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2022-11-02 08:40 |
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
#AGO~#aK / 3N2?zS{ 内容简介 x *I'Ar Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 oDA'$]UL 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 d%P2V>P 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ,/+Mp
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c^'$ 目录 FFw(`[A_ Preface 1 fS4foMI63) 内容简介 2 ]eGa_Ld 目录 i 3%)cUkD 1 引言 1 #g6 _)B=S 2 光学薄膜基础 2 bPFGQlmIO 2.1 一般规则 2 "^$Ht`p[ 2.2 正交入射规则 3 $Lstq_x+ 2.3 斜入射规则 6 t08U9`w 2.4 精确计算 7 ~RbVcB# 2.5 相干性 8 QfEJU8/5d 2.6 参考文献 10 j_rO_m <8 3 Essential Macleod的快速预览 10 mx}5":} 4 Essential Macleod的特点 32 ^`yhN 4.1 容量和局限性 33 3 ~P$p< 4.2 程序在哪里? 33 }SSg>.48w 4.3 数据文件 35 bKS/T^UQ 4.4 设计规则 35 ]x
metv|7 4.5 材料数据库和资料库 37 2`]c&k;] 4.5.1材料损失 38 i<Ms2^ 4.5.1材料数据库和导入材料 39 Vl1.]'p_ 4.5.2 材料库 41 l5w^rj 4.5.3导出材料数据 43 L8D=F7 4.6 常用单位 43 VDnrm* 4.7 插值和外推法 46 e2=}qE7 4.8 材料数据的平滑 50 PJB_"?NTTC 4.9 更多光学常数模型 54 \*CXXp` 4.10 文档的一般编辑规则 55 ^IiA(?8 4.11 撤销和重做 56 q,fp
DNo 4.12 设计文档 57 `S((F|Ty=; 4.10.1 公式 58 9q?knMt 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 -J63'bb7oi 4.10.3 沉积密度 59 TE&E f$h 4.10.4 平行和楔形介质 60 3|$?T|#B 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 P7}w^#x 4.10.4 性能 61 O])vR< [ 4.10.5 保存设计和性能 64 |h $Gs2 4.10.6 默认设计 64 Ia](CN*;6 4.11 图表 64 Qf0P"s` 4.11.1 合并曲线图 67 {@KLN< 4.11.2 自适应绘制 68 waC i9 4.11.3 动态绘图 68 8i"CU:( 4.11.4 3D绘图 69 4mY^pQ1=L 4.12 导入和导出 73 mL1ZSX
o! 4.12.1 剪贴板 73 D7pQWlN\ 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 >
U3>I^Y 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 Lb$Uba-_ 4.13 背景 77 *}:P 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 z]g#2xD2 4.15 生成Rugate 84 X{xkXg8h 4.16 参考文献 91 ,eebO~7vB 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 lg-`zV3 5.1 Jobs 92 # d"M(nt 5.2 创建一个新Job(工作) 93 d3E N0e+^ 5.3 输入材料 94 N/-(~r[ 5.4 设计数据文件夹 95 suQ`a_zJ 5.5 默认设计 95 tx;2C|S$oU 6 细化和合成 97 TH4f"h+B3" 6.1 优化介绍 97 %zc.b 6.2 细化 (Refinement) 98 @ ~{TL 6.3 合成 (Synthesis) 100 7202N?a
{ 6.4 目标和评价函数 101 Flpl,|n
a 6.4.1 目标输入 102 J8FzQ2 6.4.2 目标 103 >*/
|tL 6.4.3 特殊的评价函数 104 xz@*V>QT 6.5 层锁定和连接 104 fC^d@4ha 6.6 细化技术 104 .))k 6.6.1 单纯形 105 *C)m#[#:u 6.6.1.1 单纯形参数 106 eiOAbO#U 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 ZK{1z| 6.6.2.1 Optimac参数 108 ]nV_K}!w 6.6.3 模拟退火算法 109 ?>=vKU5 6.6.3.1 模拟退火参数 109 cJT_Qfxx 6.6.4 共轭梯度 111 s!09cS 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 78T;b7!-C 6.6.5 拟牛顿法 112 d?U,}tv 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 o}36bi{ 6.6.6 针合成 113 \py&v5J)s! 6.6.6.1 针合成参数 114 eG1A7n'6W 6.6.7 差分进化 114 T8LvdzS 6.6.8非局部细化 115 U2_; 6.6.8.1非局部细化参数 115 $m.'d*e5 6.7 我应该使用哪种技术? 116 {>R933fap 6.7.1 细化 116 mV7_O// 6.7.2 合成 117 ctb
, w 6.8 参考文献 117 $ ga,$G 7 导纳图及其他工具 118 w0>5#jq#r 7.1 简介 118 R $/q=*k 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 `ER#S_} 7.2.1 四分之一波长规则 119 <+ <o
X"I 7.2.2 导纳图 120 qqYQ/4Ajw 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 ojWf]$^y} 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 }/ xdHt 7.5 斜入射导纳图 141 T2T?)_f /
7.6 对称周期 141 %&O'>L 7.7 参考文献 142 ='/#G0W 8 典型的镀膜实例 143 {=^<yK2q 8.1 单层抗反射薄膜 145 CZv^,O(M?2 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 p{V(! v| 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 [di&N!Ao 8.4 W-膜层 148 o5z&sRZ 8.5 V-膜层 149 s;[64ca]Q 8.6 V-膜层高折射基底 150 :d~&Dt<c 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 w/0;N`YB 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 A.P*@}9 8.9 四层抗反射薄膜 153 d/?0xL W 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 Yj>\WH 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 G|$n,X1O( 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 T6,6lll 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 J:;nN-\j 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 \cAifU 8.15十五层宽带抗反射膜 159 1$c[G}h 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 0?g& | |