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2023-01-09 09:41 |
Macleod镀膜工具书限时特惠
Essential Macleod中文手册》 p6Z|)1O] oC-v>&bW 目 录 z0OxJ e <v'&Pk< ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 ,J8n}7aI 第1章 介绍 ..........................................................1 =3 Vug2*wd 第2章 软件安装 ..................................................... 3 s&Y"a,|Z 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 K|YB)y 第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 2?SbkU/3|P 第5章 软件结构 ............................................................... 21 Z"RgqNf 第6章 应用窗口 ................................................................. 44 `CI_zc=jx 第7章 设计窗口 .................................................................. 62 G bclR:G 第8章 图形窗口 .................................................................. 100 4hODpIF 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 >
K?OsvX 第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 nwh @F1| 第11章 表格窗口 ................................................................. 116 Qn,6s%n
第12章 优化和综合 ..................................................................120 15hqoo9! 第13章 材料管理 ........................................................................ 149 M(zZ8# 第14章 多层膜 ........................................................................... 167 1Dl6T\20 第15章 分析和设计工具 ........................................................180 #-@uLc 第16章 逆向工程 ................................................................ 200 !1fZ7a 第17章 报告生成器 ............................................................. 208 x-e6[_F 第18章 堆栈 ......................................................................... 213 Q2D!Agq=D 第19章 功能扩展 .................................................................. 229 PO?_i>mA 第20章 运行表单 .................................................................... 251 ?:ZB'G{%E 第21章 模拟器 ...................................................................... 271 &iVdqr1, 第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 ^:]$m;v] 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 g(WP 第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 P/dnH 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 RQb}t, 第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 V*{rHp{=p 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 Yu>DgMW 第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 hd u2?v@ :Ys~Lt54 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 -^lc-$0 {X&lgj 价 格:400元 18!y7
_cFT 4a"Fu<q 镀膜工具书原价400元,限时特惠368元[attachment=115955] 6:O<k2=2 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) *Ud(HMTe %KXiB6<4 内容简介 =i&,I{3 Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 Cq"KKuf 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 *Bq}.Yn 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 *B"Y]6$ J+J,W5t^
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 -(8I ?{"4i 目录 0{|HRiQH9+ Preface 1 uI)twry]@ 内容简介 2 DzQBWY]
) 目录 i AQg|lKv 1 引言 1 `;E/\eG" 2 光学薄膜基础 2 hd(FOKOP 2.1 一般规则 2 .mt%8GM 2.2 正交入射规则 3 2t-w0~O 2.3 斜入射规则 6 OegeZV 2.4 精确计算 7 !qj[$x-ns 2.5 相干性 8 >sfg`4 2.6 参考文献 10 {P]C> 3 Essential Macleod的快速预览 10 }OL"38P 4 Essential Macleod的特点 32 N8b\OTk2 4.1 容量和局限性 33 XiE`_%NW 4.2 程序在哪里? 33 Xq*^6*E-} 4.3 数据文件 35 T)rE#"_]{ 4.4 设计规则 35 $/++afim 4.5 材料数据库和资料库 37 DAB9-[y+ 4.5.1材料损失 38 s9;6&{@%wO 4.5.1材料数据库和导入材料 39 %w*)7@,+- 4.5.2 材料库 41 c+9L6}D 4.5.3导出材料数据 43 K^shT h8k 4.6 常用单位 43 lmvp,BzC 4.7 插值和外推法 46 XH"+oW 4.8 材料数据的平滑 50 mm-s?+&M; 4.9 更多光学常数模型 54 G^~[|a4` 4.10 文档的一般编辑规则 55 ^dHQ<L3.* 4.11 撤销和重做 56 mll:rWC) 4.12 设计文档 57 xzOa9w/ 4.10.1 公式 58 ;uUFgDi 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 $*fJKR_N 4.10.3 沉积密度 59 =?<WCR
C* 4.10.4 平行和楔形介质 60 %9J@##+ 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 ;*<tU
n^t 4.10.4 性能 61 $J`O-"M
4.10.5 保存设计和性能 64 Ke\\B o, 4.10.6 默认设计 64 %lF*g 4.11 图表 64 r~t`H*C)} 4.11.1 合并曲线图 67 `Y#At3{ 4.11.2 自适应绘制 68 9\?OV@ 4.11.3 动态绘图 68 {^VtD 4.11.4 3D绘图 69 &O&HczO 4.12 导入和导出 73 .f\LzZ-I: 4.12.1 剪贴板 73 J7+G"_)' 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 lkn|>U[ 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 'o>)E> 4.13 背景 77 >cu%C s=m 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 *@2Bh4 4.15 生成Rugate 84 1-KNXGb' 4.16 参考文献 91 {PHH1dC{ 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 ze+YQF 5.1 Jobs 92 kQ`tY`3F 5.2 创建一个新Job(工作) 93 'cW^ S7 5.3 输入材料 94 Ms{";qiG 5.4 设计数据文件夹 95 Q`ua9oIJ= 5.5 默认设计 95 Kc MzY 6 细化和合成 97 :!`"GaTy 6.1 优化介绍 97 9%!h/m>rW 6.2 细化 (Refinement) 98 XE}gl&\ 6.3 合成 (Synthesis) 100 > H!sD\b 6.4 目标和评价函数 101 ;H_/o+ 6.4.1 目标输入 102 9wgB JJl7 6.4.2 目标 103 bx0.(Nv/X 6.4.3 特殊的评价函数 104 N9e'jM>Oos 6.5 层锁定和连接 104 37#&:[w> 6.6 细化技术 104 fE#(M +(< 6.6.1 单纯形 105 QQ*sjK.( 6.6.1.1 单纯形参数 106 K:PH:e 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 $
V^gFes 6.6.2.1 Optimac参数 108 z;c>Q\Q 6.6.3 模拟退火算法 109 BQ@7^E[ 6.6.3.1 模拟退火参数 109 Hq3|>OqC2Q 6.6.4 共轭梯度 111 bjZJP\6 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 7aG.?Ca% 6.6.5 拟牛顿法 112 DD|0?i 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 +#}GmUwPG$ 6.6.6 针合成 113 b+rxin". 6.6.6.1 针合成参数 114 $*Ucfw1T 6.6.7 差分进化 114 p@<Q? 6.6.8非局部细化 115 w+M/VsL 6.6.8.1非局部细化参数 115 jh5QIZf= 6.7 我应该使用哪种技术? 116 j#NyNv(jE1 6.7.1 细化 116 p~pD`'% 6.7.2 合成 117 [);oj< 6.8 参考文献 117 D31X {dJ 7 导纳图及其他工具 118 q!Du
J 7.1 简介 118 vB:\ZX4 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 FXQWT9Kk~_ 7.2.1 四分之一波长规则 119 +&GV-z~o 7.2.2 导纳图 120 YW}$e W* 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 -;""l{ 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 i2F7O"f. 7.5 斜入射导纳图 141 0YH5B5b 7.6 对称周期 141 mG~_*8}e< 7.7 参考文献 142 <_EKCk 8 典型的镀膜实例 143 N5
ME_) 8.1 单层抗反射薄膜 145 OgQdyU 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 rTPgHK]?l 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 W5*ldXXk 8.4 W-膜层 148 BI'>\hX/V 8.5 V-膜层 149 AjzTszByu 8.6 V-膜层高折射基底 150 (lk9](;L 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 *t@A-Sn 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 ]vrZGX
a+ 8.9 四层抗反射薄膜 153 j\2Qe%d 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 &D,Iwq 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 ]#tB[G 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 r`H}f#.KR 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 "<,lqIqA; 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 +8Xjk\Hi 8.15十五层宽带抗反射膜 159 HJL! ;i 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 >O'\
jp}$l 8.17 1/4波长堆栈 162 L%'J]HL- 8.18 陷波滤波器 163 P/%7kD@5; 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 =i/Df? 8.20 褶皱 165 tOwn M1
:( 8.21 消偏振分光器1 169 6'qkD< | |