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infotek 2023-02-20 08:25

使用特殊介质的光栅结构的配置

光栅结构广泛用于多个应用,如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法(FMM),VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中,通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的,可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中,解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 F\]rxl4(L  
v h%\ " h  
DvhK0L*Qr  
YqDw*S{  
该用例展示了… 0CDTj,eK  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构,如: |YlUt~H>  
倾斜光栅介质 Xajjzl\b  
体光栅介质 tq*Q|9j7VG  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 ,)QmQ ^/  
y'+^ ME$H  
l'o}4am  
F`ihw[ Wn  
光栅工具箱初始化 t4JGd)r  
^L'K?o  
yV]-![`D  
 初始化 Bf-&[ 5N}  
开始-> [XQNgSy?z  
光栅-> >^jm7}+hb  
通用光栅光路图 xQD#; 7  
 注意:对于特殊类型光栅的使用,如体光栅,可以直接选择特定的光路图 M)LdGN?$  
光栅结构设置 SOUA,4  
 首先,需要定义基底(底座)材料和厚度 J*;t{M5  
 在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈中定义 +V'Z%;/  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 C2b.([HE  
m83i6"!H  
 这个例子中,第一个界面上的堆栈已经选中 I@z{G r  
M.128J+xfS  
堆栈编辑器 <e=0J8V8,i  
nnE@1X3  
o?X\,}-s  
u_[Zu8  
堆栈编辑器 f{)*"  
bk7miRIB  
[lnN~#(Y  
涂层倾斜光栅介质 My[L3KTTp  
O-G@To3\  
 在目录分类“LightTrans定义”中,可以找到涂层倾斜光栅介质。 *U]f6Q<X  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 77 `/YE#M  
 在这个例子中,由熔融石英制成的光栅(具有含铬的涂层)位于玻璃基质上 62zlO{ >rJ  
 在堆栈编辑器视图中,不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示(暗色意味折射率高) 'Gc6ZSLM  
wHY;Y-(ZT  
k9bU<  
\UE9Ff+{  
涂层倾斜光栅介质 HKh)T$IZM  
w"sRK  
=]^* -f}J9  
;w+A38N$J  
涂层倾斜光栅介质 @-7K~in?^  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 ~k J#IA  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 : i(h[0  
 在简单光栅结构的案例中,推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 FIS-xpv$  
5I<?HsK@  
ogPfz/ hw  
<h;P<4JX  
涂层倾斜光栅介质参数 Im Tq`  
S1=c_!q%9  
x7/2e{p uu  
# ._!.P  
涂层倾斜光栅介质参数 I,#U _  
2.x3^/  
C {'c_wX  
7.=u:PK7kM  
高级选项&信息 d82IEhZ#  
 在传输菜单中,多个高级选项可用 Kc(_?`  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 lE`ScYG  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 x:@e ID  
 这可能是有用的,如果考虑金属光栅 ^@)+P/&  
 相比之下,在电介质光栅中,默认设置已经足够 3O]e  
adxJA}K}  
8!T^KMfz  
F-ZD6l9O  
高级选项&信息 SC!IQ80H#D  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 >DV0!'jW  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化,默认设置适用于几乎所有的光栅结构 6?t5g4q*nn  
 更多地,提供了关于层数和过渡点的信息 fZGKVxo"  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述,折射率由颜色尺度描述 pGOS'.K%t8  
L72GF5+!!  
HPgMVp'  
Y>z(F\  
高级选项&信息 cJty4m-  
tG{Vn+~/  
G3e%~  
/wK7l-S  
高级选项&信息 5 Fd]3  
6 HEl1FK{@  
^yb_aCw  
N* z<VZ  
体光栅介质 A8A+ImwO"  
0xjV*0?s  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 *yJb4uALB  
 界面允许配置折射率的调制,这由全息曝光产生 me9RnPe:  
 同时,两个平面界面作为介质的边界 %Cr- cR0  
Dp'/uCW)  
Tq?W @DM*  
bM!`C|,[s  
体光栅介质参数 q&wMp{  
k'\RS6M`L  
 为了描述体光栅,VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 w"Z >F]YZ  
 首先,需要选择全息介质,这提供了初始折射率 3b_#xr-  
 其次,折射率调制的周期和取向由入射角(α)和信号波的参考波长控制 ROfmAc  
 更多地,根据入射角引入量化的波矢空间,数值计算量可以显著的减少(也可以查阅更多关于体光栅的文件) Wd%j;glG  
B 51LZP  
_}\&;  
}\irr9,  
体光栅介质参数 eygyVhJ  
]:f1r8<3p  
R0+m7mx#E  
rXaL1`t*  
高级选项&信息 :_^YEm+A  
(g;Ff`P Pc  
~7=,)Q  
<6`,)(dj  
高级选项&信息 SY{J  
.5T7O_%FP  
O8lOr(|l  
E6G^?k~q  
在探测器位置处的备注 %:/;R_  
 在VirtualLab中,探测器默认位于空气中基底的后面 k{;:KW|  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中,这是必要的 j9,X.?Xvx  
 然而,完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应,这在现实中不会发生 kxO$Uk&TX  
 因此,对于合理的光栅效率的计算,在基质材料中设置探测器是合适的(正如大多数光栅评估软件) ZzE&?  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 T&h|sa(   
m1cyCD  
Hnaq+ _]  
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