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infotek 2022-09-26 08:54

通过高NA浸没显微镜进行聚焦

X+1Mv  
在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 zO`4W!x&  
V&*|%,q   
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场景 Y-UXr8  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 FsO_|r  
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系统构建块 ;j.-6#n  
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组件求解器 tr5j<O  
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系统构建块 LSo*JO6  
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9: .m]QN  
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总结 [GPCd@  
Y)@Y$_  
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     T/A2Y+@N;  
几何光学仿真 _p>F43%p  
    通过光线追迹 IU<lF)PF$  
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结果:光线追迹 ufCpX>lNF  
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快速物理光学仿真 ;>>n#8`  
    通过场追迹  =n5n  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 AT)b/ycC  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 ?m5E Xe  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 6_<~]W&  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 5@%.wb4  
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总结 L-}J=n\  
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