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infotek 2023-02-20 08:25

使用特殊介质的光栅结构的配置

光栅结构广泛用于多个应用,如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法(FMM),VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中,通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的,可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中,解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 DE{h5-g  
|'HLz=5\  
tn/T6C^)  
,7|;k2  
该用例展示了… &h$|j  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构,如: MM{_Ur7Q  
倾斜光栅介质 }0=<6\+:`  
体光栅介质 ]_*S~'x  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 !- ~ X?s~L  
Q"J-tP!  
V7=SV:+1or  
$%c{06Oq(  
光栅工具箱初始化 ul5|.C  
KSs1CF'i  
FQeYx-7  
 初始化 !UV5zmS  
开始-> =~FG&rk^  
光栅-> ){Mu~P  
通用光栅光路图 d-!<C7O}  
 注意:对于特殊类型光栅的使用,如体光栅,可以直接选择特定的光路图 Y'"N"$n'_  
光栅结构设置 z>vtEV))  
 首先,需要定义基底(底座)材料和厚度 va{#RnU  
 在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈中定义  v%{0 Tyk  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 9\O(n>  
EU`T6M  
 这个例子中,第一个界面上的堆栈已经选中 LhJa)jFQ  
_Sj}~ H  
堆栈编辑器 x%BF {Sw  
: iY$82wQ  
(fk5'  
>w'$1tc?+F  
堆栈编辑器 X, fu!  
EO"C8z'al  
~I_owCVZ  
涂层倾斜光栅介质 Iz\1~  
J=WB6zi  
 在目录分类“LightTrans定义”中,可以找到涂层倾斜光栅介质。 P{oAObP%  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 W"(u^}  
 在这个例子中,由熔融石英制成的光栅(具有含铬的涂层)位于玻璃基质上 z?.(3oLT  
 在堆栈编辑器视图中,不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示(暗色意味折射率高) k khE}qSD  
:\}U9QfCw  
L`K;IV%;  
*{/@uO  
涂层倾斜光栅介质 we]>(|  
$iMC/Kym  
m/${8  
a1x7~)z>zi  
涂层倾斜光栅介质 cx(2jk}6  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 xks?y.wA  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 snMQ"ju  
 在简单光栅结构的案例中,推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 6$ e]i|e  
fD6GQ*  
;) pl{_  
jUY+3"?   
涂层倾斜光栅介质参数 @phN|;?  
\|+/0 USn  
M<oA<#IW  
! Cb=B  
涂层倾斜光栅介质参数 #EwK"S~  
#8?^C]*{0  
6Y?`=kAp  
CIQwl 6H9  
高级选项&信息 dB)9K)  
 在传输菜单中,多个高级选项可用 84`rbL!M  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 ^5)_wUf  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 x;U|3{I o  
 这可能是有用的,如果考虑金属光栅 jH0Bo;  
 相比之下,在电介质光栅中,默认设置已经足够 1X:&* a"5  
&va*IR  
;X7i/D Q  
=~,l4g\  
高级选项&信息 BED@?:U#h  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 VK4/82@5  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化,默认设置适用于几乎所有的光栅结构 qY}Cg0[@g  
 更多地,提供了关于层数和过渡点的信息 5c;En6W  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述,折射率由颜色尺度描述 tp+=0k2i  
HDj$"pS  
YN^jm  
Wm>b3:  
高级选项&信息 ,>S+-L8  
Xiju"Cup"  
CKC0{J8g  
 q)oN 2-  
高级选项&信息 eBvW#Hzp  
vf_OQ4'G,  
hho%~^bn(  
,i![QXZ  
体光栅介质 ]wf |PU~nr  
sY^lQN  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 >)sqh ~P  
 界面允许配置折射率的调制,这由全息曝光产生 UT;4U;a,m  
 同时,两个平面界面作为介质的边界 V/&o]b   
5G oK"F0i  
EE9vk*[@C  
9fCO7AE0#  
体光栅介质参数 ^BNp`x;;`  
[a+4gy  
 为了描述体光栅,VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 V0T<eH<  
 首先,需要选择全息介质,这提供了初始折射率 j!CU  
 其次,折射率调制的周期和取向由入射角(α)和信号波的参考波长控制 bqNLkw#  
 更多地,根据入射角引入量化的波矢空间,数值计算量可以显著的减少(也可以查阅更多关于体光栅的文件) ] umZJZ#Y  
"uS7PplyO  
5% 'S  
$owb3g(%4  
体光栅介质参数 xH@'H?  
qAORWc  
' 3VqkQ4  
;%!tf{Si  
高级选项&信息 LV\ieM  
<vLdBfw&N  
d/4ubf+$k  
jQs*(=ls  
高级选项&信息 A`Q >h{  
nHVPMi>  
NkoofhZ  
59~FpjJ  
在探测器位置处的备注 6~3jn+K$1  
 在VirtualLab中,探测器默认位于空气中基底的后面 {70 Ou}*  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中,这是必要的 h-,?a_  
 然而,完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应,这在现实中不会发生 _y"a2M  
 因此,对于合理的光栅效率的计算,在基质材料中设置探测器是合适的(正如大多数光栅评估软件) WN1Jm:5YV  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 _r[r8M B  
ZGzc"r(r:#  
,b4~!V  
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