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infotek 2023-09-25 08:23

上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)

时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 q] 2}UuM|U  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 'SsPx&)l  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 8h55$j  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 -HO6K) ur  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 \Sz4Gr0g3Z  
[attachment=120542]  ]H@v  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 F! |TW6)gv  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 DMy4"2 o  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 |:!E HFr  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 <|mE9u  
1. Essential Macleod软件介绍 oVKsic?  
1.1 介绍软件 9\\@I =;  
1.2 创建一个简单的设计 f(EYx)gZ  
1.3 绘图和制表来表示性能 m0dFA<5-  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 {s9y@c*15.  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) "~ .8eKRQ  
1.6 特定设计的公式技术 \c5#\1<  
1.7 交互式绘图 )Mm;9UA  
2. 光学薄膜理论基础 S jC)6mo  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 `kaR@t  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 u* #-7   
3. 材料管理 w a-_O<  
3.1 材料模型 ^sr:N5~z`  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 Pf^Ly 97  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 CDwFVR'_Af  
3.4 基板光学常数的提取 X^?|Sz<^E  
4. 光学薄膜设计优化方法 .j'@K+<45  
4.1 参考波长与g H| eD/6K  
4.2 四分之一规则 6!gtve_  
4.3 导纳与导纳图 r7]?g~zb  
4.4 斜入射光学导纳 \4]zNV ~x  
4.5 光学薄膜设计的进展 >*<6 zQf  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 r1^m#!=B  
4.6.1 优化目标设置 SNopAACf1  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) { ="Su{i}}  
4.6.3 膜层锁定和链接 *Bb|N--jI  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 A*-]J=:E {  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 VR5e CJ:i  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 !#_h2a  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 0C"PC:h5  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 l&e5_]+%  
5.5 如何在Function中编写脚本 $)kBz*C[  
6. 光学薄膜系统案例 x):k#cu[L  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 ?-RoqF  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 X*c_^g{  
6.3 Stack应用范例说明 D-2v>l_  
7. 薄膜性能分析 yP1Y3Tga=  
7.1 电场分布 %O4}i@Fe  
7.2 公差与灵敏度分析  01UR  
7.3 反演工程 Npf7p  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 tehI!->l  
8. 真空技术 q|Pt>4c5?  
8.1 常用真空泵介绍 $jUS[.S_|I  
8.2 真空密封和检漏 jU3;jm.)  
9. 薄膜制备技术 XeIUdg4>R  
9.1 常见薄膜制备技术 >TQBRA;'  
10. 薄膜制备工艺 8R??J>h5\  
10.1 薄膜制备工艺因素 a2 klOX{  
10.2 薄膜均匀性修正技术 7/U<\(V!g  
10.3 光学薄膜监控技术 N8MlT \+r  
11. 激光薄膜 ftI+#0?[!  
11.1 薄膜的损伤问题 q|]0on~ ]  
11.2 激光薄膜的制备流程 |)72E[lL  
11.3 激光薄膜的制备技术 bVAgul=__  
12. 光学薄膜特性测量 =p&'_a^$  
12.1 薄膜光谱测量 6Qzu-  
12.2 薄膜光学常数测量 +DbWMm  
12.3 薄膜应力测量 5M\=+5wB  
12.4 薄膜损伤测量 ma]F%E+$  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析
[attachment=120543]
_w5~/PbWt  
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541]
书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=120544]
EV?47\ ~  
内容简介 5w [=  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 N|Cy!E=d  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 4W//Oc@e  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 0Z) ;.l^  
|q.:hWYFpM  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
L/iVs`qF  
<@AsCiQF  
目录 V^$rH<  
Preface 1 S'-`\%@7  
内容简介 2 ,b.4uJg'  
目录 i CAo )v,f  
1  引言 1 )T};Q:  
2  光学薄膜基础 2 %[\Ft  
2.1  一般规则 2 *_).UAP.  
2.2  正交入射规则 3 E][{RTs  
2.3  斜入射规则 6 vo( j@+dz  
2.4  精确计算 7 5q_OuZ/6  
2.5  相干性 8 z)Q^j>%  
2.6 参考文献 10 6nWx>R<  
3  Essential Macleod的快速预览 10 @aV~.!!  
4  Essential Macleod的特点 32 @gqs4cg{f  
4.1  容量和局限性 33 j_a~)o-p  
4.2  程序在哪里? 33 | 8L`osg  
4.3  数据文件 35 rX>y>{w~  
4.4  设计规则 35 %}ApO{  
4.5  材料数据库和资料库 37 gM5p1?E  
4.5.1材料损失 38 =u3@ Dhw  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 ]-5jgz"  
4.5.2 材料库 41 0i Z9a/v  
4.5.3导出材料数据 43 T;[c<gc/  
4.6  常用单位 43 e9_O/iN  
4.7  插值和外推法 46 lKhh=Pc2  
4.8  材料数据的平滑 50 ~j&:)a'^  
4.9 更多光学常数模型 54 6[h$r/GXh"  
4.10  文档的一般编辑规则 55 &<P^Tvqq&  
4.11 撤销和重做 56 Qdr-GODx  
4.12  设计文档 57 wAOVH].  
4.10.1  公式 58 5f*'wA  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 ,S0~:c:)  
4.10.3  沉积密度 59 h. (;GJO  
4.10.4 平行和楔形介质 60 'iISbOM  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 UrcN?  
4.10.4  性能 61 'GzhZ`E6  
4.10.5  保存设计和性能 64 7f Tg97eF  
4.10.6  默认设计 64 "QFADk1  
4.11  图表 64 \y )4`A  
4.11.1  合并曲线图 67 @oc%4~zl  
4.11.2  自适应绘制 68 rD U6 5j  
4.11.3  动态绘图 68 (F '  
4.11.4  3D绘图 69 i`nw"8  
4.12  导入和导出 73 3&nc'  
4.12.1  剪贴板 73 qddT9U|8~  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 6BN(^y#-X  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 JX0_UU  
4.13  背景 77 KIBZQ.uG  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 s>``- ]3  
4.15  生成Rugate 84 jKV?!~/F  
4.16  参考文献 91 I;Fy k70w;  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 7RFkHME  
5.1  Jobs 92 xOyL2   
5.2  创建一个新Job(工作) 93 6ym)F!t8l  
5.3  输入材料 94 $F()`L{Tj  
5.4  设计数据文件夹 95 r\ Yur  
5.5  默认设计 95 f uN XY-;  
6  细化和合成 97 rHBjR_L.2  
6.1  优化介绍 97 JR<-'  
6.2  细化 (Refinement) 98 bl>b/u7/6  
6.3  合成 (Synthesis) 100 {BCj VmY  
6.4  目标和评价函数 101 =egi?Ne  
6.4.1  目标输入 102 5YH mp7c-z  
6.4.2  目标 103 UR2)e{RXg  
6.4.3  特殊的评价函数 104 %e<dV\x?T  
6.5  层锁定和连接 104 !K~$ -jlT  
6.6  细化技术 104 EEZ2Gu6c  
6.6.1  单纯形 105 GXlg%  
6.6.1.1 单纯形参数 106 / cen# pb  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 C$ `Y[w  
6.6.2.1 Optimac参数 108 [_hhC  
6.6.3  模拟退火算法 109 i6:yNb ='  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 j"u)/A8*  
6.6.4  共轭梯度 111 _O,ZeES  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 rPpAg  
6.6.5  拟牛顿法 112 *>$)#?t  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 T>%ny\?tHW  
6.6.6  针合成 113 G5f57F  
6.6.6.1 针合成参数 114 P2JRsZ.  
6.6.7 差分进化 114 gbf=H8]  
6.6.8非局部细化 115 "I FGW4FnL  
6.6.8.1非局部细化参数 115 E(LE*J  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 %ys}Q!gR  
6.7.1  细化 116 pP,bW~rk  
6.7.2  合成 117 Hll}8d6[  
6.8  参考文献 117 rg/vxTl  
7  导纳图及其他工具 118 1+}Ud.v3VW  
7.1  简介 118 =T4 w:  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 NB +O;  
7.2.1  四分之一波长规则 119 ;O|63  
7.2.2  导纳图 120 VDY1F_Fk  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 HWOH8q{f!  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 r$Qh`[<  
7.5  斜入射导纳图 141 jUSr t)o03  
7.6  对称周期 141 Z`c{LYP,y"  
7.7  参考文献 142 xG/qDc  
8  典型的镀膜实例 143 AK?j1Pk  
8.1  单层抗反射薄膜 145 qDd/wR,44  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 VVl-cU  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 q#3X*!)  
8.4  W-膜层 148  Bt3=/<.\  
8.5  V-膜层 149 lFY8^#@  
8.6  V-膜层高折射基底 150 r!,V_a4n  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 bI(98V,t  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 [V0h9!  
8.9  四层抗反射薄膜 153 7!nAWlQ&-E  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 zRFM/IYC  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 S`w)b'B!M  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 ~GYtU9s5  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 9W$)W  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 hO@3-SRa,k  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 [`\Qte%UH  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 7b2<, .E  
8.17  1/4波长堆栈 162 BmX Gk  
8.18  陷波滤波器 163 TN`:T.B  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 x's-UO"^  
8.20  褶皱 165 !I_4GE,  
8.21  消偏振分光器1 169 8:fiO|~%  
8.22  消偏振分光器2 171 SH|$Dg  
8.23  消偏振立体分光器 172 0%+k>(@ R  
8.24  消偏振截止滤光片 173 ,m]q+7E  
8.25  立体偏振分束器1 174 hj,x~^cS  
8.26  立方偏振分束器2 177 Mwc3@  
8.27  相位延迟器 178 ?='9YM  
8.28  红外截止器 179 ZE` {J =,  
8.29  21层长波带通滤波器 180 X&Lt?e,&  
8.30  49层长波带通滤波器 181 &}1)]6q$  
8.31  55层短波带通滤波器 182 ]]3D` F}  
8.32  47 红外截止器 183 q8>Q,F`BA  
8.33  宽带通滤波器 184 q /?_djv  
8.34  诱导透射滤波器 186 =C)1NJx&~  
8.35  诱导透射滤波器2 188 `oBzt |f5  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 Kjw\SQ)2~  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 1PSb72h<  
8.35  增益平坦滤波器 193 sc60:IxgI  
8.38  啁啾反射镜 1 196 E76:}(  
8.39  啁啾反射镜2 198 S &u94hlC  
8.40  啁啾反射镜3 199 P7-3Vf_L  
8.41  带保护层的铝膜层 200 )zo ;r!eP  
8.42  增加铝反射率膜 201 cC.DBYV+-  
8.43  参考文献 202 2_X0Og8s[  
9  多层膜 204 "g-NUl`'  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 aa/9o ]  
9.2  内部透过率 204 9<S-b |!@  
9.3 内部透射率数据 205 +)S X  
9.4  实例 206 ,RQ-w2j?  
9.5  实例2 210 aK'r=NU  
9.6  圆锥和带宽计算 212 to7)gOX(  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 A4' aB0^  
10  光学薄膜的颜色 216 ( Iew%U  
10.1  导言 216 a0.XJR{T"  
10.2  色彩 216 pdSyx>rJ  
10.3  主波长和纯度 220 ^ZG1  
10.4  色相和纯度 221 -S @:  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 Sdp1h0E}7=  
10.6 色差 226 \ua.%|  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 v<1;1m  
10.8  颜色渲染指数 234 *en{pR'  
10.9  色差计算 235 :cTi$n  
10.10  参考文献 236 x]Ef}g  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 &&O=v]6,V  
11.1  短脉冲 238 Xl;N= fc  
11.2  群速度 239 1~ Nz6  
11.3  群速度色散 241 M .,|cx  
11.4  啁啾(chirped) 245 z/b*]"g,  
11.5  光学薄膜—相变 245 ] ?(=rm9u  
11.6  群延迟和延迟色散 246 *F0N'*  
11.7  色度色散 246 :Kiu*&{  
11.8  色散补偿 249  >pKI'  
11.9  空间光线偏移 256 zYgLGwi{  
11.10  参考文献 258 r DuG["  
12  公差与误差 260 uypD`%pC  
12.1  蒙特卡罗模型 260 X*KT=q^?n  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 *?{)i~  
12.2.1  误差工具 267 Rs wR DLl  
12.2.2  灵敏度工具 271 K#jm6Xh?E  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 Cb.Aw!  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 }R^{<{KVJ  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 k:sh:G+=$d  
12.3  参考文献 276 Y2Bu,/9^  
13  Runsheet 与Simulator 277 GfDA5v[  
13.1  原理介绍 277 zw?6E8$h  
13.2  截止滤光片设计 277 +Ji dP  
14  光学常数提取 289 ;XT$rtuX  
14.1  介绍 289 X`&E,;bIb  
14.2  电介质薄膜 289 n" sGI  
14.3  n 和k 的提取工具 295 A Ho<E"R\  
14.4  基底的参数提取 302 SPBXI[[-  
14.5  金属的参数提取 306 8Xr"4;}f+  
14.6  不正确的模型 306 OR3TRa XD  
14.7  参考文献 311 *h Ur E  
15  反演工程 313 c!zu0\[Id  
15.1  随机性和系统性 313 \ C Yu;  
15.2  常见的系统性问题 314 rAWBuEU;!  
15.3  单层膜 314 VuGSP]$q  
15.4  多层膜 314 g(1'i1  
15.5  含义 319 _wIAr  
15.6  反演工程实例 319 VrpY BU  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 3jeR;N]x  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 %uKD cj  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 3hkA`YSYt  
16.1  光学性质的热致偏移 329 a`}-^;}SW  
16.2  应力工具 335 [yz;OoA:;  
16.3  均匀性误差 339 ?pFHpz   
16.3.1  圆锥工具 339 rVLA"x 9u  
16.3.2  波前问题 341  u!(|y9p  
16.4  参考文献 343 &f[[@EF7  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 :H~r _>E  
17.1  引言 345 "xWC49   
17.2  操作数 345 X:YxsZQ 5Y  
18  如何在Function中编写脚本 351 \-^3Pe,  
18.1  简介 351 kns[b [!H  
18.2  什么是脚本? 351 c8(.bmvF  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 *{uu_O  
18.4  基础 352 xaPTTa  
18.4.1  Classes(类别) 352 # aC}\  
18.4.2  对象 352 Q,>AT$|  
18.4.3  信息(Messages) 352 bcQ$S;U)  
18.4.4  属性 352 PWTAy\  
18.4.5  方法 353 W*P/~U=  
18.4.6  变量声明 353 @ ~PL|Pp_  
18.5  创建对象 354 cng 1k  
18.5.1  创建对象函数 355 s;>jy/o0 s  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 )pg?ZM9  
18.5.3 丢弃对象 356 nF=h|rN  
18.5.4  总结 356 wEdXaOEB5  
18.6  脚本中的表格 357 ,$*$w<  
18.6.1  方法1 357 'INdZ8j_  
18.6.2  方法2 357 ur;8uv2o  
18.7 2D Plots in Scripts 358 \5Hfe;ny-~  
18.8 3D Plots in Scripts 359 zzM 'uo  
18.9  注释 360 \2uQ"kJC  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 GZse8ng  
18.11  一个更高级的脚本 362 5WEF^1  
18.12  <esc>键 364 )AnX[:y  
18.13 包含文件 365 B7cXbUAQs  
18.14  脚本被优化调用 366 *\emRI>  
18.15  脚本中的对话框 368 gP`8hNwR  
18.15.1  介绍 368 ^hU7QxW  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 w9vqFtj  
18.15.3  输入框函数 370 t'^/}=c-  
18.15.4  自定义对话框 371 hS<+=3 <M  
18.15.5  对话框编辑器 371 }=NjFK_6  
18.15.6  控制对话框 377 tv5SQ+AI3  
18.15.7  更高级的对话框 380 n<?:!f`   
18.16 Types语句 384 8dP^zjPj  
18.17 打开文件 385 >=wlS\:"  
18.18 Bags 387 h&&ufF]D  
18.13  进一步研究 388 ENygD  
19  vStack 389 QDs]{F#  
19.1  vStack基本原理 389 c'[l%4U8[  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 < f1Pj  
19.3  五棱镜 393 8@Pv nOL  
19.4 光束距离 396 -Zkl\A$>  
19.5 误差 399 'RXh E  
19.6  二向分色棱镜 399 PC/Oo~Gx  
19.7  偏振泄漏 404 5EM(3eY^q  
19.8  波前误差—相位 405 0:Xvch0  
19.9  其它计算参数 405 -|T.APxB  
20  报表生成器 406 (z\@T`6`  
20.1  入门 406 tAefBFu  
20.2  指令(Instructions) 406 Pr9$( 6MX  
20.3  页面布局指令 406 6Wl+5 a6V  
20.4  常见的参数图和三维图 407 YuFJJAJ  
20.5  表格中的常见参数 408 Z%k)'%_   
20.6  迭代指令 408 3 cu`U`  
20.7  报表模版 408 Q YPsqkF*  
20.8  开始设计一个报表模版 409 -b8Vz}Y  
21  一个新的project 413 # 2s$dI  
21.1  创建一个新Job 414 DR;rK[f  
21.2  默认设计 415 h#a,<B|  
21.3  薄膜设计 416 O)n"a\LD  
21.4  误差的灵敏度计算 420 IZ/+ROn  
21.5  显色指数计算 422 Pd6p)zj  
21.6  电场分布 424 |\Nu+w   
后记 426 h${+{1](6  
e<#t]V  
`{#0C-  
书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 J4&d6[40  
( $A0b  
《Essential Macleod中文手册》
[attachment=120545]
1YL6:5n  
VyK[*k yN  
目  录 },lHa!<^  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 LB1LQ 0M  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 D6fry\  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 V4PI~"4q#1  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 @m[q0G}  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 c 2t<WRG  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 Iy% fg',%  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 mII7p LbQ  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 %ukFn &-2@  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 pUi|&F K">  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 (e.?). e  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 )RG@D\t,  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 ;/l$&:  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 +uZ,}J  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 LhO%^`vu  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 w/ &)mm{  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 Z\c^CN  
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infotek 2023-10-11 11:55
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infotek 2023-10-20 08:54
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