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《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)
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infotek
2022-09-06 08:45
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)
G2wSd'n*y
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内容简介
sYXLVJ>b
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。
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《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
$> QJ%v9+
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
bz nMD
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
{f4jE#a>v
aU.3
目录
[AFR \{
Preface 1
Adiw@q1&
内容简介 2
k}g4?
目录 i
NKFeND
1 引言 1
3'L =S
2 光学薄膜基础 2
$ZyOBxI
2.1 一般规则 2
6rE8P#
2.2 正交入射规则 3
:yJ#yad
2.3 斜入射规则 6
l=P)$O|=w
2.4 精确计算 7
3%9XJ]Qao
2.5 相干性 8
u{uqK7]+
2.6 参考文献 10
^"lEa-g&
3 Essential Macleod的快速预览 10
ZZkc) @
4 Essential Macleod的特点 32
J(]b1e
4.1 容量和局限性 33
)Dhx6xM[a
4.2 程序在哪里? 33
Qo3Enwap=
4.3 数据文件 35
-XnIDXM
4.4 设计规则 35
8H};pu2
4.5 材料数据库和资料库 37
f\$_^dV
4.5.1材料损失 38
+pK 35u
4.5.1材料数据库和导入材料 39
5>S1lyam
4.5.2 材料库 41
-8"K|ev
4.5.3导出材料数据 43
b~<V}tJ
4.6 常用单位 43
"usPzp5
4.7 插值和外推法 46
ib> ~3s;
4.8 材料数据的平滑 50
H0B=X l[
4.9 更多光学常数模型 54
(O!CHN!:
4.10 文档的一般编辑规则 55
x5g&?2[
4.11 撤销和重做 56
\L?A4Qx)_
4.12 设计文档 57
(8ct'Q ;
4.10.1 公式 58
k&[6Ld0~56
4.10.2 更多关于膜层厚度 59
0RSzDgX
4.10.3 沉积密度 59
ryzNM3
4.10.4 平行和楔形介质 60
.*"KCQGOgM
4.10.5 渐变折射率和散射层 60
v`Y{.>[H[
4.10.4 性能 61
_@)-#7
4.10.5 保存设计和性能 64
@R;k@b
4.10.6 默认设计 64
/9SoVU8
4.11 图表 64
l%0-W
4.11.1 合并曲线图 67
Ke#Rkt
4.11.2 自适应绘制 68
=_N$0
4.11.3 动态绘图 68
pIpdVKen
4.11.4 3D绘图 69
EcytNYn
4.12 导入和导出 73
S1~EJa5H
4.12.1 剪贴板 73
)B+zv,#q
4.12.2 不通过剪贴板导入 76
CO,{/
4.12.3 不通过剪贴板导出 76
e1V1Ae
4.13 背景 77
NTK9`#SA
4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
f#I#24)RH
4.15 生成Rugate 84
`25<;@
4.16 参考文献 91
%<O~eXY
5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
|eye) E:
5.1 Jobs 92
5mL4Zq"
5.2 创建一个新Job(工作) 93
(*vBpJyz%
5.3 输入材料 94
:T@} CJ
5.4 设计数据文件夹 95
F4V) 0)G
5.5 默认设计 95
]sP
6 细化和合成 97
%ib7)8Ki0
6.1 优化介绍 97
XN\rq=
6.2 细化 (Refinement) 98
FH%:NO
6.3 合成 (Synthesis) 100
XXwo(trs~=
6.4 目标和评价函数 101
{{pN7Z
6.4.1 目标输入 102
;1_3E2E$
6.4.2 目标 103
t1yfSStp
6.4.3 特殊的评价函数 104
nsq7dhq
6.5 层锁定和连接 104
V+U89j1g
6.6 细化技术 104
k%sxA
6.6.1 单纯形 105
ApggTzh@
6.6.1.1 单纯形参数 106
,j(E>g3
6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
Ck m:;q
6.6.2.1 Optimac参数 108
{7$jwk
6.6.3 模拟退火算法 109
g{>0Pa1?C
6.6.3.1 模拟退火参数 109
oRg,oy
6.6.4 共轭梯度 111
,5T1QWn^f
6.6.4.1 共轭梯度参数 111
.>}Z3jUrf
6.6.5 拟牛顿法 112
Be\@n xV[
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
;V f{3
6.6.6 针合成 113
`q | )_
6.6.6.1 针合成参数 114
fceO|mSz_
6.6.7 差分进化 114
MlS5/9m@^
6.6.8非局部细化 115
3-Xd9ou
6.6.8.1非局部细化参数 115
W|sU[dxZ
6.7 我应该使用哪种技术? 116
4Xwb`?}-
6.7.1 细化 116
/Q89 y[
6.7.2 合成 117
7dE.\#6r
6.8 参考文献 117
DV>;sCMJ %
7 导纳图及其他工具 118
f+)LVT8p
7.1 简介 118
(KPD`l8.
7.2 薄膜作为导纳的变换 118
=CdrhP_
7.2.1 四分之一波长规则 119
jlqSw4_
7.2.2 导纳图 120
|-cXb.M[
7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
mxpw4
7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125
7@k3-?q
7.5 斜入射导纳图 141
!4Sd ^"
7.6 对称周期 141
H,7!"!?@N
7.7 参考文献 142
s bR*[2
8 典型的镀膜实例 143
im)r4={ 9
8.1 单层抗反射薄膜 145
udc9KuR@
8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146
)7#3n(_np
8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147
'0o^T 7C
8.4 W-膜层 148
cT&lkS
8.5 V-膜层 149
YuJ{@"H
8.6 V-膜层高折射基底 150
,Qo:]Mj
8.7 V-膜层高折射率基底b 151
n\BV*AH
8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152
6p3cMJ'8y
8.9 四层抗反射薄膜 153
,":_CY4(
8.10 Reichert抗反射薄膜 154
*xj2Z,u
8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155
uz20pun4B
8.12 六层宽带抗反射薄膜 156
T#I}w\XlhP
8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157
<y7Hy&&y-
8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158
,K30.E
8.15十五层宽带抗反射膜 159
4v{Ye,2
8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161
(Gapv9R
8.17 1/4波长堆栈 162
\CS4aIp
8.18 陷波滤波器 163
*%atE
8.19 厚度调制陷波滤波器 164
7xWJw
8.20 褶皱 165
e5;YY
8.21 消偏振分光器1 169
y4=T0[ V
8.22 消偏振分光器2 171
Q]RE,ZZ
8.23 消偏振立体分光器 172
5'w&M{{9
8.24 消偏振截止滤光片 173
VyNU<}
8.25 立体偏振分束器1 174
(hKjr1s
8.26 立方偏振分束器2 177
1g$xKe~]4
8.27 相位延迟器 178
u{D]Kc?n
8.28 红外截止器 179
Zz'g&ew