上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)
时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 DcYL8u 授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天 AM 9:00-PM 16:00 H1>~,zc>E 授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 <` [o|>A Z 课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 K</EVt,U~ 课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 )l?1dR:sP [attachment=120542] 7.)kG}q] 易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 fE`p 获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 ,2oF t\`.r 随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 _|+}4 ap 本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 k;/K']4y 1. Essential Macleod软件介绍 2qd5iOhX+ 1.1 介绍软件 ?#s9@R1 1.2 创建一个简单的设计 vT@*o=I 1.3 绘图和制表来表示性能 6`Hd)T5{w 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 =jv3O.z q 1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) Db4(E*/pj! 1.6 特定设计的公式技术 k_;g-r, 1.7 交互式绘图 ]gjQy.c| 2. 光学薄膜理论基础 @};
vl 2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 %#t*3[ 2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 de=){.7Y 3. 材料管理 ^^,cnDlm 3.1 材料模型 W(5XcP( 3.2 介质薄膜光学常数的提取 ;k?Z,M: 3.3 金属薄膜光学常数的提取 \k4tYL5 3.4 基板光学常数的提取 =hRo#]{(K 4. 光学薄膜设计优化方法 M(
w'TE@ 4.1 参考波长与g 5
w-Pq&q 4.2 四分之一规则 A1Ru&fd! 4.3 导纳与导纳图 6v"WI@b4 4.4 斜入射光学导纳 + Vv+<M 4.5 光学薄膜设计的进展 [#@\A]LO 4.6 Macleod软件的设计与优化功能 3d>8~ANi=% 4.6.1 优化目标设置 0<i8
;2KD 4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) |j}D2q= 4.6.3 膜层锁定和链接 '4KN 5. Essential Macleod中各个模块的应用 "DO|B=EejP 5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 >\br8=R 5.2 光通信用窄带滤光片模拟 QM('bbN 5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 RGgePeaw 5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 !;3hN$5 5.5 如何在Function中编写脚本 f9K+o-P.h 6. 光学薄膜系统案例 +D+v j|fn 6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 }~NM\rm 6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 g^l~AR 6.3 Stack应用范例说明 vh"wXu 7. 薄膜性能分析 r01u3! 7.1 电场分布 C'~Eq3 7.2 公差与灵敏度分析 vpq"mpfkh 7.3 反演工程 FuC#w 9_ 7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 .oS[ DTn5S 8. 真空技术
F/SYmNp 8.1 常用真空泵介绍 63E)RR_Lh 8.2 真空密封和检漏 {S@gjMuN 9. 薄膜制备技术 EtnuEU 9.1 常见薄膜制备技术 redMlHM 10. 薄膜制备工艺 WA6reZ 10.1 薄膜制备工艺因素 `h%K8];<6f 10.2 薄膜均匀性修正技术 dQn,0 10.3 光学薄膜监控技术 `pb=y} 11. 激光薄膜 w=_q<1a 11.1 薄膜的损伤问题 .],:pL9d 11.2 激光薄膜的制备流程 vA"LV+@ 11.3 激光薄膜的制备技术 +H:}1sT;n 12. 光学薄膜特性测量 XuoyB{U 12.1 薄膜光谱测量 L\hid/NL 12.2 薄膜光学常数测量 6&+}Hhe 12.3 薄膜应力测量 *ESi~7;# 12.4 薄膜损伤测量 wpWZn[j 12.5 薄膜形貌、结构与组分分析[attachment=120543] %Rt
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有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541] 书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) [attachment=120544] C{:U<q
内容简介 5dX /< Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 EfB.K}b^ 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 $."DOZQ3U 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 +[ng99p &^`[$LtYd
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 Q#F9&{'l 2]y Hxo/6 目录 \JC_"gqt Preface 1 U2)?[C1q{ 内容简介 2 X?YT>+g; 目录 i jR9;<qT/ 1 引言 1 7g5Pc_ 2 光学薄膜基础 2 -_xTs(;|8 2.1 一般规则 2 YSzC's[ 2.2 正交入射规则 3 N1}r%!jk/ 2.3 斜入射规则 6 o5['5?i} / 2.4 精确计算 7 1pK(tm 2.5 相干性 8 O=eU38n:5u 2.6 参考文献 10 mPF<2:)wv 3 Essential Macleod的快速预览 10 e,xJ%f 4 Essential Macleod的特点 32 G6}!PEwM 4.1 容量和局限性 33 ykRd+H-t 4.2 程序在哪里? 33 EERCb%M8Z 4.3 数据文件 35 'C=(?H)M 4.4 设计规则 35 Scug
wSB 4.5 材料数据库和资料库 37 X(O:y^sX} 4.5.1材料损失 38 Ng1bjq}E2 4.5.1材料数据库和导入材料 39 <isU D6TC 4.5.2 材料库 41 Hh%"
4.5.3导出材料数据 43 ahdwoB 4.6 常用单位 43 odDVdVx0 4.7 插值和外推法 46 B}P!WRNmln 4.8 材料数据的平滑 50 f,kV 4.9 更多光学常数模型 54 l9]nrT1Hy 4.10 文档的一般编辑规则 55 V["'eJA,, 4.11 撤销和重做 56 ]*U+nG 4.12 设计文档 57 ^F
qs,^~W 4.10.1 公式 58 aTfc>A; 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 2c51kG77E 4.10.3 沉积密度 59 s1R#X~d 4.10.4 平行和楔形介质 60 Lxn-M5RPQ 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 d}
5 4.10.4 性能 61 S(Z\h_m( 4.10.5 保存设计和性能 64 z}iz~WZ 4.10.6 默认设计 64 G*=&yx."E 4.11 图表 64 Xq_hC"s 4.11.1 合并曲线图 67 P^ht$)Y 4.11.2 自适应绘制 68 L8Q/!+K 4.11.3 动态绘图 68 tJ*/5k
& 4.11.4 3D绘图 69 \[|X^8j 4.12 导入和导出 73 0$NzRPbH 4.12.1 剪贴板 73 &G[W$2`@ 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 G({5Lj gW 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 m;nH
v 4.13 背景 77 t\]kVo) 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 H]*B5Jv~ 4.15 生成Rugate 84 ~.6% %1? 4.16 参考文献 91 T*S)U ; 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 mKE'l'9A_ 5.1 Jobs 92 m<LzgX 5.2 创建一个新Job(工作) 93 xnJ#}-.7 5.3 输入材料 94 oCLM'\ 5.4 设计数据文件夹 95 aK(e%Ed t" 5.5 默认设计 95 >l=jJTJ;q 6 细化和合成 97 3g:P>( 6.1 优化介绍 97 ,$aqF<+; 6.2 细化 (Refinement) 98 xOr"3;^ 6.3 合成 (Synthesis) 100 xSO5?eR"u 6.4 目标和评价函数 101 ,-kz\N@. 6.4.1 目标输入 102 1FG"Ak}D 6.4.2 目标 103 cp"{W-Q{$ 6.4.3 特殊的评价函数 104 :^qUr`) 6.5 层锁定和连接 104 ?=1i:h 6.6 细化技术 104 >s!k"s, 6.6.1 单纯形 105 6;@:/kl t 6.6.1.1 单纯形参数 106 Bs|#7mA[ 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 9xK#(M 6.6.2.1 Optimac参数 108
1D2RhM% 6.6.3 模拟退火算法 109 R&:Qy7" 6.6.3.1 模拟退火参数 109 P(o>UDy 6.6.4 共轭梯度 111 C!nbl+75 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 D51s)? 6.6.5 拟牛顿法 112 -<AGCiLz 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 .
Y$xNLoP[ 6.6.6 针合成 113 $VP\Ac,! 6.6.6.1 针合成参数 114 U]B-B+- 6.6.7 差分进化 114 Ji1# >;& 6.6.8非局部细化 115 >6W #v[ 6.6.8.1非局部细化参数 115 {iCX?Sb 6.7 我应该使用哪种技术? 116 0W_u"UY$c 6.7.1 细化 116 =s*4y$%I 6.7.2 合成 117
hFan$W$ 6.8 参考文献 117 ~Y;Z5e= 7 导纳图及其他工具 118 fN21[Jv3 7.1 简介 118 _PQk<QZ 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 ] yWywa\ 7.2.1 四分之一波长规则 119 <u1`o`|- 7.2.2 导纳图 120 ;TK$?hrv*1 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 ) 3V1aC 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 b_u;
`^ 7.5 斜入射导纳图 141 32y 9r z 7.6 对称周期 141 8A/rkoht* 7.7 参考文献 142 .81 ~ K[ 8 典型的镀膜实例 143 hBifn\dFr 8.1 单层抗反射薄膜 145 s$lJJL 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 ``@e7~F{ 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 Q4Qf/q;U 8.4 W-膜层 148 ;!7M<T$& 8.5 V-膜层 149 ~BE=z: 8.6 V-膜层高折射基底 150 ,Ij/
^EC} 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 r gi4> 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 *+00 8.9 四层抗反射薄膜 153 f]C^{Uk# 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 M"msLz 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 !/!Fc'A 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 x^cJ~e2 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 K$s{e0
79 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 ytV[x 8.15十五层宽带抗反射膜 159 !t{ 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 !9.\A:G 8.17 1/4波长堆栈 162 {Q`Q2'@ 8.18 陷波滤波器 163 fEtBodA) 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 G,1g~h%I$ 8.20 褶皱 165 A!uiM*"W 8.21 消偏振分光器1 169 Df]*S 8.22 消偏振分光器2 171 cFq2 6(e 8.23 消偏振立体分光器 172 6(Ntt 8.24 消偏振截止滤光片 173 LWN9 D 8.25 立体偏振分束器1 174 Hq?dqg' %~ 8.26 立方偏振分束器2 177 d69dC*> 8.27 相位延迟器 178 o,?h}@ 8.28 红外截止器 179 ?+%bEZ` 8.29 21层长波带通滤波器 180 znIS2{p/` 8.30 49层长波带通滤波器 181 ^ ]+vtk 8.31 55层短波带通滤波器 182 :2XX~| 8.32 47 红外截止器 183 ta'wX 8.33 宽带通滤波器 184 6?JvvS5 8.34 诱导透射滤波器 186 S0LaQ<9. 8.35 诱导透射滤波器2 188 m& D#5C 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 sWKdqs 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 I SdB5Va 8.35 增益平坦滤波器 193 'e$8
IZm 8.38 啁啾反射镜 1 196 : &~LPmJ 8.39 啁啾反射镜2 198 qagR?)N)u 8.40 啁啾反射镜3 199 pTncx%!W5 8.41 带保护层的铝膜层 200 _kBx2>qQ 8.42 增加铝反射率膜 201 >LPIvmT4D? 8.43 参考文献 202 3BF3$_u)o 9 多层膜 204 R:f ,g2 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 e nw*[D ! 9.2 内部透过率 204 b d C 9.3 内部透射率数据 205 2i NZz 9.4 实例 206 SDk^fTV8x 9.5 实例2 210 kQn}lD 9.6 圆锥和带宽计算 212 Blj<|\igc 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 l?Ibq} [~ 10 光学薄膜的颜色 216 wLvM<p7OX 10.1 导言 216 kE[R9RS! 10.2 色彩 216 :YLurng/] 10.3 主波长和纯度 220 0JqvV 10.4 色相和纯度 221 g8"H{u 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 Yn0iu$;n 10.6 色差 226 }'n]C| gZ 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 2lqy <o 10.8 颜色渲染指数 234 o*oFCR]j 10.9 色差计算 235 0\!v{A>
I' 10.10 参考文献 236 @18}'k 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 2h)Qz+|7 11.1 短脉冲 238 _c}# f\ +_ 11.2 群速度 239 rD9:4W`^ 11.3 群速度色散 241 ,K|UUosS-# 11.4 啁啾(chirped) 245 >&^jKfY 11.5 光学薄膜—相变 245 ~mv5{C 11.6 群延迟和延迟色散 246 Nx
E=^
v 11.7 色度色散 246 "98j-L=F+ 11.8 色散补偿 249 . lNf.x#u 11.9 空间光线偏移 256 [X>f;;h 11.10 参考文献 258 H?V
b 12 公差与误差 260 Vjd>j; H 12.1 蒙特卡罗模型 260 >5D;uTy
u 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 i)$<j!L 12.2.1 误差工具 267 ?I\,RiZkz^ 12.2.2 灵敏度工具 271 $ ?|;w,%I 12.2.2.1 独立灵敏度 271 ,ne3uPRu7~ 12.2.2.2 灵敏度分布 275 vUDMl Z 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 )CgH|z:=b 12.3 参考文献 276
MT$)A:" 13 Runsheet 与Simulator 277 *.Z~f"SZy* 13.1 原理介绍 277 wz BI<0]z 13.2 截止滤光片设计 277 'E\4/0 ! 14 光学常数提取 289 ~=|QPO(d 14.1 介绍 289 t J&tNSjTi 14.2 电介质薄膜 289 `;j$] 14.3 n 和k 的提取工具 295 i?7?I 14.4 基底的参数提取 302 S,Tc\} 14.5 金属的参数提取 306 }<*KM)% 14.6 不正确的模型 306 cH+ ~|3 14.7 参考文献 311 *dPbV.HCl 15 反演工程 313 IFhS(3YK[ 15.1 随机性和系统性 313 aM(x--UR= 15.2 常见的系统性问题 314 Kx?8HA[5 15.3 单层膜 314 iq,rS" 15.4 多层膜 314 \1QY=} 15.5 含义 319 bR8`Y(=F9b 15.6 反演工程实例 319 y*p02\) 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 @[Q`k=h$ 15.6.2 反演工程提取折射率 327 0sTR`Xk 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 DgY
!)cS 16.1 光学性质的热致偏移 329 +(^HL3 16.2 应力工具 335 ?-)v{4{s 16.3 均匀性误差 339 I0!]J{ 16.3.1 圆锥工具 339 !SIk9~rJ 16.3.2 波前问题 341 sRqecG(n 16.4 参考文献 343 7!\zo mx 17 如何在Function(模块)中编写操作数 345 U.JE \/ 17.1 引言 345 s[t<2)i 17.2 操作数 345 FZLx.3k4 18 如何在Function中编写脚本 351 %$i}[U 18.1 简介 351 `*D"=5G+ 18.2 什么是脚本? 351 0=K8 nxdx 18.3 Function中脚本和操作数对比 351 dC|6z/ 18.4 基础 352 q'TIN{\.{ 18.4.1 Classes(类别) 352 =itQ@``r 18.4.2 对象 352 P+wpX 18.4.3 信息(Messages) 352 OmS8cSYGc 18.4.4 属性 352 WjCxTBI 18.4.5 方法 353 OHrzN'] 18.4.6 变量声明 353 P(/eVD#v 18.5 创建对象 354 KSHq0A6/q% 18.5.1 创建对象函数 355 %l6E0[ 18.5.2 使用ThisSession和其它对象 355 o{^`Y 18.5.3 丢弃对象 356 5$+ssR_?k 18.5.4 总结 356 xc\zRsY` 18.6 脚本中的表格 357 w~ON861 18.6.1 方法1 357 m^=El7+ 18.6.2 方法2 357 =O-irGms* 18.7 2D Plots in Scripts 358 i'4.w?O Z 18.8 3D Plots in Scripts 359 51y#AQ@ 18.9 注释 360
v+8Ybq 18.10 脚本管理器调用Scripts 360 C,GZ 18.11 一个更高级的脚本 362 fc9@l a 18.12 <esc>键 364 -esQyLx 18.13 包含文件 365 7D4tuXUq2 18.14 脚本被优化调用 366 MU(I#Prpe 18.15 脚本中的对话框 368 j<k6z 18.15.1 介绍 368 D W^Zuu/) 18.15.2 消息框-MsgBox 368 X6 N&:< 18.15.3 输入框函数 370
>]~|Nf/i 18.15.4 自定义对话框 371 -
l^3>!MAM 18.15.5 对话框编辑器 371 A.dbb'^ 18.15.6 控制对话框 377 j@D,2B; 18.15.7 更高级的对话框 380 _53~D= 18.16 Types语句 384 /jGV[_Q=P 18.17 打开文件 385 3?@6QcHl{ 18.18 Bags 387 eZN"t~\rX 18.13 进一步研究 388 7GWOJ^) 19 vStack 389 ~BX=n9 19.1 vStack基本原理 389 Z7RBJK7|. 19.2 一个简单的系统——直角棱镜 391 [~ 2imS 19.3 五棱镜 393 >]z^.U7= 19.4 光束距离 396 l {>j8Ln 19.5 误差 399 (QJe-)0_y 19.6 二向分色棱镜 399 ?s3S$Ih 19.7 偏振泄漏 404 a6^_iSk 19.8 波前误差—相位 405 XWyP'\ 19.9 其它计算参数 405 3RT\G0?8f 20 报表生成器 406 I
"~.p=' 20.1 入门 406 J}:.I> 20.2 指令(Instructions) 406
^B%=P 20.3 页面布局指令 406 XclTyUGoK+ 20.4 常见的参数图和三维图 407 UL{J%Ze=~ 20.5 表格中的常见参数 408 ne/JC( 20.6 迭代指令 408 5<R m{ 20.7 报表模版 408 rxH]'6kP 20.8 开始设计一个报表模版 409 dK4rrO 21 一个新的project 413 ~IS8DW$; 21.1 创建一个新Job 414 DQm%=ON7 21.2 默认设计 415 FutS 21.3 薄膜设计 416 =@?[.` 21.4 误差的灵敏度计算 420 R]iV;j| 21.5 显色指数计算 422 d%"XsbO 21.6 电场分布 424 +ovK~K$A 后记 426 %.<_+V#h 5$D "uAp<V Qop,~yK 书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 rUj\F9*5# }:
HG)V 《Essential Macleod中文手册》[attachment=120545] .t5.(0Xk[A Kbf(P95+uL 目 录 pB8D ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 Mzp<s<BX 第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 zqo0P~ 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 [ 49Cvde^ 第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 ExS5RV@v' 第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 !S#3mT- 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 hx$61E= 第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 |JxVfX8^ 第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 )hXTgUZa 第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 >8>!wi9U 第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 D=TS IJ@ 第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 5M0Q'"`F: 第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 %
/VCjuV 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 gwRB6m$ 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 m-vn5OX 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 H@=oVyn/ 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 K8;SE! <\~v$=G 价 格:400元
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