infotek |
2023-03-20 09:58 |
Macleod镀膜工具书
《Essential Macleod中文手册》 gwm!Pw j `zwXfY,% 目 录 Y;-$w|&P> =+DfIO ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 oIrO%v:'! 第1章 介绍 ..........................................................1 n
9PYZxy 第2章 软件安装 ..................................................... 3 @>cz$##` 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 ";yey ] 第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 kUGOkSP8[ 第5章 软件结构 ............................................................... 21 :m]H?vq] \ 第6章 应用窗口 ................................................................. 44 #oW"3L{, 第7章 设计窗口 .................................................................. 62 J2adG+= 第8章 图形窗口 .................................................................. 100 X|y(B%: 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 FUzN}"\1 第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 '
Dcj\=8 第11章 表格窗口 ................................................................. 116 }IEwGoDwNs 第12章 优化和综合 ..................................................................120 4Oo{\&( 第13章 材料管理 ........................................................................ 149 !mHMFwvS 第14章 多层膜 ........................................................................... 167 4a}[&zm(5 第15章 分析和设计工具 ........................................................180 $>Qq 7 第16章 逆向工程 ................................................................ 200 |W_;L6) 第17章 报告生成器 ............................................................. 208 2,aH1Xbex 第18章 堆栈 ......................................................................... 213 'HKDGQl` 第19章 功能扩展 .................................................................. 229 @GUlw[vi 第20章 运行表单 .................................................................... 251 ;`Nh@*_ 第21章 模拟器 ...................................................................... 271 ckGmwYP9 第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 2Pow-o*r 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 ~(nc<M[ 第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 VKV
:U60 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 VWq]w5oQO 第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 V56WgOBxz 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 UodBK7y 第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 {Y-~7@ 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 TZ&X0x8 t:MSV? bTU[E w=pr?jt1: is
}>+&_ ijsoY\V50 内容简介 $Nd,6w*` Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 B*Q 9g r 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 Nv=78O1 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 m _cRK}> 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 ,qx^D )fHr]#v 目录 4
km^S9 Preface 1 vJL Gy] 内容简介 2 }}"pQ!Z 目录 i 84vd~Cf9 1 引言 1 e2f+Fv
9 2 光学薄膜基础 2 ],_+J* 2.1 一般规则 2 0j_kK 2.2 正交入射规则 3 Xu8I8nAwl 2.3 斜入射规则 6 Cb1w8l0 2.4 精确计算 7 OvAhp&k 2.5 相干性 8 w
lH\w? 2.6 参考文献 10 (`S^6-^ 3 Essential Macleod的快速预览 10 om`T/@_, 4 Essential Macleod的特点 32 ')U~a 4.1 容量和局限性 33 XEQTT D< 4.2 程序在哪里? 33 Jy5sZ}t[ 4.3 数据文件 35 baBBn%_V 4.4 设计规则 35 d2V X\ 4.5 材料数据库和资料库 37 sxsb)a 4.5.1材料损失 38 #~!"`B?#* 4.5.1材料数据库和导入材料 39 3V<@Vkf5 4.5.2 材料库 41 ];Z6=9n 4.5.3导出材料数据 43 ; h\T7pwwb 4.6 常用单位 43 =hkYQq`Q 4.7 插值和外推法 46 oQ 2$z8 4.8 材料数据的平滑 50 "|h%Uy?XY 4.9 更多光学常数模型 54 MfP)Pk5 4.10 文档的一般编辑规则 55 ZUHRATT- 4.11 撤销和重做 56 [ n7>g 4.12 设计文档 57 T1]?E]m{ 4.10.1 公式 58 6Q^~O*cw 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 Lm
TFvZ 4.10.3 沉积密度 59 t
N{S;)q#X 4.10.4 平行和楔形介质 60 ;$QC_l''b 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 f<NR6],} 4.10.4 性能 61 B1V{3 4.10.5 保存设计和性能 64 1Y|a:){G 4.10.6 默认设计 64 yd).}@ 4.11 图表 64 |'q%9# 4.11.1 合并曲线图 67 fbNzRXw 4.11.2 自适应绘制 68 eXW|{asx 4.11.3 动态绘图 68 v1TFzcHl< 4.11.4 3D绘图 69 TIWR[r1! 4.12 导入和导出 73 rW:krx9 4.12.1 剪贴板 73 Qc; kj 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 b6bs . 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 flsejj$ 4.13 背景 77 "f,{d}u 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 9af.t 4.15 生成Rugate 84 qI+2,6
sGI 4.16 参考文献 91 p+;& Gg54 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 {~3QBMx6 5.1 Jobs 92 w G %W{T$ 5.2 创建一个新Job(工作) 93 xG9Sk 5.3 输入材料 94 i"WYcF| 5.4 设计数据文件夹 95 vrkY7L3\ 5.5 默认设计 95 FEaT}/h; 6 细化和合成 97 w&q[%(G_ 6.1 优化介绍 97 4J2^zx,H 6.2 细化 (Refinement) 98 \84t\jKR 6.3 合成 (Synthesis) 100 Ao\xse{E 6.4 目标和评价函数 101 c.ow4~> 6.4.1 目标输入 102 or/gx 3 6.4.2 目标 103 G0E5Y;YIN$ 6.4.3 特殊的评价函数 104 vADiW~^Q^ 6.5 层锁定和连接 104 S6TNu+2w4 6.6 细化技术 104 2
T!Tiu 6.6.1 单纯形 105 gc9R;B1 6.6.1.1 单纯形参数 106 LQ jbEYp 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 M|WBJ'#x0 6.6.2.1 Optimac参数 108 |A8@r& 6.6.3 模拟退火算法 109 D 2X_Yv 6.6.3.1 模拟退火参数 109 Zw.8B0W 6.6.4 共轭梯度 111 hH %> 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 m`/Nl< 6.6.5 拟牛顿法 112 S<tw5!tJ 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 /wV|;D^ ) 6.6.6 针合成 113 CU'JvVe3 6.6.6.1 针合成参数 114 -V2\s 6.6.7 差分进化 114 Nep4J; 6.6.8非局部细化 115 6b2UPI7m~ 6.6.8.1非局部细化参数 115 k }=<51c 6.7 我应该使用哪种技术? 116 f"ZlJV a 6.7.1 细化 116 Xz$4cI#n: 6.7.2 合成 117 apvcWF% 6.8 参考文献 117 <ql,@*Y 7 导纳图及其他工具 118 +yGQt3U 7.1 简介 118 rE3dHJN; 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 *g/klK 7.2.1 四分之一波长规则 119 (|gQ
i{8 7.2.2 导纳图 120 D(!^$9e9b 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 ~b f\fPm 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 JMb_00r 7.5 斜入射导纳图 141 BOs/:ZbK0W 7.6 对称周期 141 Lc3&\q
e 7.7 参考文献 142 SmRlZ!%e 8 典型的镀膜实例 143 _yg_?GH 8.1 单层抗反射薄膜 145 uDf<D.+5Ze 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 ,X4e?$7g 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 "6B7EH 8.4 W-膜层 148 p3Sh%=HE' 8.5 V-膜层 149 :E:e ^$p 8.6 V-膜层高折射基底 150 I6>J.6luF9 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 $#Pxf 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 x9_mlZ 8.9 四层抗反射薄膜 153 o[|[xuTm 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 PRKZg]? 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 nM,:f)z 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 swKkY`g 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 *rxr:y#Ve 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 gFDnt 8.15十五层宽带抗反射膜 159 \Wbmmd}8 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 L P<A q 8.17 1/4波长堆栈 162 <`H0i*|Ued 8.18 陷波滤波器 163 oMh$:jR $ 8.19 厚度调制陷波滤波器 164
~+q1g[6 8.20 褶皱 165 YOCEEh? 8.21 消偏振分光器1 169 K1&
QAXyP 8.22 消偏振分光器2 171 A1WUK=P 8.23 消偏振立体分光器 172 %uW=kr 8.24 消偏振截止滤光片 173 Lb*KEF% s 8.25 立体偏振分束器1 174 Cux(v8=n 8.26 立方偏振分束器2 177 P3M$&::D- 8.27 相位延迟器 178 B9v>="F 8.28 红外截止器 179 }X(&QZ7i` 8.29 21层长波带通滤波器 180 91-bz^=xO 8.30 49层长波带通滤波器 181 /d`"WK, 8.31 55层短波带通滤波器 182 ?J}Q&p. 8.32 47 红外截止器 183 7)66e 8.33 宽带通滤波器 184 _fAgp_) 8.34 诱导透射滤波器 186 +-9vrEB 8.35 诱导透射滤波器2 188 D=tZ}_'{t 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 lC i{v. 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 =ily=j"hK 8.35 增益平坦滤波器 193 P4zo[R%4 8.38 啁啾反射镜 1 196 oA1_W).wJ 8.39 啁啾反射镜2 198 D3pz69W 8.40 啁啾反射镜3 199 G\.~/<Mg+ 8.41 带保护层的铝膜层 200 SZyk G[ 8.42 增加铝反射率膜 201 H4/wO 8.43 参考文献 202 ^X#y'odtbS 9 多层膜 204 3jmo[<p*x 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 7Ai?}%b- 9.2 内部透过率 204 e#Tv5O 9.3 内部透射率数据 205 >{#JIG. 9.4 实例 206 Q
eeV< 9.5 实例2 210 RLF&-[mr3 9.6 圆锥和带宽计算 212 N&9o 1_} 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 tbrU>KCBD 10 光学薄膜的颜色 216 )SV.| 10.1 导言 216 }gp@0ri%5 10.2 色彩 216 c`6c)11K 10.3 主波长和纯度 220 [Nyt0l "z 10.4 色相和纯度 221 8K%N7RL| 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 /l$x} 10.6 色差 226 =BJLj0=N 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 iFI74COam 10.8 颜色渲染指数 234 w.qtSW6M+ 10.9 色差计算 235 Y&|Z*s+
+} 10.10 参考文献 236 i'tMpS3 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 k"wQ9=HP7 11.1 短脉冲 238 [W[{
4 Xu 11.2 群速度 239 <-lM9}vd 11.3 群速度色散 241 )^(*B6;z5 11.4 啁啾(chirped) 245 WBe0^=x 11.5 光学薄膜—相变 245 iP:i6U] 11.6 群延迟和延迟色散 246 | /.J{=E0K 11.7 色度色散 246 t)SZ2G1r 11.8 色散补偿 249 5_yQI D%Sq 11.9 空间光线偏移 256 cNll??j 11.10 参考文献 258 | dQ>)_ 12 公差与误差 260 ep>!jMhJa 12.1 蒙特卡罗模型 260 >.:+|Br` 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 9QZaa(vN 12.2.1 误差工具 267 rPxRGoR 12.2.2 灵敏度工具 271 jNZ.Fb 12.2.2.1 独立灵敏度 271 awLvLkQb{ 12.2.2.2 灵敏度分布 275 WtSs:D 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 ?%kgfw@) 12.3 参考文献 276 b?wrOS 13 Runsheet 与Simulator 277 lg%fjBY 13.1 原理介绍 277 @T1G#[C~t 13.2 截止滤光片设计 277 kG^76dAQL 14 光学常数提取 289 I8#2+$Be+@ 14.1 介绍 289 GwWK'F'2 14.2 电介质薄膜 289 CEfqFn3^ 14.3 n 和k 的提取工具 295 UmKE]1Yw4r 14.4 基底的参数提取 302 Iix,}kzss 14.5 金属的参数提取 306 S
?Zh#`(* 14.6 不正确的模型 306 <JPN<
Kv 14.7 参考文献 311 X$};K\I 15 反演工程 313 5"%.8P 15.1 随机性和系统性 313 d3%qYL_+a 15.2 常见的系统性问题 314 7UTfafOGX 15.3 单层膜 314 Ku5||u.F4* 15.4 多层膜 314 A|biOz 15.5 含义 319 f \&X$g 15.6 反演工程实例 319 v>X!/if<y 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 D]]e6gF$e 15.6.2 反演工程提取折射率 327 HZrA}|:h 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 F`=p/IAJK 16.1 光学性质的热致偏移 329 uYW4$6S3 16.2 应力工具 335
Omd; 16.3 均匀性误差 339 Jb,54uN 16.3.1 圆锥工具 339 W]4Z4& | |