第22期线上培训招生 | Ansys Zemax 成像设计课程最新升级！

为更好地培养行业人才，武汉宇熠在原有 Zemax 成像设计培训的基础上进行了课程提炼和升级。培训由宇熠高级光学工程师主讲，针对序列成像设计，帮助学员们掌握 优化技巧、公差分析技巧、热分析、像质评价、坐标变换 等知识点。
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本次培训会根据最新的 Ansys Zemax 功能特色，结合当今实际的镜头设计过程中可能碰到的问题，来给大家总结出一些最新的解决方案。不仅有理论上的知识分享，还有更多的实操环节，以理论结合实践的方式，提高大家的学习效率。

此外我们还会给大家介绍 Ansys Zemax 同 Ansys旗下其他软件如 Lumerical、Speos 联合仿真的可能性。（点击查看最新软件合集）

培训大纲
· Ansys Zemax OpticStudio 简介
· 数据库；镜头库，材料库
· 玻璃材料以及如何定义新材料
· 像差简介以及Ansys Zemax中的像差图表
· 优化原理和优化向导
· 局部/全局/锤形优化/优化操作数
· 实例：单透镜/双透镜的建模和优化
· 热分析和消热差优化
· 二元面及衍射光学表面
· 鬼像及杂散光分析
· 调制传递函数MTF和成像质量评估
· 双高斯镜头的设计与优化，图像模拟功能
· Ansys Zemax中的坐标系统
· 坐标间端面及其使用技巧
· 序列模式中的棱镜模型
· 实例：扫描振镜
· 实例：投影系统设计，科勒照明系统设计
· 混合模式和非序列模式
· 黑盒系统
· Ansys Zemax中的快速优化工具
· 寻找最佳非球面/转换非球面类型
· 公差分析简介
· 制造误差和装配误差
· 公差评价标准
· 灵敏度/反灵敏度/蒙特卡罗分析
· 公差补偿器
· 公差操作数
· 实例：对单透镜/库克三片镜进行公差分析
· 公差报告详解
· 公差脚本简介
· 镜片/CAD制图
培训信息
  主办单位：武汉宇熠科技有限公司

  培训主题：Ansys Zemax 成像设计
  培训形式：线上培训
  培训时间：2022年11月29~30日 (9:00-17:00)
  培训费用：￥ 1980元 / 人
  (三人及以上组团报名可享八折优惠)、
  报名方式：扫码报名

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注意：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟，具体情况以开课前一周通知为准。

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