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2022-12-26 09:08 |
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
JWZG)I]r 内容简介 /b&ka&|t
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 bsuGZ 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 &>nB@SQZ 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 7+!FZo{? rra|}l4Y
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 !4.VK-a9V% 目录 vIq>QXb;d Preface 1 eELLnU{" 内容简介 2 :.DZ~I 目录 i p{@j M 1 引言 1 [TX1\*W 2 光学薄膜基础 2 u[:-^H 2.1 一般规则 2 p!oO}gE 2.2 正交入射规则 3 NUO#[7OK+x 2.3 斜入射规则 6 ys/U.e|)! 2.4 精确计算 7 kAV4V;ydh 2.5 相干性 8 @\*`rl] 2.6 参考文献 10 Lm-f0\( 3 Essential Macleod的快速预览 10 .-Z=Aa> 4 Essential Macleod的特点 32 8SZZ_tS3r 4.1 容量和局限性 33 ^;8dl.; 4.2 程序在哪里? 33 PF+ F^;C 4.3 数据文件 35 /1y\EEc 4.4 设计规则 35 14~#k%zO( 4.5 材料数据库和资料库 37 wZUZ"Y}9 4.5.1材料损失 38 K#%@4]jO3 4.5.1材料数据库和导入材料 39 R|m!*B~ 4.5.2 材料库 41 d Dg[ry 4.5.3导出材料数据 43 wiFA3_\G 4.6 常用单位 43 *P01 yW0 4.7 插值和外推法 46 MZrLLnl6\ 4.8 材料数据的平滑 50 "cZ ){w 4.9 更多光学常数模型 54 1La?x'{2MP 4.10 文档的一般编辑规则 55 G1
K@Ir< 4.11 撤销和重做 56 R@df~ 4.12 设计文档 57 m2a[E0 4.10.1 公式 58 XQ'$J_hC 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 w#d7 4.10.3 沉积密度 59 9GX'+$R] 4.10.4 平行和楔形介质 60 n-he|u 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 Cl8S_Bz 4.10.4 性能 61 iBPIj;, 4.10.5 保存设计和性能 64 6ys|'<? 4.10.6 默认设计 64 Vl^p3f[ 4.11 图表 64 "8$Muwm 4.11.1 合并曲线图 67 cd&sAK" 4.11.2 自适应绘制 68 FrsXLUY 4.11.3 动态绘图 68 'u#c_m!9 4.11.4 3D绘图 69 v8"Zru 4.12 导入和导出 73 XI'.L ~ 4.12.1 剪贴板 73 kp-`_sDg 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 XZ=%XB:? 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 {,=U]^A 4.13 背景 77 ?!.L#]23f 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 );/p[Fd2] 4.15 生成Rugate 84 :-Wh'H( 4.16 参考文献 91 E{'Y>gB6 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 .wO-2h{Q 5.1 Jobs 92
/s~BE ,su 5.2 创建一个新Job(工作) 93 jA? 7>"| 5.3 输入材料 94 Ub{7 Xk
n 5.4 设计数据文件夹 95 }vb.>hy 5.5 默认设计 95 Obx!>mI^6 6 细化和合成 97 mKLWz1GZ 6.1 优化介绍 97 rMoz+{1A 6.2 细化 (Refinement) 98 v*kX?J#]5 6.3 合成 (Synthesis) 100 Hf+oG 6.4 目标和评价函数 101 ^U6VJ(58P 6.4.1 目标输入 102 G|I}x/X"Q7 6.4.2 目标 103 t=\
ffpA 6.4.3 特殊的评价函数 104 ?L| Ai\| 6.5 层锁定和连接 104 x21XzGLY|} 6.6 细化技术 104 x9o(q`N 6.6.1 单纯形 105 }ww`Y 6.6.1.1 单纯形参数 106 [1l OGck[ 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 9+b){W 6.6.2.1 Optimac参数 108 E&ReQgBft 6.6.3 模拟退火算法 109 ',1[rWyc 6.6.3.1 模拟退火参数 109 N[I ?x5:u 6.6.4 共轭梯度 111 p@?ud% 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 Eb8~i_B- 6.6.5 拟牛顿法 112 :7*9W|e
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 Ekn3ODz, 6.6.6 针合成 113 sD9OV6^{?K 6.6.6.1 针合成参数 114 sVH
w\_F$ 6.6.7 差分进化 114 6H!l>@a7v 6.6.8非局部细化 115 6n\){dkZ~ 6.6.8.1非局部细化参数 115 g'9~T8i& ^ 6.7 我应该使用哪种技术? 116 \"X_zM 6.7.1 细化 116 yuhY )T 6.7.2 合成 117 JF'<"" 6.8 参考文献 117 E_0i9 7 导纳图及其他工具 118 g)}q3-<AK> 7.1 简介 118 It]GlxMX 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 tlYB'8bJY 7.2.1 四分之一波长规则 119 RJ-J/NhWyI 7.2.2 导纳图 120 P=a&>i 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 L=5Y^f'aU 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 &{bNa:@ 7.5 斜入射导纳图 141 iM$iZ;Tp 7.6 对称周期 141 wauM|/KG 7.7 参考文献 142 zj$Ve 8 典型的镀膜实例 143 4m%Yck{R 8.1 单层抗反射薄膜 145 Lie= DD 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 @o&UF-=MW( 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 !FQS9SoO9 8.4 W-膜层 148 ~ymSsoD^ 8.5 V-膜层 149 4O4}C#6(4 8.6 V-膜层高折射基底 150 u63Q<P< | |