招生 | 第31届《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训班
武汉墨光长久以来成功召开多期《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线上线下培训。武汉墨光将于2023年11月13日-17日开展第31届《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训班。本次培训共计5天时间，课程涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。 ``mW\=fe
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以下是本次培训具体详情： KBo/GBD]|
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培训大纲 (""1[XURQK
✦ 第一天 3YF*TxKx
光学和光线追迹的入门概念 }$|uIS
ASAP 简介 k yc Z
ASAP 新版本功能 - ?W hJ.U
程序检查和3D 查看器 D0=H&Z[
ASAP 数据输入 L7tC?F]}SK
单透镜辐射计示例 s9Aq-N
ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据 +kKfx!
照明系统示例 (s`y MUC+
基本脚本操作 +LM /< l
几何规范和通用几何设置 4#m"t?6!
光学特性 jz2W /EE`w
光源设置 wDV%.Cc
光线追迹概念 S:GX!6>
系统分析与评价 +;J b)8
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✦ 第二天 )Aky :kM$
脚本和 ASAP 编辑器 xA9 {o+
几何可视化与验证 4W9#z~'
显示模式 I2=?H <
辐射强度分布 =MqefV;-
光源切趾 Py[Z9KLX
光线分裂和接收属性 ^\uj&K6l
ASAP 宏语言 Y|=/*?o}
ASAP 优化功能 5/v@VUzH
散射模型和重点采样 MNKB4C8 >
光线路径 h @"dpmpe
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✦ 第三天 "1H ?1"w~
杂散光术语 Z`5v6"Na
辐射度学基础 gekW&tRie
杂散光成因 qmcLG*^,
杂散光影响、杂散光控制
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杂散光分析、评价方法、分析软件对比 ttPa[h{!
ASAP 杂散光分析流程、步骤 >g@;`l.Z#
练习 1- 找关键和被照表面 z Uqt^_
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✦ 第四天 hmOhXE[ a&
散光特性、散射模型 H/p<lp
练习 2 - 散射模型拟合 9Kw4K#IqQ
光学表面污染 _W4i?Bde
散射特性测量仪对比、重点区域采样 Oc;0*v[I
练习 3 - 重点区域位置和大小计算 fMn7E8.
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✦ 第五天 9qe6hF/29
衍射杂散光、PST 分析 ee]PFW28
练习 4 - PST 分析 (yduU
鬼像分析、光学设计中的杂散光控制 >WMH.5p
练习 5 - 鬼像分析 kn_%'7
遮光罩和挡光环设计、自身热辐射分析 Y B@\"|}
杂散光计算器、扩展面源杂散光分析 "PBUyh-Z
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培训说明 }*m:zD@8$
•为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速; Z<Rz}8s
•学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者方颁发培训证书; Dcq\1V.e`W
•培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材。 ur-&- G^
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培训详情 SeBbI&Ju
✦ 主办单位：武汉墨光科技有限公司 Ud0%O
✦ 培训时间：2023年11月13日-17日 共五天(09：00-17：00) .}6 YKKqS
✦ 培训费用：按7200元/人的标准进行收费。 }> k 9]Y
1.提供服务性发票，项目“培训费”;
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2.团体(三人及以上)报名可以享受八折优惠，不与墨光其他优惠同时使用; dZm>LVjG
3.食宿自理。 h[%`'(
✦ 报名方式：报名咨询请扫描下方“二维码”即可。 3ryIXC\v
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武汉墨光官网 MI|DOp
(注：当报名人数低于最低开课标准，或遇其他不可抗力因素时，武汉墨光科技有限公司将酌情延期或取消课程。)
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