上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)
时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 EfUo<E 授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天 AM 9:00-PM 16:00 ~/Ry=8 授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 Y/hay[6 课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 0FW=8hFp, 课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 );*GOLka [attachment=120542] {:dE_tqo 易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 C1nQZtF R 获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 w5|"cD#8A 随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 )a6i8b3 本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 k |Lm;g 1. Essential Macleod软件介绍 VEn%_9(] 1.1 介绍软件 fU8;CZnx 1.2 创建一个简单的设计 Gm%[@7- 1.3 绘图和制表来表示性能 #z~oc^J^T 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 *%8us~w5/ 1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) ILpB:g 1.6 特定设计的公式技术 W"0 # 1.7 交互式绘图 2V0R|YUt 2. 光学薄膜理论基础 Rza\n8 2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 *V\kS 2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 f9rToH 3. 材料管理 ML]?`qv ' 3.1 材料模型 0O:TKgb&C. 3.2 介质薄膜光学常数的提取 OGVhb>LO1 3.3 金属薄膜光学常数的提取 W%wS+3Q/ 3.4 基板光学常数的提取 xtnB:3 4. 光学薄膜设计优化方法 /U`"|3 4.1 参考波长与g ?L
$KlF Y 4.2 四分之一规则 k~gQn:.Cx 4.3 导纳与导纳图 &sllM 4.4 斜入射光学导纳 RHBEC@d[} 4.5 光学薄膜设计的进展 *?8Q:@: 4.6 Macleod软件的设计与优化功能 V?gQ`( , 4.6.1 优化目标设置 #A/jGv^ 4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) X}Csl~W8in 4.6.3 膜层锁定和链接 O{4m-; 5. Essential Macleod中各个模块的应用 m1<B6*iG" 5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 J>'o,"D 5.2 光通信用窄带滤光片模拟 `?$R_uFh: 5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 " c]Mz&z 5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 vZKo&jUk 5.5 如何在Function中编写脚本 (PNvv/A 6. 光学薄膜系统案例 FxUH?%w 6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 7~65 @&P> 6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 <)}*S 6.3 Stack应用范例说明 OO$<Wgh 7. 薄膜性能分析 ;aF / <r 7.1 电场分布 9-@w(kMu 7.2 公差与灵敏度分析 @fY!@xSf 7.3 反演工程 QVP
$e`4 7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 I?PKc'b 8. 真空技术 x88$#N>Q5 8.1 常用真空泵介绍 0Icyi#N 8.2 真空密封和检漏 + ]__zm/^ 9. 薄膜制备技术 YF"D;. 9.1 常见薄膜制备技术 }C'z$i( y 10. 薄膜制备工艺 z[';HJ0O; 10.1 薄膜制备工艺因素 NBeGmC|
10.2 薄膜均匀性修正技术 wb{y]~&6K 10.3 光学薄膜监控技术 *=I#VN*_<. 11. 激光薄膜 cVz.ac 11.1 薄膜的损伤问题 ?;*mSQA`J 11.2 激光薄膜的制备流程 55;xAsG 11.3 激光薄膜的制备技术 $v^F>*I1 12. 光学薄膜特性测量 ~E!"YkIr 12.1 薄膜光谱测量 p7k0pSt 12.2 薄膜光学常数测量 E`X+fJx 12.3 薄膜应力测量 :?S2s Ne2 12.4 薄膜损伤测量 !~Z L 12.5 薄膜形貌、结构与组分分析[attachment=120543] E u@TCw8@
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541] 书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) [attachment=120544] Q~]R#S
内容简介 \nJrjHA Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 3!d|K%J 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 a@ lK+t 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ,wq.C6;& ('gjfl
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 X{ Nif G e8[*=& 目录 h?TE$&CL? Preface 1 U,]z)1#X| 内容简介 2 sFGXW 目录 i q/Gy&8
K 1 引言 1 -aO3/Ik[q 2 光学薄膜基础 2 G,XFS8{% 2.1 一般规则 2 8kqxr&,[ 2.2 正交入射规则 3 k}BNFv8 2.3 斜入射规则 6 2x{3' ^+l 2.4 精确计算 7 >N*QK6"=| 2.5 相干性 8 IUZsLNW 2.6 参考文献 10 X-ml0
=M[ 3 Essential Macleod的快速预览 10 wRuJein# 4 Essential Macleod的特点 32 KN%Xp/lkX 4.1 容量和局限性 33 rbJ-vEzo.# 4.2 程序在哪里? 33 ?W#! S 4.3 数据文件 35 b'ew
Od= 4.4 设计规则 35 OaZ~ 4.5 材料数据库和资料库 37 MVTU$
65 4.5.1材料损失 38 *mBEF" 4.5.1材料数据库和导入材料 39 SKYS6b 4.5.2 材料库 41 B0YY7od 4.5.3导出材料数据 43 ]];7ozS)X 4.6 常用单位 43 U%KoG-# 4.7 插值和外推法 46 oACE:h9U 4.8 材料数据的平滑 50 ?G3OAx?< 4.9 更多光学常数模型 54 )ei+ewVZ 4.10 文档的一般编辑规则 55 pY:xxnE 4.11 撤销和重做 56 EJ86k>] 4.12 设计文档 57 3w0m:~KS6V 4.10.1 公式 58 E2\)>YF{P 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 #!5GGe{I 4.10.3 沉积密度 59 .AV--oA~ 4.10.4 平行和楔形介质 60 3FS:]|oC 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 =g&0CFF < 4.10.4 性能 61 Ya>cGaLq 4.10.5 保存设计和性能 64 HDC`g 4.10.6 默认设计 64 aEgzQono 4.11 图表 64 a
@TAUJ, 4.11.1 合并曲线图 67 FS20OD 4.11.2 自适应绘制 68 ?49wq4L;a 4.11.3 动态绘图 68 @c&)K^v8 4.11.4 3D绘图 69 paF2{C)4 4.12 导入和导出 73 7gJ`G@y 4.12.1 剪贴板 73 CE?R/uNo{ 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 >Cf]uiR 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 PPmZ[N9(; 4.13 背景 77
r_o2d 8 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 7&+Gv6E 4.15 生成Rugate 84 .Wb), 4.16 参考文献 91 AU
>d1S. 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 "cti(0F-d 5.1 Jobs 92 3nG(z> 5.2 创建一个新Job(工作) 93 O[8Lp? 5.3 输入材料 94 ~JBQjb] 5.4 设计数据文件夹 95 gzuM>lf*{ 5.5 默认设计 95 \;g{qM 8 6 细化和合成 97 HM<V$
R 6.1 优化介绍 97 $YW z~^f 6.2 细化 (Refinement) 98 *ZY{^f 6.3 合成 (Synthesis) 100 6vmkDL8{A8 6.4 目标和评价函数 101 m(&ZNZK 6.4.1 目标输入 102 O[-wm;_(=* 6.4.2 目标 103 {9)LHX7dN 6.4.3 特殊的评价函数 104 &\5T`|~)! 6.5 层锁定和连接 104 b@,w/Uw[* 6.6 细化技术 104 z[7U>q[E 6.6.1 单纯形 105 fE M8/bhq 6.6.1.1 单纯形参数 106 tFb49zbk 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 *WOA",gZ 6.6.2.1 Optimac参数 108 6g<JPc 6.6.3 模拟退火算法 109 ;}:"[B3$ 6.6.3.1 模拟退火参数 109 y/Nvts2!C 6.6.4 共轭梯度 111 ?Bk"3{hl 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 ogPxj KSI 6.6.5 拟牛顿法 112 C
YnBZ 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 dp+wwNe 6.6.6 针合成 113 <6Br]a60RR 6.6.6.1 针合成参数 114 BPC$ v\a 6.6.7 差分进化 114 JP[BSmhAV 6.6.8非局部细化 115 qA*QFQ'- 6.6.8.1非局部细化参数 115 ,Kdvt@vle 6.7 我应该使用哪种技术? 116 \ar.(J 6.7.1 细化 116 & {B,m%G 6.7.2 合成 117 ]1gt|M^ 6.8 参考文献 117
#p\sw 7 导纳图及其他工具 118 Inr ~9hz 7.1 简介 118 "WK.sBFz4 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 jb77uH_ 7.2.1 四分之一波长规则 119 ;g?5V 7.2.2 导纳图 120 \z<'6,b 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 d<!bE( 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 O^
f[ugs 7.5 斜入射导纳图 141 2)mKcUL- 7.6 对称周期 141 $yOfqr 7.7 参考文献 142 gpO@xk$ 8 典型的镀膜实例 143 KJSN)yn\ 8.1 单层抗反射薄膜 145 (swP#t5S 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 #{<Jm?sU 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 vsLn@k3 8.4 W-膜层 148 oA73\BFfP 8.5 V-膜层 149 8qt|2% 8.6 V-膜层高折射基底 150 S[* e K
Z 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 <y~`J`- 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 T w/CJg
8.9 四层抗反射薄膜 153 !sfUrUu 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 tpA7"JD 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 )|\72Z~eq 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 3/4xP| 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 d(R3![: 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 =q>eoXp 8.15十五层宽带抗反射膜 159 >WG$!o +R 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 } fSbH 8.17 1/4波长堆栈 162 !)
LMn 8.18 陷波滤波器 163 `N2zeFG 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 .rax`@\8 8.20 褶皱 165 0I079fqk< 8.21 消偏振分光器1 169 sL[,J[AN; 8.22 消偏振分光器2 171 1<pbO:r 8.23 消偏振立体分光器 172 -s4qm)\ 8.24 消偏振截止滤光片 173 7?B]X% 8.25 立体偏振分束器1 174 H@'Y>^z? 8.26 立方偏振分束器2 177 { 5h6nYu 8.27 相位延迟器 178 N'|zPFkg 8.28 红外截止器 179 BL,YJM(y 8.29 21层长波带通滤波器 180 L,Uqt, 8.30 49层长波带通滤波器 181 9/q4]%` 8.31 55层短波带通滤波器 182 kXv
-B-wOj 8.32 47 红外截止器 183 Jg|/*Or 8.33 宽带通滤波器 184 q'{E $V)E 8.34 诱导透射滤波器 186 0=7C-A1(D 8.35 诱导透射滤波器2 188 eH79,!=2 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 &!Y^DR/ 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 e)>Z&e,3 8.35 增益平坦滤波器 193 bV`Zo(z 8.38 啁啾反射镜 1 196 >:h
8T]F 8.39 啁啾反射镜2 198 k45xtKS>d 8.40 啁啾反射镜3 199 O*!+D- 8.41 带保护层的铝膜层 200 e2 Ba@e- 8.42 增加铝反射率膜 201 A+NLo[swwu 8.43 参考文献 202 u6cWLVt 9 多层膜 204 /?HRq ?n 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 Up)b;wR 9.2 内部透过率 204 3v5]L3 9.3 内部透射率数据 205 prhFA3
rW. 9.4 实例 206 A]ciox$AjW 9.5 实例2 210 ]D%D:>9|/ 9.6 圆锥和带宽计算 212 ;. /Tv84I^ 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 bWG}>{fj 10 光学薄膜的颜色 216 0t6s20*q 10.1 导言 216 N2xgyKy~ 10.2 色彩 216 `{8Sr) 10.3 主波长和纯度 220 i#&]{]}Qv 10.4 色相和纯度 221 ^cBA8 1 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 h"M}Iz~|V? 10.6 色差 226 n"d~UV^Uw 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 [m!$01= 10.8 颜色渲染指数 234 a'XCT@B 10.9 色差计算 235 Y |n_Ro^~ 10.10 参考文献 236 5H;* Nj@ 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 .KTDQA\ 11.1 短脉冲 238 nEyPNm) 11.2 群速度 239 l,-smK69
11.3 群速度色散 241 J(g!>Sp!p 11.4 啁啾(chirped) 245 +#,t 11.5 光学薄膜—相变 245 ,k+jx53XV 11.6 群延迟和延迟色散 246 =}u;>[3 11.7 色度色散 246 }a-ikFQ] 11.8 色散补偿 249 $A8eMJEpL 11.9 空间光线偏移 256 :KMo'pL 11.10 参考文献 258 H[fD
> 12 公差与误差 260 ,1RW}1n 12.1 蒙特卡罗模型 260 `:?padZG 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 j?3J-}XC 12.2.1 误差工具 267 Cf2rRH 12.2.2 灵敏度工具 271 Nbuaw[[iz 12.2.2.1 独立灵敏度 271 5/>G)& 12.2.2.2 灵敏度分布 275 $1#|<| 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 +!'6:F 12.3 参考文献 276 ;(TBg-LEK 13 Runsheet 与Simulator 277 &h8+- 13.1 原理介绍 277 Xl@nv9m 13.2 截止滤光片设计 277 kSoAnJ| 14 光学常数提取 289 _OHz 6ag 14.1 介绍 289 Pg|q{fc 14.2 电介质薄膜 289 x.>z2. 14.3 n 和k 的提取工具 295 X}h{xl 14.4 基底的参数提取 302 MoO
jM&9 14.5 金属的参数提取 306 at
]Lz_\ 14.6 不正确的模型 306 nNq| v=L 14.7 参考文献 311 E!C~*l]wJx 15 反演工程 313 g6;O)b 15.1 随机性和系统性 313 =+A8s$Pb 15.2 常见的系统性问题 314 d\'M ~VQ 15.3 单层膜 314 0JKbp*H 15.4 多层膜 314 f+-w~cN 15.5 含义 319 S!up2OseW 15.6 反演工程实例 319 gXc&uR0S 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 wa@X^]D8 15.6.2 反演工程提取折射率 327 oC>^V5 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 akrEZ7A 16.1 光学性质的热致偏移 329 e8--qV#< 16.2 应力工具 335 ?v8B;="#w 16.3 均匀性误差 339 J$]d%p_I 16.3.1 圆锥工具 339
=y[eQS$ 16.3.2 波前问题 341 f*bs{H'5 16.4 参考文献 343 b6R0za 17 如何在Function(模块)中编写操作数 345 +.b~2K1 17.1 引言 345 SI8mr`gJ 17.2 操作数 345 ]C}z3hhk 18 如何在Function中编写脚本 351 [ wr0TbtV 18.1 简介 351 gy_n=jhi+ 18.2 什么是脚本? 351 xH; 4lw 18.3 Function中脚本和操作数对比 351 _lu.@IX- 18.4 基础 352 Q0Dw2>~_K 18.4.1 Classes(类别) 352 (B7M*e 18.4.2 对象 352 +8mfq\Y1 18.4.3 信息(Messages) 352 &yp_wW- 18.4.4 属性 352 w3fi2B&q 18.4.5 方法 353 i*nNu-g 18.4.6 变量声明 353 'FO^VJ;ha 18.5 创建对象 354 \
Lrg: 18.5.1 创建对象函数 355 y3))I\QT 18.5.2 使用ThisSession和其它对象 355 "&77`R 18.5.3 丢弃对象 356 7f~.Qus 18.5.4 总结 356 H [R|U 18.6 脚本中的表格 357 cuW$%$F 18.6.1 方法1 357 lHT? 18.6.2 方法2 357 :
-te 18.7 2D Plots in Scripts 358 ;_1D-Mf 18.8 3D Plots in Scripts 359 ,^`+mP 18.9 注释 360 .
p<*n6E 18.10 脚本管理器调用Scripts 360 Q<w rO 18.11 一个更高级的脚本 362 @]gP"Pp 18.12 <esc>键 364 %h2U(=/: 18.13 包含文件 365 pN1W|Wv2 18.14 脚本被优化调用 366 {LrezE4 18.15 脚本中的对话框 368 lJ:B9n3OzT 18.15.1 介绍 368
s@K|zOx 18.15.2 消息框-MsgBox 368 C[|jJ9VE, 18.15.3 输入框函数 370 ) zz"DH 18.15.4 自定义对话框 371 Kw"7M~ 18.15.5 对话框编辑器 371 `>g:
: 18.15.6 控制对话框 377 <vhlT#p
18.15.7 更高级的对话框 380 6- s/\ 18.16 Types语句 384 xCiY
jl$ 18.17 打开文件 385 SHIK=&\~- 18.18 Bags 387 6rq:jvlx$ 18.13 进一步研究 388 H+;>>|+:~ 19 vStack 389 yAW%y 19.1 vStack基本原理 389 G\=7d%T+ 19.2 一个简单的系统——直角棱镜 391 PZ
AyHXY 19.3 五棱镜 393 |z-A;uL < 19.4 光束距离 396 bmGIxBRq 19.5 误差 399 ZdY:I;)s 19.6 二向分色棱镜 399 }BzV<8F 19.7 偏振泄漏 404 >
CZ|Vx 19.8 波前误差—相位 405 ,_F1g<^@u 19.9 其它计算参数 405 K.JKE"j)d 20 报表生成器 406 wHEt;rc( 20.1 入门 406 Vyf r>pgW1 20.2 指令(Instructions) 406 )8!""n~ 20.3 页面布局指令 406 K\,)9:`t 20.4 常见的参数图和三维图 407 ]wc'h>w 20.5 表格中的常见参数 408 1\$xq9 20.6 迭代指令 408 =j#uH`jgW 20.7 报表模版 408 d3St Z~&r! 20.8 开始设计一个报表模版 409 -V%"i,t 21 一个新的project 413 kL*
DU` 21.1 创建一个新Job 414 ?<%GYdus 21.2 默认设计 415 6`J*{%mP 21.3 薄膜设计 416 >h(n8wTP 21.4 误差的灵敏度计算 420 XBh0=E?qiS 21.5 显色指数计算 422 .Wc<(pfa 21.6 电场分布 424 :54ik,l 后记 426 [sy~i{Bm bzF>Efza B8:G1r5G/ 书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 NhU~'k J NPEyC 《Essential Macleod中文手册》[attachment=120545] F w)#[ _)"-zbh}{ 目 录 yT.h[yv"w ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 @!"w.@Y 第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 I}q2)@ 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 Hbn%CdDk1 第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 KLBU8% 第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 lA<n}N)j 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 NjrF":'Y 第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 |-a5|3 第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 HIsIW%B 第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 jhgS@g=@ZC 第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 >E;kM
B 第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 'y[74?1 第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 #>iBu:\J 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 @.0>gmY;: 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 _~/F- 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 zo6|1xq 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 r'/&{?Je/ Kkcb'aDR 价 格:400元
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