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qq287909811	2023-02-10 09:13
哪位大神来看看这个晶控设置监控的问题这个25秒是什么意思？是说明书上说的25秒后开始监控吗？我感觉不是 F.)b`:g w,(e,8#: [attachment=116222]

coldking	2023-02-13 11:34
不穩定的時間,一開始不穩定25秒後必須要穩定,不然發警報?

谭健	2023-02-13 12:43
路过看看

ouyuu	2023-02-16 20:02
刚开始镀膜的时候，因为热冲击水晶片的速率是不稳的。 VU7x w 甚至因为升温过快会有负速率。所以需要一个时间来缓冲。 Np>[mNmga ?ic7M 有一种办法就是直接把镀膜开始后几秒内的膜厚清零，不知道是不是这种办法。 0;,4.hsh <X}@afS 这个问题，膜林的张博士是专家，他的答案应该是最准确的。

morningtech

2023-02-17 10:17

版主抬举了。
我公司晶控仪里有一个最大功率延迟时间，在材料第4页。
它有两个作用，
一是成膜开始后，在此时间内，实际最大功率从预熔功率线性变化到设定的最大功率。抑制速率过冲用。
二是成膜开始后，在此时间内，如果有负速率，则丢弃因此产生的负厚度。正常看上去像厚度清零。在配置参数里设置此功能是否使用。用于部分补偿温度等效应引起的厚度偏差。在有离子源辅助时会发现作用明显，厚度一致性会提高。（这个丢弃的负厚度累积值作为内部过程参数会出现在探头与接口界面，每层重新累积。在我公司 MXC-3 晶控仪里，可以在未关机的情况下，编程发串口指令读取一定层数的负厚度记录，仅作为当时研究之用，没有对外公布指令，有兴趣的可以联系）。
另外，如果我公司晶控仪设置成计算机控制，其将作为单层膜控制器使用，材料1的参数成为开机默认材料参数。

但这是客户计算机上的设置，内部什么操作，我并不清楚。

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