OptiBPM:创建一个简单的多模干涉(MMI)耦合器
主要用于介绍如何在OptiBPM中创建一个简单的多模干涉耦合器,主要步骤如下: #8XL
:I • 定义MMI耦合器的材料; ][&9]omB • 定义布局设定; ~P.I< • 创建一个MMI耦合器; r;&>iX4B • 插入输入面; lpB3&H8& • 运行模拟; K`g7$r)U[ • 在OptiBPM_Analyzer中预览模拟结果。 BlA[ T% 0Ua%DyJ 1. 定义MMI耦合器的材料 )e|=mtp 为了定义MMI耦合器的材料,需要进行如下操作: hk[
%a$Y 1) 通过File-New打开“初始性能对话框(Initial Properties)“ vBcq_sbo 图1.初始性能对话框 yQNV@T<o 9(4&KZpK 2) 点击图1中的“轮廓和材料(Profiles And Materials)”以激活“轮廓设计窗口(Profile Designer)” u #w29Pm 图2.轮廓设计窗口 Az;t" f+_h !j 3) 右键单击图2中材料(Materials)标签下的“电介质(Dielectric)“,选择New以激活电介质材料创建窗口 #OO>rm$ g%[c<l9 图3.电介质材料创建窗口 Gf EX> Om;&_!i 4) 在图3中窗口创建第一种电解质材料: 4JGtI*%5lq − Name : Guide TS2ZF{m − Refractive Index (Re) : 3.3 `-h8vj5uG − 点击“Store”以保存创建的第一种电解质材料并关闭窗口 0'YG6(h 图4.创建Guide材料 -i yyn^| ?iI4x%y 5) 重复步骤3)和4),创建第二种电解质材料: !8NC# s − Name : Cladding +ZM)bbB − Refractive Index (Re) : 3.27 VXLT^iX − 点击“Store”以保存创建的第一种电解质材料并关闭窗口 %h?x!,q
Y 图5.左图为创建Cladding材料,右图为材料创建成功后电解质材料标签下的显示 :L44]K5FL fC,:{} 6) 双击Profiles标签下的Channel-Channel1,进入通道编辑窗口,构建通道: T&4qw(\G − Name : Guide_Channel [Zei0O − 2D profile definition: Guide [I!6PGx − 点击“Store”保存创建的通道并关闭通道编辑窗口,关闭Profile Designer窗口 =U%Rvm 图6.构建通道 ?=m?jNa;nC 2. 定义布局设定 WmY`` 为了定义布局设定,需要在“初始性能对话框(Initial Properties)”窗口进行以下操作: AP77a*@8 1) 点击“默认波导(Default Waveguide)”标签 R}^~^# − Width:2.8 Lzu.)C@Amx 注意:所有的波导将会使用此设定以作为默认厚度 s<qe,'Y − Profile:Channel-Guide $,+O9Et &e6CJ
图7.默认波导标签下“Width”以及“Profile”设置 b2b^1{@h;v 2) 切换到“晶圆尺寸(Wafer Dimension)”标签: P:30L'.=[ − Length:5300− Width:60 1$M@]7e+!+ TT=b79k 图8.设置晶圆尺寸 *%{gYpn 3) 切换到“2D晶圆属性(2D Wafer Properties)”标签:− Material:Cladding Oo"^%F~% − 点击OK以激活布局窗口 }:X*7 n(&
图9.晶圆材料设置
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,4]VE 4) 布局窗口 &boOtl^
N"nd*? 图10.默认情况下布局窗口显示 o.0ci+z@ 5) 调整显示比率,以便更好进行波导结构布局设置:− View-Layout Options以激活布局设置选项窗口 -FU}pz/ − Display ratio : Z=40,点击OK,如图11所示− 调整缩放比率为0.6 ,最终布局显示如图12所示 Re P|UH ne4Q#P 图11.调整Z方向和X方向的显示比率 dZi"$ g Y.g59X!Ub2 图12.最终布局显示 kS bu]AB 3. 创建一个MMI耦合器 为了构建一个MMI耦合器,需要进入如下操作: q
Y#n'& 1) 在“绘图(Draw)”菜单下选择“线性波导(Linear Waveguide)”或者在波导栏 下选择线性波导2) 当鼠标指针变为十字叉时,点击布局窗口左侧,并向右侧拖拽波导后松开鼠标,以生成第一个线性波导 S H! 0NS<?p~_S 图13 .绘制第一个线性波动 bbrXgQ`s+w -$\+'
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