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使用特殊介质的光栅结构的配置
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infotek
2023-02-20 08:25
使用特殊介质的光栅结构的配置
光栅结构广泛用于多个应用,如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法(FMM),VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中,通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的,可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中,解释了基于特殊介质光栅结构的配置。
?q7Gs)B=^'
S+ x[1#r
5PySCGv
g-`NsqzD
该用例展示了…
L>*|T[~
在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构,如:
3*L,48wX
倾斜光栅介质
lTNkm Q
体光栅介质
+%^xz 1m
如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构
V!4E(sX
#6nA^K}
}\*|b@)]
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光栅工具箱初始化
fe,CY5B{
IrK )N
dDTt _B
初始化
NIGFu{S
开始->
HkCme_y"
光栅->
ZH*?~ #
通用光栅光路图
6&cU*Io@
注意:对于特殊类型光栅的使用,如体光栅,可以直接选择特定的光路图
[ ff.R
光栅结构设置
b ;b1V
首先,需要定义基底(底座)材料和厚度
ul1Vsj
在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈中定义
2^:nlM{u
堆栈可以固定到基底的一边或两边
f+RDvgkKU
6y5~Kh6
这个例子中,第一个界面上的堆栈已经选中
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#Ki@=*
堆栈编辑器
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k3w#^ "i
0Oq1ay^
堆栈编辑器
xC]/i(+bA
auU{Iy
^ +G> N
涂层倾斜光栅介质
)eV]M~K:
4H)a7<,
在目录分类“LightTrans定义”中,可以找到涂层倾斜光栅介质。
yCVBG
这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构
a'r\e2/e?H
在这个例子中,由熔融石英制成的光栅(具有含铬的涂层)位于玻璃基质上
D[_2:8
在堆栈编辑器视图中,不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示(暗色意味折射率高)
N_U D7P1
:/08}!_:
v}U;@3W8U
1{qg@xlj
涂层倾斜光栅介质
_{8boDX#
W3#L!&z_wK
>jm9x1+C
G}x^PJJt
涂层倾斜光栅介质
>jIc/yEYKI
堆栈周期允许控制整个配置的周期
&+p07
该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件
b?l\QMvi
在简单光栅结构的案例中,推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率
ofV{SeD67
C\Rd]P8\
+=QboUN
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涂层倾斜光栅介质参数
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u=5^xpI<D
ftbu:RtK^^
& |r)pl0$
涂层倾斜光栅介质参数
Mh\c +1MFs
G9]GK+@&F
E;SFf
Ogb!YF#e
高级选项&信息
!Wk "a7
在传输菜单中,多个高级选项可用
:v+39
传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置
&7cy9Z~m
可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量
H~&'`h1
这可能是有用的,如果考虑金属光栅
y_w4ei
相比之下,在电介质光栅中,默认设置已经足够
'k hJZ:
1 OX(eXF>
N6eY-`4y
dCBJV
高级选项&信息
pq4frq
高级选项标签提供了结构分解的信息
hhpH)Bi=
层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化,默认设置适用于几乎所有的光栅结构
5_PD?lg
更多地,提供了关于层数和过渡点的信息
ZCa?uzeo]
分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述,折射率由颜色尺度描述
q;U[f6JjE
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高级选项&信息
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高级选项&信息
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体光栅介质
[b`k\~N4r
hTF]-& hZ
另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质
TMbj]Mso
界面允许配置折射率的调制,这由全息曝光产生
D(y=0),
同时,两个平面界面作为介质的边界
{min9
0h* AtZv_
0HE@L_$;2
E0w>c'kH
体光栅介质参数
hD"Tjd` P
`.@N9+Aj
为了描述体光栅,VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案
C{4[ 7
首先,需要选择全息介质,这提供了初始折射率
B>Mk "WjQ
其次,折射率调制的周期和取向由入射角(α)和信号波的参考波长控制
SH"O<cDp
更多地,根据入射角引入量化的波矢空间,数值计算量可以显著的减少(也可以查阅更多关于体光栅的文件)
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8{'L:yzMY
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60*=Bs%b
体光栅介质参数
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高级选项&信息
Xfe,ZC)
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