mm (Nd  
4.6  常用单位 43 {uM{5GSL  
4.7  插值和外推法 46 ftqW3VW  
4.8  材料数据的平滑 50 h8-tbHgpb  
4.9 更多光学常数模型 54 gwz _b  
4.10  文档的一般编辑规则 55 u R%R]X  
4.11 撤销和重做 56 tWOze, N  
4.12  设计文档 57 3L]^x9Cu)  
4.10.1  公式 58 }qdJ8K  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 &q}@[ )V4  
4.10.3  沉积密度 59 !cq| g  
4.10.4 平行和楔形介质 60 446hrzW>@  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 .F3LA6se  
4.10.4  性能 61 <r`Jn49  
4.10.5  保存设计和性能 64 # %y{mn  
4.10.6  默认设计 64 l<: E+lU  
4.11  图表 64 ![!b^:f  
4.11.1  合并曲线图 67 KJC9^BAr  
4.11.2  自适应绘制 68 &2]D+aL|h  
4.11.3  动态绘图 68 6ch[B`[h,  
4.11.4  3D绘图 69 I^Jp )k*z  
4.12  导入和导出 73 X/7_mU>aKT  
4.12.1  剪贴板 73 <0 idG  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 GWZXRUc  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 ']Xx#U N  
4.13  背景 77 MNmQ%R4jRN  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 K y2xWd8  
4.15  生成Rugate 84 ,:4w$!;  
4.16  参考文献 91 /0B ?3&H  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 CPeK0(7Zh  
5.1  Jobs 92 H 7F~+ Q-}  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 3}1+"? s  
5.3  输入材料 94 jeFl+K'1  
5.4  设计数据文件夹 95 |+~2sbM  
5.5  默认设计 95 64X#:t+  
6  细化和合成 97 #R~NR8( z  
6.1  优化介绍 97 G ]By_  
6.2  细化 (Refinement) 98 L5uI31  
6.3  合成 (Synthesis) 100 esFL<T  
6.4  目标和评价函数 101 =F[,-B~  
6.4.1  目标输入 102 2`U&,,-Mf  
6.4.2  目标 103 u.Yb#?  
6.4.3  特殊的评价函数 104 1AV1W_"  
6.5  层锁定和连接 104 /iuNdh  
6.6  细化技术 104 A3pQ?d[  
6.6.1  单纯形 105 @}!$NI8  
6.6.1.1 单纯形参数 106 8HA=O ?Cg  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 h*Tiv^a  
6.6.2.1 Optimac参数 108 cGp 6yf  
6.6.3  模拟退火算法 109 B8Zd#.6]  
6.6.3.1 模拟退火参数 109  "<h#Z(  
6.6.4  共轭梯度 111 M=`Se&-M  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 Li^!OHro.  
6.6.5  拟牛顿法 112 K+OU~SED%F  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 6l7a9IJ  
6.6.6  针合成 113 YDD]n*&  
6.6.6.1 针合成参数 114 !|c5@0Wr  
6.6.7 差分进化 114 8E%*o  
6.6.8非局部细化 115 :/l   
6.6.8.1非局部细化参数 115 io3'h:+9s  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 bC-x`a@  
6.7.1  细化 116 C8q-gP[  
6.7.2  合成 117  Z5-'|h$|  
6.8  参考文献 117 4O^1gw  
7  导纳图及其他工具 118 LXV6Ew5E  
7.1  简介 118 (Z +C  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 iUBni&B  
7.2.1  四分之一波长规则 119 gNQJ:!  
7.2.2  导纳图 120 )yZE>>3-  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 \c}r6xOr  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 ksp':2d}  
7.5  斜入射导纳图 141 -h`0v  
7.6  对称周期 141 )^sfEYoA  
7.7  参考文献 142 x=N;>  
8  典型的镀膜实例 143 &W!@3O{~.  
8.1  单层抗反射薄膜 145 # t Ki6u  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 nHjwT5Q+Q  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 kyB]fmS  
8.4  W-膜层 148 ?0Zw ^a  
8.5  V-膜层 149 /^G+vhlf\  
8.6  V-膜层高折射基底 150 /[5up  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 6^Vf 5W{  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 gHshG;z*  
8.9  四层抗反射薄膜 153 yQ50f~9  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 GXVGU-br  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 ?,C,q5 T\  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 j(JI$  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 7yl'!uz)9  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 pE,BE%  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 S5TT  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 JN)t'm[kyE  
8.17  1/4波长堆栈 162 p<34}iZ  
8.18  陷波滤波器 163 7Y:s6R|  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 9k&$bC+Q  
8.20  褶皱 165 ^XVa!s,d  
8.21  消偏振分光器1 169 v^ G5 N)F  
8.22  消偏振分光器2 171 EMbsKG  
8.23  消偏振立体分光器 172 t+ ]+Gn  
8.24  消偏振截止滤光片 173 S(l^TF  
8.25  立体偏振分束器1 174 ! +7ve[z  
8.26  立方偏振分束器2 177 pE N`&'4  
8.27  相位延迟器 178 ]du~V?N   
8.28  红外截止器 179 Nl _Jp:8s  
8.29  21层长波带通滤波器 180 e>.xXg6Zn  
8.30  49层长波带通滤波器 181 Rim}DfO/  
8.31  55层短波带通滤波器 182 b}*hodzF  
8.32  47 红外截止器 183 r%i{a  
8.33  宽带通滤波器 184 1S:H!h3  
8.34  诱导透射滤波器 186 LlJvuQ 28  
8.35  诱导透射滤波器2 188 dX=^>9hN/  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 W+X zU"l  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 v( B4Bz2  
8.35  增益平坦滤波器 193 Nfh(2g K+  
8.38  啁啾反射镜 1 196 9h8G2J o  
8.39  啁啾反射镜2 198 H<"j3qt  
8.40  啁啾反射镜3 199 ,<7f5qg "'  
8.41  带保护层的铝膜层 200 RJSgts "F  
8.42  增加铝反射率膜 201 J:a^''  
8.43  参考文献 202 H@:@zD!G[  
9  多层膜 204 qxx.f5 8H  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 ] W_T(C*  
9.2  内部透过率 204 CiSG=obw  
9.3 内部透射率数据 205 PdZSXP4;k  
9.4  实例 206 I_rVeMw=  
9.5  实例2 210 >smaR^m  
9.6  圆锥和带宽计算 212 zqkmsFH{  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 K]l) z* I  
10  光学薄膜的颜色 216 :.,I4>b2  
10.1  导言 216 bOdD:=f  
10.2  色彩 216 &AVi4zV  
10.3  主波长和纯度 220 M*N8p]3Cq  
10.4  色相和纯度 221 #z.x3D@^r6  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 ZSNg^)cN  
10.6 色差 226 gNeCnf#Xa  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 xjpW<-)MLf  
10.8  颜色渲染指数 234 .(-3L9T}  
10.9  色差计算 235 *bx cq  
10.10  参考文献 236 J98K:SAR  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 :lAR;[WFS  
11.1  短脉冲 238 !IS ,[  
11.2  群速度 239 {`LV{ !  
11.3  群速度色散 241 =3'wHl  
11.4  啁啾(chirped) 245 e_I 8Jj4  
11.5  光学薄膜—相变 245 Syk^7l  
11.6  群延迟和延迟色散 246 0Ju{6x(|  
11.7  色度色散 246 VWi-)  
11.8  色散补偿 249 a/ZfPl0Ns[  
11.9  空间光线偏移 256 qA30G~S  
11.10  参考文献 258 `W9_LROD  
12  公差与误差 260 -Da_#_F  
12.1  蒙特卡罗模型 260 Q%a4g  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 #?9o A4Q  
12.2.1  误差工具 267 ":Q^/;D}U  
12.2.2  灵敏度工具 271 \3l;PY  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 ;3!TOY"j;e  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 H4N==o  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 LYX+/@OU2  
12.3  参考文献 276 g5.Z B@j  
13  Runsheet 与Simulator 277 8HzEH-J   
13.1  原理介绍 277 G>Q{[m$  
13.2  截止滤光片设计 277 M@8(h=  
14  光学常数提取 289 S(Pal/-"  
14.1  介绍 289 K"#}R<k8:A  
14.2  电介质薄膜 289 ]mp.KvB  
14.3  n 和k 的提取工具 295 _ |; bh  
14.4  基底的参数提取 302 U;(&!Ei  
14.5  金属的参数提取 306 'BC-'Ot  
14.6  不正确的模型 306 y& )z\8  
14.7  参考文献 311 {XVSHUtw  
15  反演工程 313 0V^?~ex  
15.1  随机性和系统性 313 1#'wR3[+  
15.2  常见的系统性问题 314 l6&R g-  
15.3  单层膜 314 W`Soa&9  
15.4  多层膜 314 loZfzN&6A  
15.5  含义 319 |^1eL I  
15.6  反演工程实例 319 _]\mh,}  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 ()7=(<x{  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 aU3&=aN+  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 GXAcy OV  
16.1  光学性质的热致偏移 329 ,Yo In  
16.2  应力工具 335 GcKJpI\sB  
16.3  均匀性误差 339 ':Te#S  
16.3.1  圆锥工具 339 d; M&X!Y  
16.3.2  波前问题 341 .JzO f[g5  
16.4  参考文献 343 .(sT?M`\J  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 lY~xoHT;[  
17.1  引言 345 th]9@7UE,  
17.2  操作数 345  I{E10;  
18  如何在Function中编写脚本 351 Z#F2<*+Pe  
18.1  简介 351 'K0Y@y  
18.2  什么是脚本? 351 dLAElTg  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 u+Li'Ug  
18.4  基础 352 3}H94H)]a  
18.4.1  Classes(类别) 352 a`T{ 5*@  
18.4.2  对象 352 tDi<n}  
18.4.3  信息(Messages) 352 39OZZaWL  
18.4.4  属性 352 NE(6`Wq`  
18.4.5  方法 353 $rdA0%;  
18.4.6  变量声明 353 0c]Lm?&  
18.5  创建对象 354 fD!O aK  
18.5.1  创建对象函数 355 L<E`~\C'  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 6rRPqO j  
18.5.3 丢弃对象 356 i$ Zhk1  
18.5.4  总结 356 kJ~^  }o  
18.6  脚本中的表格 357 w_9:gprf  
18.6.1  方法1 357 ~<|xS  
18.6.2  方法2 357 BqR8%F  
18.7 2D Plots in Scripts 358 ZJ!/49c*>  
18.8 3D Plots in Scripts 359 GE"#.J4z  
18.9  注释 360 d/;oNC+  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 nOOA5Gz   
18.11  一个更高级的脚本 362 /$B<+;L!#  
18.12  <esc>键 364 wZ *m  
18.13 包含文件 365 4Jw0m#UN1  
18.14  脚本被优化调用 366 ?4xTA  
18.15  脚本中的对话框 368 )2\6 Fy0S  
18.15.1  介绍 368 & K7+V  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 JK,k@RE y]  
18.15.3  输入框函数 370 T9u/|OP  
18.15.4  自定义对话框 371 #MI}KmH  
18.15.5  对话框编辑器 371 pO"V9[p]  
18.15.6  控制对话框 377 5^tL#  
18.15.7  更高级的对话框 380 27;*6/>,  
18.16 Types语句 384 * F&C`]  
18.17 打开文件 385 5HmX-+XpK  
18.18 Bags 387 Lx2.E1?@  
18.13  进一步研究 388 3C.bzw^  
19  vStack 389 nE,"3X"   
19.1  vStack基本原理 389 oZ!rK/qoA  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 N>VA`+aFR  
19.3  五棱镜 393 [_${N,1  
19.4 光束距离 396 OrHnz981K  
19.5 误差 399 ]{dg"J  
19.6  二向分色棱镜 399 mw.9cDf  
19.7  偏振泄漏 404 X1$0'u sS  
19.8  波前误差—相位 405 MA"DP7e?v  
19.9  其它计算参数 405 KbSIKj  
20  报表生成器 406 (0^u  
20.1  入门 406 {V8 v  
20.2  指令(Instructions) 406 c^I_~OwaE  
20.3  页面布局指令 406 3TO$J  
20.4  常见的参数图和三维图 407 MLaH("aen  
20.5  表格中的常见参数 408 M,:GMO:?a  
20.6  迭代指令 408 ]Y:|%rvVH  
20.7  报表模版 408 4K:p  
20.8  开始设计一个报表模版 409 entO"~*EX  
21  一个新的project 413 NfKi,^O  
21.1  创建一个新Job 414 8L.Y0_x  
21.2  默认设计 415 |UE&M3S  
21.3  薄膜设计 416 $--W,ov5j  
21.4  误差的灵敏度计算 420 "w=.2A:q  
21.5  显色指数计算 422 A{Pp`*l  
21.6  电场分布 424 Fn$EP:>  
后记 426 TDA+ rl  
$Y 7q2  
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书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 :*#I1nb$  
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《Essential Macleod中文手册》
[attachment=120545]
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目  录 wF[^?K '  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 X5'foFE'  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 @~xNax&^  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 (Z;-u+ }.  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 [{- Oy#T<  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 td&W>(3d  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 QVm3(;&'  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 2t*@P"e!  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 zuwCN.  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 -# |J  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 u.gnv dU  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 aB+Ux< -  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 %5NfF65'  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 bncIxxe  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 a3sXl+$D@  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 E_MGejm@  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 C1Slx !}  
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infotek 2023-10-11 11:55
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infotek 2023-10-20 08:54
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查看本帖完整版本: [-- 上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五) --] [-- top --]

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