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infotek 2023-02-20 08:25

使用特殊介质的光栅结构的配置

光栅结构广泛用于多个应用,如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法(FMM),VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中,通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的,可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中,解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 ?q7Gs)B=^'  
S+ x [1#r  
5PySCGv  
g-`NsqzD  
该用例展示了… L>*|T[~  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构,如: 3*L,48wX  
倾斜光栅介质 lTNkmQ  
体光栅介质 +%^xz 1m  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 V!4E(sX  
#6nA^K}  
}\*|b@)]  
*9 xD]ZZF  
光栅工具箱初始化 fe,CY5B{  
IrK )N  
d DTt_B  
 初始化 NIGFu{S  
开始-> HkCme_y"  
光栅-> Z H*?~ #  
通用光栅光路图 6&cU*Io@  
 注意:对于特殊类型光栅的使用,如体光栅,可以直接选择特定的光路图 [ ff.R  
光栅结构设置 b ;b1 V  
 首先,需要定义基底(底座)材料和厚度 ul1Vsj  
 在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈中定义 2^:nlM{u  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 f+RDvgkKU  
6y5~Kh6  
 这个例子中,第一个界面上的堆栈已经选中 owB)+  
 #Ki@=*  
堆栈编辑器 Si(?+bda0c  
iWEYSi\)n  
k3w#^ "i  
0Oq1ay^  
堆栈编辑器 xC]/i(+bA  
auU{I y   
^  +G> N  
涂层倾斜光栅介质 ) eV]M~K:  
4H)a7 <,  
 在目录分类“LightTrans定义”中,可以找到涂层倾斜光栅介质。 yCVBG  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 a'r\e2/e?H  
 在这个例子中,由熔融石英制成的光栅(具有含铬的涂层)位于玻璃基质上 D[_2:8  
 在堆栈编辑器视图中,不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示(暗色意味折射率高) N_U D7P1  
:/08}!_:  
v}U;@3W8U  
1{qg@xlj  
涂层倾斜光栅介质 _{8boDX#  
W3#L!&z_wK  
>jm9x1+C  
G}x^PJJt  
涂层倾斜光栅介质 >jIc/yEYKI  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 &+p07  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 b?l\Q Mvi  
 在简单光栅结构的案例中,推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 ofV{SeD67  
C\Rd]P8\  
+= QboUN  
bk 2vce&  
涂层倾斜光栅介质参数 Zv_<*uzKZ  
u=5^xpI<D  
ftbu:RtK^^  
& |r)pl0$  
涂层倾斜光栅介质参数 Mh\c+1MFs  
G9]GK+@&F  
E;SF f  
Ogb !YF#e  
高级选项&信息 !Wk "a7  
 在传输菜单中,多个高级选项可用 :v+ 39  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 &7cy9Z~m  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 H~&'`h1  
 这可能是有用的,如果考虑金属光栅 y_w4ei  
 相比之下,在电介质光栅中,默认设置已经足够 'k hJZ:  
1 OX(eXF>  
N 6eY-`4y  
dCBJV  
高级选项&信息 pq4frq  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 hhpH)Bi=  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化,默认设置适用于几乎所有的光栅结构 5_PD ?lg  
 更多地,提供了关于层数和过渡点的信息 ZCa?uzeo]  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述,折射率由颜色尺度描述 q;U[f6JjE  
|o`TRqs  
SI\zW[IL  
  ~*RNJ  
高级选项&信息 KQh'5o&  
3 ;&N3:,X  
G'%mmA\  
a"}?{  
高级选项&信息 6D>o(b2  
Q~`n%uYg\{  
7yKadM~)  
n/?_]  
体光栅介质 [b`k\~N4r  
hTF]-& hZ  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 TMbj]Mso  
 界面允许配置折射率的调制,这由全息曝光产生 D(y=0),  
 同时,两个平面界面作为介质的边界 {min9  
0h* AtZv_  
0HE@L_$;2  
E0w>c'kH  
体光栅介质参数 hD"Tjd` P  
`.@N9+Aj  
 为了描述体光栅,VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 C{4[7  
 首先,需要选择全息介质,这提供了初始折射率 B>Mk "WjQ  
 其次,折射率调制的周期和取向由入射角(α)和信号波的参考波长控制 SH"O<c Dp  
 更多地,根据入射角引入量化的波矢空间,数值计算量可以显著的减少(也可以查阅更多关于体光栅的文件) yPW?%7 h  
8{'L:yzMY  
|]V0sgpoZ  
60*=Bs%b  
体光栅介质参数 m)&2zV/Q  
Rc @p!Xi  
4Xlq Ym  
XvWUJ6M  
高级选项&信息 Xfe,ZC)  
[W` _`  
((#|>W\&  
P)4SrqW_  
高级选项&信息 Z{|wjZb(  
PKk_9Xd  
x)s`j(pYC  
N,L$+wm  
在探测器位置处的备注 7aS`S F  
 在VirtualLab中,探测器默认位于空气中基底的后面 |?g k%g  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中,这是必要的 ftRf~5d2  
 然而,完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应,这在现实中不会发生 A\YP}sG1  
 因此,对于合理的光栅效率的计算,在基质材料中设置探测器是合适的(正如大多数光栅评估软件) D >$9(  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 a=Pl3Uo  
3x=T &X+  
B\`4TU}kE  
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