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infotek 2023-02-20 08:25

使用特殊介质的光栅结构的配置

光栅结构广泛用于多个应用,如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法(FMM),VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中,通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的,可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中,解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 f2,1<^{  
Ce'pis   
IAOcKQ3  
K$ v"Uk  
该用例展示了… %Z8vdU#l  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构,如: 0~& "  
倾斜光栅介质 (Bo bB]~a  
体光栅介质 cMzkL%  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 GyC/_ntn  
to6;?uC+|i  
u7;~  
<fdPLw;@e4  
光栅工具箱初始化 QI_59f>  
wVq\FY%  
1 11D3  
 初始化 !D o,>gO  
开始-> M3zDtN  
光栅-> #' hLb  
通用光栅光路图 +3,|"g::  
 注意:对于特殊类型光栅的使用,如体光栅,可以直接选择特定的光路图 = c~I .  
光栅结构设置 A7P`lJgv  
 首先,需要定义基底(底座)材料和厚度 -n*;W9  
 在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈中定义 T!Sj<,r+j  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 \nqo%5XL  
X;!D};;M  
 这个例子中,第一个界面上的堆栈已经选中 xiyxr R;  
\Z/k;=Sla  
堆栈编辑器 M@p"y q  
L<(VG{)Z  
P.sgRsL  
yZJ*dadAr  
堆栈编辑器 ~k'V*ERNSj  
a-n4:QT  
%McO6.M@  
涂层倾斜光栅介质 \%,&~4 !  
;T ZGC).6  
 在目录分类“LightTrans定义”中,可以找到涂层倾斜光栅介质。 !ax;5@J  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 v&3O&y/1v  
 在这个例子中,由熔融石英制成的光栅(具有含铬的涂层)位于玻璃基质上 ,f: jioY  
 在堆栈编辑器视图中,不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示(暗色意味折射率高) J -Qh/d%]  
qvt-  
_eLVBG35z  
-cNx1et  
涂层倾斜光栅介质 fY2wDD  
sXl ??UGe  
#/j={*-  
7SI)1_%G  
涂层倾斜光栅介质 a%hGZCI  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 6kvV  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 EaS~`  
 在简单光栅结构的案例中,推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 s0{ NsK>  
DM3B]Yl  
] mj v;C  
u9![6$R  
涂层倾斜光栅介质参数 WfGH|u  
za,2r^  
.R5/8VuHF  
=8{*@>CX  
涂层倾斜光栅介质参数 FsCwF&/q  
=sQ(iso%f  
2/tb6' =  
I{dl%z73  
高级选项&信息 BV9*s  
 在传输菜单中,多个高级选项可用 7dD.G/'  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 ~HP LV  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 lSc,AOXp  
 这可能是有用的,如果考虑金属光栅 4`mO+.za1  
 相比之下,在电介质光栅中,默认设置已经足够 Wp*sP Z  
6MrKi|'X@  
 a@|.;#FF  
1<uwU(  
高级选项&信息 o`%I{?UCDJ  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 f]}}yBte`  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化,默认设置适用于几乎所有的光栅结构 @;9()ad  
 更多地,提供了关于层数和过渡点的信息 "d?f:x3v^  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述,折射率由颜色尺度描述 !C7<sZ`C  
uFe'$vI  
y'rN5J:l  
Qp&?L"U)2  
高级选项&信息  ,o&<WMD  
i=Kvz4h  
P`sN&Y~m  
K<,Y^3]6?  
高级选项&信息 q[boWW  
/v&`!nKu  
hCLk#_  
5c~'!:7  
体光栅介质 fjkT5LNx k  
zXgkcq)  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 J%4HNW*p  
 界面允许配置折射率的调制,这由全息曝光产生 z1vni'%J  
 同时,两个平面界面作为介质的边界 L; C|ow^c  
9`&77+|;e  
&^ceOV0+  
!?r/ 4  
体光栅介质参数 2$ VTu+  
f)tc4iV  
 为了描述体光栅,VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 nE<J`Wo$f  
 首先,需要选择全息介质,这提供了初始折射率 J_/05( 48  
 其次,折射率调制的周期和取向由入射角(α)和信号波的参考波长控制 j@g!R!7)  
 更多地,根据入射角引入量化的波矢空间,数值计算量可以显著的减少(也可以查阅更多关于体光栅的文件) NlFo$Y  
E<a.LW@  
!>|`ly$6  
;5RIwD  
体光栅介质参数 j}RM.C\7  
Fs9W>*(  
Rc%PZ}es  
N('3oy#8  
高级选项&信息 ULbP_y>(Y  
O &\<FT5  
7`+UB>8  
|bvGYsn_#=  
高级选项&信息 %((cFQ9  
P59uALi  
4i96UvkZ  
%rFllb7  
在探测器位置处的备注 |Qq+8IeYG  
 在VirtualLab中,探测器默认位于空气中基底的后面 p(7c33SyF  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中,这是必要的 Q5T(nEA  
 然而,完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应,这在现实中不会发生 +9}' s{  
 因此,对于合理的光栅效率的计算,在基质材料中设置探测器是合适的(正如大多数光栅评估软件) o7QK8#  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 tJG (*   
fcn_<Yh0W  
v5gQ9  
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