招生 | 第31届《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训班
武汉墨光长久以来成功召开多期《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线上线下培训。武汉墨光将于2023年11月13日-17日开展第31届《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训班。本次培训共计5天时间，课程涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。 [(1c<b2r
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以下是本次培训具体详情： /|6;Z}2
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培训大纲 5w aKI?4F
✦ 第一天 zg-2C>(6a
光学和光线追迹的入门概念 C4TE-OM8
ASAP 简介 2^i(gaXUQ
ASAP 新版本功能 orOt>5}b<
程序检查和3D 查看器 y~()| L [
ASAP 数据输入 q.,JVGMS
单透镜辐射计示例 @E:,lA
ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据 g8P TGz
照明系统示例 AU2i%Q!
基本脚本操作 J9~ g|5
几何规范和通用几何设置 qucq,Yw
光学特性 jH_JmYd
光源设置 \hCH>*x<
光线追迹概念 [jm d
系统分析与评价 q$=#A7H>3)
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✦ 第二天 -[-wkC8a
脚本和 ASAP 编辑器 eq U ME
几何可视化与验证 uu`G 2[t
显示模式 =UV`.d2[
辐射强度分布 l+V>]?j
光源切趾 7hsGu a
光线分裂和接收属性 :0h_K
ASAP 宏语言 *QH28%^
ASAP 优化功能 TqnT S0fx
散射模型和重点采样 kh`"WN Nt
光线路径 rS;Dmm
K.0:C`C
✦ 第三天 c"[cNZo
杂散光术语 1')%`~
辐射度学基础 &Y }N|q-
杂散光成因 ?!+MM&c-n
杂散光影响、杂散光控制 BqT y~{)+
杂散光分析、评价方法、分析软件对比 ;3@cy |\:
ASAP 杂散光分析流程、步骤 I1X-s
练习 1- 找关键和被照表面 >rf'-X4n
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✦ 第四天 `^)jLuyu
散光特性、散射模型 4T ~ }
练习 2 - 散射模型拟合 2 O%`G+\)
光学表面污染 >G%o,9i
散射特性测量仪对比、重点区域采样 .nVa[B |.
练习 3 - 重点区域位置和大小计算 ynQ: > tw
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✦ 第五天 U[ 0=L`0e
衍射杂散光、PST 分析 z*!%g[3I
练习 4 - PST 分析 S Em Q@1
鬼像分析、光学设计中的杂散光控制 ojan Bg
练习 5 - 鬼像分析 jWrj?DV,2N
遮光罩和挡光环设计、自身热辐射分析 hbY5l}\5
杂散光计算器、扩展面源杂散光分析 B\o Mn
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培训说明 } F#okU
•为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速; j3{D^|0bP
•学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者方颁发培训证书; 0"pAN[=K@
•培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材。 fR(d
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培训详情 TOB]IrW
✦ 主办单位：武汉墨光科技有限公司 T[g[&K1Y
✦ 培训时间：2023年11月13日-17日 共五天(09：00-17：00) =ACVE;L?
✦ 培训费用：按7200元/人的标准进行收费。 v]B 3m
1.提供服务性发票，项目“培训费”; A\ HxDIU
2.团体(三人及以上)报名可以享受八折优惠，不与墨光其他优惠同时使用; F9,DrB,B{
3.食宿自理。 &B6E p6QS
✦ 报名方式：报名咨询请扫描下方“二维码”即可。 (KDD e}f
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(注：当报名人数低于最低开课标准，或遇其他不可抗力因素时，武汉墨光科技有限公司将酌情延期或取消课程。)
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