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infotek 2023-09-25 08:23

上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)

时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 @wa"pWx8  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 =oIt.`rf  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 !L{mE&  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 k kAg17 ^  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 $.pCoS]i  
[attachment=120542] >!@D^3PPA  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 u9|Eos i  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 ]|eMEN['  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 :0Jn`Ds4o  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 jvsSP?]n  
1. Essential Macleod软件介绍 MymsDdQ]  
1.1 介绍软件 ]o]`X$n  
1.2 创建一个简单的设计 i_Q1\_m!  
1.3 绘图和制表来表示性能 p@% Pdx  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 lAM)X&}0  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) v~Dobk/n  
1.6 特定设计的公式技术 A r~/KRK  
1.7 交互式绘图 WN{8gL&y  
2. 光学薄膜理论基础 rhQ+ylt8I  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 y\;oZ]J  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 <Tjhj *  
3. 材料管理 _g/d/{-{Q  
3.1 材料模型 Bj2iYk_cLa  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 }wn|2K'  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 YT oG'#qs  
3.4 基板光学常数的提取 zeQ~'ao<  
4. 光学薄膜设计优化方法 N*|EfI|X  
4.1 参考波长与g { 'A 15  
4.2 四分之一规则 NpZ'pBl  
4.3 导纳与导纳图 )e P Qxx  
4.4 斜入射光学导纳 Bf00&PE;  
4.5 光学薄膜设计的进展 -M6vg4gf  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 Zy3F%]V0  
4.6.1 优化目标设置 qXq#A&  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) /<LjD  
4.6.3 膜层锁定和链接 paD[4L?4Hk  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 ~s4JGV~R  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 \G v\&_  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 3{co.+  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 }0E@eL  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 85io %>&0  
5.5 如何在Function中编写脚本 uGXvP(Pg'  
6. 光学薄膜系统案例 hl**G4z9q  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 c/bT5TIEWs  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 rjcH[U(  
6.3 Stack应用范例说明 N)E'k%?,  
7. 薄膜性能分析 vFJ4`Gjw(  
7.1 电场分布 Ja*,ht(5  
7.2 公差与灵敏度分析 8M!9gvcaO  
7.3 反演工程 b_{+OqI  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 M_E$w$l2<  
8. 真空技术 9<CUm"%J  
8.1 常用真空泵介绍 hOLlZP+  
8.2 真空密封和检漏 8b,Z)"(U3  
9. 薄膜制备技术 wd|^m%  
9.1 常见薄膜制备技术 2ALYfZ|d  
10. 薄膜制备工艺 LL3| U  
10.1 薄膜制备工艺因素 Y(rQ032s  
10.2 薄膜均匀性修正技术 x?{l<mc  
10.3 光学薄膜监控技术 rS\mFt X  
11. 激光薄膜 S?v;+3TG  
11.1 薄膜的损伤问题 QrmGrRH  
11.2 激光薄膜的制备流程 ]OKKR/:  
11.3 激光薄膜的制备技术 ^v;8 (eF  
12. 光学薄膜特性测量 DPnrzV )  
12.1 薄膜光谱测量 .ejC#vB{KM  
12.2 薄膜光学常数测量 "0G)S'  
12.3 薄膜应力测量 E?K(MT&@  
12.4 薄膜损伤测量 O>X!78]#K  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析
[attachment=120543]
tJ d/u QJ  
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541]
书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=120544]
k~<ORnda  
内容简介 0\ j)!b  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 2V9"{F?  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 'g)5vI~'  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 z9AX8k(B6  
{|zQ .s A  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
u?g;fh6  
#c<F,` gdi  
目录 Pa\yp?({q  
Preface 1 b7M)  
内容简介 2 =1B;<aZH!  
目录 i M _Lj5`  
1  引言 1 +Sv2'& B  
2  光学薄膜基础 2 0R+<^6^l)  
2.1  一般规则 2 i}:^<jDv?  
2.2  正交入射规则 3 i"!j:YEo  
2.3  斜入射规则 6 czo*_q%  
2.4  精确计算 7 V,tYqhQ3  
2.5  相干性 8 P]4u`&  
2.6 参考文献 10 A:sP%c;  
3  Essential Macleod的快速预览 10 ,tFLx#e#  
4  Essential Macleod的特点 32 Q?m= a0g  
4.1  容量和局限性 33 !Cm9DzG  
4.2  程序在哪里? 33 +{ e2TY  
4.3  数据文件 35 FO|Eg9l  
4.4  设计规则 35 jA%R8hdr_  
4.5  材料数据库和资料库 37 %8% 0l*n'  
4.5.1材料损失 38 5Obv/C  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 :bp8S@  
4.5.2 材料库 41 olDzmy(=W*  
4.5.3导出材料数据 43 NydoX9  
4.6  常用单位 43 #k)J);&ZA  
4.7  插值和外推法 46 /EM=!@ka  
4.8  材料数据的平滑 50 *zPz)3;  
4.9 更多光学常数模型 54 Z oKXao  
4.10  文档的一般编辑规则 55 cC`PmDGq  
4.11 撤销和重做 56 l) )Cvre+  
4.12  设计文档 57 r<kqs,-~  
4.10.1  公式 58 }cy<$=c#E_  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 %Zu+=I Z  
4.10.3  沉积密度 59 hKK"D:?PRs  
4.10.4 平行和楔形介质 60 2I~a{:O  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 iJ`v3PP  
4.10.4  性能 61 yD&UH_ 1g  
4.10.5  保存设计和性能 64 Y5Z<uD  
4.10.6  默认设计 64 ?)c9!hR  
4.11  图表 64 xOpCybmc  
4.11.1  合并曲线图 67 V0$:t^^  
4.11.2  自适应绘制 68 klC48l  
4.11.3  动态绘图 68 0',-V2  
4.11.4  3D绘图 69 %?:eURQ  
4.12  导入和导出 73 v/7iu*u  
4.12.1  剪贴板 73 7;:Uv=  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 _/[(&}M  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 cLnvb!g'#  
4.13  背景 77 _Nq7_iT0  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 ulnlRx  
4.15  生成Rugate 84 wd~!j&`a  
4.16  参考文献 91 w=75?3c7F  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 c3aF lxW  
5.1  Jobs 92 -jsk-,  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 ?`D/#P  
5.3  输入材料 94 {d,~=s0T  
5.4  设计数据文件夹 95 6oLq2Z8uP  
5.5  默认设计 95 @460r  
6  细化和合成 97 0NG<uZ  
6.1  优化介绍 97 P"mD 73a  
6.2  细化 (Refinement) 98 nqyB,vv0  
6.3  合成 (Synthesis) 100 0V:PRq;v0  
6.4  目标和评价函数 101 B mxBbg  
6.4.1  目标输入 102 % g*AGu`  
6.4.2  目标 103 r$Ck:Q}  
6.4.3  特殊的评价函数 104 wi/dR}*A  
6.5  层锁定和连接 104 .q7o7J%  
6.6  细化技术 104 |\~!o N  
6.6.1  单纯形 105 2f$6}m'Ad  
6.6.1.1 单纯形参数 106 G+xdh  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 [8Zvs=1  
6.6.2.1 Optimac参数 108 :vJ0Ypz-u  
6.6.3  模拟退火算法 109 u CNi&.  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 GE[J`?E]  
6.6.4  共轭梯度 111 m2"~.iM8  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 -F|C6m!  
6.6.5  拟牛顿法 112 ^.@BD4/RPt  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 As7Y4w*+  
6.6.6  针合成 113 ]1 OZY@  
6.6.6.1 针合成参数 114 r/vRaOg>X  
6.6.7 差分进化 114 KoNJ;YiKtN  
6.6.8非局部细化 115 2U;ImC1g  
6.6.8.1非局部细化参数 115 ,s,VOyr @F  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 6-<>P E2  
6.7.1  细化 116 xui.63/  
6.7.2  合成 117 )tyhf(p6  
6.8  参考文献 117 )N4_SA  
7  导纳图及其他工具 118 GwoN=  
7.1  简介 118 ;:l\_b'Z}  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 u/BCl!`  
7.2.1  四分之一波长规则 119 5h2@n0  
7.2.2  导纳图 120 $fwv'  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 M1/Rba Q  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 RMx$]wn_  
7.5  斜入射导纳图 141 `'{>2d%\g  
7.6  对称周期 141 ,:QzF"MV  
7.7  参考文献 142 SGREpOlJ+  
8  典型的镀膜实例 143 p=65L  
8.1  单层抗反射薄膜 145 #X(KW&;m  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 1 f;k)x  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 D^knN-nZ*  
8.4  W-膜层 148 AVys`{*c  
8.5  V-膜层 149 ']hB_ 4v  
8.6  V-膜层高折射基底 150 #FBq8iJ  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 .(0'l@#fT  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 BQcrF{q  
8.9  四层抗反射薄膜 153 OXs-gC{b  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 2%'iTXF  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 ^$7Lmd.qI  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 C[ ehw  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 ;:[!I]E0  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 Fx.hti  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 y-TS?5Dr]  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 ZV`D} CQ  
8.17  1/4波长堆栈 162 ;L5'3+U  
8.18  陷波滤波器 163 #l6L7u0~wC  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 $vC!Us{z  
8.20  褶皱 165 CVh^~!"7j  
8.21  消偏振分光器1 169 8#9 di  
8.22  消偏振分光器2 171 ~L G).  
8.23  消偏振立体分光器 172 d+_wN2  
8.24  消偏振截止滤光片 173 DL5`A?/  
8.25  立体偏振分束器1 174 DA_[pR  
8.26  立方偏振分束器2 177 #[^?f[ 9r  
8.27  相位延迟器 178 s!Xj'H7K  
8.28  红外截止器 179 meHAa`  
8.29  21层长波带通滤波器 180 $DmWK_A  
8.30  49层长波带通滤波器 181 Rl7V~dUY  
8.31  55层短波带通滤波器 182 ik@g;>pQD  
8.32  47 红外截止器 183 n1n1 }  
8.33  宽带通滤波器 184 >g ]S"ku|  
8.34  诱导透射滤波器 186 3McBTa!  
8.35  诱导透射滤波器2 188 x:`]uOp  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 2Rc'1sCth-  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 Vj7(6'Hg  
8.35  增益平坦滤波器 193 E-NuCP%|c  
8.38  啁啾反射镜 1 196 ;O*y$|+PA  
8.39  啁啾反射镜2 198 &wbe^Wp  
8.40  啁啾反射镜3 199 \dAh^BK1(  
8.41  带保护层的铝膜层 200 h2 2-v X  
8.42  增加铝反射率膜 201 t> J 43  
8.43  参考文献 202 /lKgaq.  
9  多层膜 204 fLj#+h-!  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 N 4$!V}pp  
9.2  内部透过率 204 Iz/o|o]#  
9.3 内部透射率数据 205 iV!o)WvG,F  
9.4  实例 206 _L mDF8Q(  
9.5  实例2 210 *Z! #6(G  
9.6  圆锥和带宽计算 212 lHBk&UN'  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214  `)`J  
10  光学薄膜的颜色 216 - Dm/7Sxd`  
10.1  导言 216 Hmt} @  
10.2  色彩 216 b[<zT[.:  
10.3  主波长和纯度 220 x:W nF62  
10.4  色相和纯度 221 o +sb2:x  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 )~1QOl "~  
10.6 色差 226 58"Cn ||tF  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 acgtXfHR  
10.8  颜色渲染指数 234 `A8nAgbe  
10.9  色差计算 235 xEN""*Q  
10.10  参考文献 236 5Z]zul@+*  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 P9~7GFas|  
11.1  短脉冲 238 3fJ GJW!zu  
11.2  群速度 239 7mipj]  
11.3  群速度色散 241 <]6])f,y\  
11.4  啁啾(chirped) 245 NIcPjo  
11.5  光学薄膜—相变 245 {_0m0 8  
11.6  群延迟和延迟色散 246 @^8tk3$ Y  
11.7  色度色散 246 lwEJ)Bv  
11.8  色散补偿 249 .CI { g2  
11.9  空间光线偏移 256  VP H  
11.10  参考文献 258 :kUZNw'Bi  
12  公差与误差 260 *NdSL  
12.1  蒙特卡罗模型 260 \_pP:e  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 YPQ&hEu0  
12.2.1  误差工具 267 LeBuPR$  
12.2.2  灵敏度工具 271 w=.w*?>  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 %N#8D<ULd  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 i3~"qbU%z[  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 B#RwW,  
12.3  参考文献 276 4LqJ4jo  
13  Runsheet 与Simulator 277 iaAVGgA9+  
13.1  原理介绍 277 }eUeADbC  
13.2  截止滤光片设计 277 tz&'!n}  
14  光学常数提取 289 \M~M  
14.1  介绍 289 H!Gsu$C  
14.2  电介质薄膜 289 m\>531&  
14.3  n 和k 的提取工具 295 } %_h|N  
14.4  基底的参数提取 302 h#Cq-^D#~  
14.5  金属的参数提取 306 ydo"H9NOS  
14.6  不正确的模型 306 U4]>8L  
14.7  参考文献 311 KE3/sw0  
15  反演工程 313 Pt~mpRl H  
15.1  随机性和系统性 313 >S4klW=*I  
15.2  常见的系统性问题 314 M)td%<_  
15.3  单层膜 314 qdoJIP{  
15.4  多层膜 314 mJT<  
15.5  含义 319 @/i;/$\  
15.6  反演工程实例 319 t(69gF\"  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 %[(DFutJY+  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 OQ&?^S`8',  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 c,%9Fh?(  
16.1  光学性质的热致偏移 329 r|t ;#  
16.2  应力工具 335 1:]iV}OFqR  
16.3  均匀性误差 339 Jolr"F?  
16.3.1  圆锥工具 339 p!^.;c  
16.3.2  波前问题 341 RD_IGV   
16.4  参考文献 343 Ei!5Qya>  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 r8\"'4B1  
17.1  引言 345 Lc ,te1  
17.2  操作数 345 >vE1,JD)w  
18  如何在Function中编写脚本 351 bl. y4  
18.1  简介 351 EsR_J/:Qe  
18.2  什么是脚本? 351 rb_ cm  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 xBH`=e <  
18.4  基础 352 \DsP '-t  
18.4.1  Classes(类别) 352 u4QPO:,a4  
18.4.2  对象 352 2Qg.b- C  
18.4.3  信息(Messages) 352 {=Y%=^!s  
18.4.4  属性 352 [ iE%P^  
18.4.5  方法 353 n_5m+ 1N  
18.4.6  变量声明 353 o~7~S  
18.5  创建对象 354 TCAtb('D  
18.5.1  创建对象函数 355 T1TKwU8l  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 p9]008C89  
18.5.3 丢弃对象 356 *B"p:F7J|  
18.5.4  总结 356 v;.7-9c*  
18.6  脚本中的表格 357 \tf \fa  
18.6.1  方法1 357  # Vz9j  
18.6.2  方法2 357 ,4$ZB(\  
18.7 2D Plots in Scripts 358 4$Oakl*l  
18.8 3D Plots in Scripts 359 WE""be8  
18.9  注释 360 3=w$1.B d  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 zbsdK  
18.11  一个更高级的脚本 362 J6Uo+0S  
18.12  <esc>键 364 dL%?k@R  
18.13 包含文件 365 FoY_5/  
18.14  脚本被优化调用 366 IQ_2(8Kv  
18.15  脚本中的对话框 368 J#DYZ>}Y  
18.15.1  介绍 368 (`+%K_  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 aw9/bp*N  
18.15.3  输入框函数 370 &Rw4ub3  
18.15.4  自定义对话框 371 39| W(,  
18.15.5  对话框编辑器 371 #" {wm  
18.15.6  控制对话框 377 YCvIB'  
18.15.7  更高级的对话框 380 @[ {9B6NlV  
18.16 Types语句 384 XO sPKq  
18.17 打开文件 385 TR:V7 d  
18.18 Bags 387 I}JC~=`j  
18.13  进一步研究 388 *?'nA{a)E  
19  vStack 389 XB  
19.1  vStack基本原理 389 tU2 8l.  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 5Vo8z8]t`  
19.3  五棱镜 393 qN h:;`  
19.4 光束距离 396 YTH3t] &  
19.5 误差 399 `I|$U)'  
19.6  二向分色棱镜 399 pR6mS fer  
19.7  偏振泄漏 404 ;&B;RUUnTO  
19.8  波前误差—相位 405 E.V#Bk=  
19.9  其它计算参数 405 'p3JYRT$  
20  报表生成器 406 m$^Wyk}  
20.1  入门 406 _ ;baZ-  
20.2  指令(Instructions) 406 5 [{l9  
20.3  页面布局指令 406 r;}%} /IX  
20.4  常见的参数图和三维图 407 =6FA(R|QU  
20.5  表格中的常见参数 408 .U.Knn  
20.6  迭代指令 408 WGwpryaya  
20.7  报表模版 408 eUP.:(E  
20.8  开始设计一个报表模版 409 9[yW&t;#  
21  一个新的project 413 wc?`QX}I  
21.1  创建一个新Job 414 OwhMtYq  
21.2  默认设计 415 Wk1o H  
21.3  薄膜设计 416 1?:/8l%V  
21.4  误差的灵敏度计算 420 u#9H  
21.5  显色指数计算 422 QWL$F:9:  
21.6  电场分布 424 ;S Re`  
后记 426 $ ?ayE  
o+{]&V->gN  
1/b5i8I2 v  
书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 fuRCM^U(  
TmI~P+5w  
《Essential Macleod中文手册》
[attachment=120545]
9!CD25u  
QD6<sw@]P  
目  录 Zb> UY8  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 A HnXN%m  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 '3B"@^]  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 {O24:'K&  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 N %;bV@A9  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 )4h4ql W  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 Er@'X0n  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 9j'(T:Zs  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 g!/O)X3  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 l@edR)n <  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 h = <x%sie  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 v#/k`x\  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 p./9^S  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 . W ~&d_n  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 ,O`a_b]  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312  .7GTL  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 CKB~&>xx  
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infotek 2023-10-11 11:55
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infotek 2023-10-20 08:54
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