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infotek 2023-02-20 08:25

使用特殊介质的光栅结构的配置

光栅结构广泛用于多个应用,如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法(FMM),VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中,通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的,可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中,解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 \K]0JH  
,V:SN~P66+  
""Q P%  
;H.^i|_/  
该用例展示了… 5=?\1`e1[  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构,如: =-lb)Z"d  
倾斜光栅介质 4J([6<  
体光栅介质 c+nq] xOs'  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 oW Nh@C  
;<2 G  
ce3YCflt  
FA3~|Zg  
光栅工具箱初始化 'B0{_RaTb  
E6gI,f/p0X  
2eol gXp  
 初始化 GMl;7?RA  
开始-> V2|aN<Sx<  
光栅-> |:<f-j7t~  
通用光栅光路图 `eCo~(F y  
 注意:对于特殊类型光栅的使用,如体光栅,可以直接选择特定的光路图 j578)!aJ  
光栅结构设置 >!1.  
 首先,需要定义基底(底座)材料和厚度 ~-J]W-n  
 在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈中定义 [ )dXIIM  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 .:QLk&a,:,  
><$d$(  
 这个例子中,第一个界面上的堆栈已经选中 0h\smqm  
%k?U9pj^  
堆栈编辑器 zSja/yq  
}YNR"X9*)/  
7.#F,Ue_0T  
Uu(SR/R}  
堆栈编辑器 9g"2^^wD  
g($DdKc|g  
\(Y\|zC'0$  
涂层倾斜光栅介质 $!yW_HTx  
EbE-}>7OO  
 在目录分类“LightTrans定义”中,可以找到涂层倾斜光栅介质。 &3Sz je  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 XkF%.hWo  
 在这个例子中,由熔融石英制成的光栅(具有含铬的涂层)位于玻璃基质上 QY?~ZwYB  
 在堆栈编辑器视图中,不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示(暗色意味折射率高) c~uKsU  
tL)t"  i  
_JE"{ ;  
Midy"  
涂层倾斜光栅介质 =~H<Z LE+  
r^paD2&}  
j4`0hnqI  
QYjsDL><  
涂层倾斜光栅介质 ?!cvf{a  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 "4+ WZR]  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 3ojlB|Z  
 在简单光栅结构的案例中,推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 ^o1*a&~J@  
lXiKY@R#  
kZZh"#W: L  
E5xzy/ZQ  
涂层倾斜光栅介质参数 4^~(Mh-Mw  
pDIVZC  
u!X|A`o5i  
48qV >Gwf  
涂层倾斜光栅介质参数 A?%H=>v$  
lWc:$qnR-K  
/.MN  
K3;nY}\>  
高级选项&信息 aV?@s4  
 在传输菜单中,多个高级选项可用 f[a}aZ9)  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 CcFn.omA  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 3? 7\ T#=  
 这可能是有用的,如果考虑金属光栅 <|+Ex  
 相比之下,在电介质光栅中,默认设置已经足够 DhT>']Z  
0#&5.Gr)  
 L0@SCt  
RyK\uv  
高级选项&信息 yXF?H"h(  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 vbBc}G"w  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化,默认设置适用于几乎所有的光栅结构 m~u5kbHOi=  
 更多地,提供了关于层数和过渡点的信息 !~&R"2/  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述,折射率由颜色尺度描述 7-T{a<g  
r1L ViK  
TAF PawH  
tj4VWJK  
高级选项&信息 Z2='o_c  
i2(1ki/|O  
;YX4:OBqr  
U,q\em R  
高级选项&信息 i Ae<&Ms  
{v2|g  
?zVL;gVWA  
?yR&/a  
体光栅介质 ?)X,0P'  
(egzH?  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 M9@ri^x  
 界面允许配置折射率的调制,这由全息曝光产生 u1PaHgi$  
 同时,两个平面界面作为介质的边界 JJ'.((  
*2Ht &  
[tA;l+Q\&  
[P7N{l=I  
体光栅介质参数 9Z'8!$LYg  
``e$AS  
 为了描述体光栅,VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 mB9r3[  
 首先,需要选择全息介质,这提供了初始折射率 e9[|!/./5  
 其次,折射率调制的周期和取向由入射角(α)和信号波的参考波长控制 )>-ibf`#?  
 更多地,根据入射角引入量化的波矢空间,数值计算量可以显著的减少(也可以查阅更多关于体光栅的文件) W.0L:3<"  
o1Q7Th  
a|=x5`h04~  
{0^&SI"5`E  
体光栅介质参数 yz*6W zD  
Y=n4K<  
D{4YxR PX  
bk^TFE1l  
高级选项&信息 R&';Oro  
16i "Yg!*  
8o 0%@5M  
?Ovqp-sw  
高级选项&信息 S'B|>!z@  
q)vplV1A  
"=za??\K}  
_}VloiY  
在探测器位置处的备注 ZMLg;-T.&4  
 在VirtualLab中,探测器默认位于空气中基底的后面 ;cz|ss=  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中,这是必要的 |{ PI102  
 然而,完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应,这在现实中不会发生 QtqfG{  
 因此,对于合理的光栅效率的计算,在基质材料中设置探测器是合适的(正如大多数光栅评估软件) y>|{YWbp?  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 mzc 4/<th  
k{$ ao  
D<X.\})Md  
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