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2022-05-26 09:28 |
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)
l{ja2brX 内容简介 a~E@scD Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 4$.$j=Ct." 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 Z&9MtpC+N3 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ]Ir{9EE
v 此书也是Macleod先生生前的最后一部作品,非常有纪念收藏价值!有兴趣的可以联系我[attachment=112621] 'RK.w^
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L[o;@+32 目录 I[,tf! Preface 1 BH6)`0&2*N 内容简介 2 3fPd|F.kF 目录 i ya7PF~:E- 1 引言 1 BK`NPC$a 2 光学薄膜基础 2 FeOo;|a 2.1 一般规则 2 \JmfQrBQ 2.2 正交入射规则 3 IX@g].)C 2.3 斜入射规则 6 mOgsO
2.4 精确计算 7 D#Qfa!=g 2.5 相干性 8 `2N&{( 2.6 参考文献 10 kHLpa/A 3 Essential Macleod的快速预览 10 nF$n[: 4 Essential Macleod的特点 32 ;^+# 4.1 容量和局限性 33 0qP&hybL[( 4.2 程序在哪里? 33 f}{ lRk 4.3 数据文件 35 > SRUC 4.4 设计规则 35 k\->uSU9 4.5 材料数据库和资料库 37 4Ufx,] 4.5.1材料损失 38 GZJIIP# 4.5.1材料数据库和导入材料 39 -+MGs]), 4.5.2 材料库 41 qYpuo
D 4.5.3导出材料数据 43 [O~'\Q 4.6 常用单位 43 GjTj..G/ 4.7 插值和外推法 46 }xhat,9 4.8 材料数据的平滑 50 bz5",8Mn 4.9 更多光学常数模型 54 +LBDn"5 4.10 文档的一般编辑规则 55 eyq\a'tyB 4.11 撤销和重做 56 '2)c;/-E 4.12 设计文档 57 %f??O|O3 4.10.1 公式 58 F>N3GPRl 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 xX;@
BS 4.10.3 沉积密度 59 i>=d7'oR 4.10.4 平行和楔形介质 60 Ce&nMgd~ 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 5gP<+S#>T 4.10.4 性能 61 @L?X}'0xI4 4.10.5 保存设计和性能 64 ^Ej4^d 4.10.6 默认设计 64 w\(LG_n| 4.11 图表 64 tF:'Y ~3 p 4.11.1 合并曲线图 67 $BIQ#T>qK 4.11.2 自适应绘制 68 \1`L-lz 4.11.3 动态绘图 68 n0nf;E 4.11.4 3D绘图 69 F\pw0^K;N 4.12 导入和导出 73 1X-Ku GaD 4.12.1 剪贴板 73 *qx<bY@F 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 gkxEy5c[ 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 >| d^ 4.13 背景 77 ZHPsGHA 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 agQ5%t# 4.15 生成Rugate 84 }qf9ra 4.16 参考文献 91 $^&SEz 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 'Na \9b( 5.1 Jobs 92 'vgO` 5.2 创建一个新Job(工作) 93 OBF3)L] 5.3 输入材料 94 C):RE<X 5.4 设计数据文件夹 95 >;E[XG^ 5.5 默认设计 95 :V)W?~Z7B 6 细化和合成 97 #3uBq(-Z 6.1 优化介绍 97 8mjP2 6.2 细化 (Refinement) 98
Dq T)%a 6.3 合成 (Synthesis) 100 = mnjIp 6.4 目标和评价函数 101 bYzBe\^3q3 6.4.1 目标输入 102 7e,<$PH 6.4.2 目标 103 m7:E73: 6.4.3 特殊的评价函数 104 zs +[Aco) 6.5 层锁定和连接 104 ^iaeY
jI 6.6 细化技术 104 DNgQ.lV 6.6.1 单纯形 105 3YY<2< 6.6.1.1 单纯形参数 106 !U02>X 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 )B d`N^k+ 6.6.2.1 Optimac参数 108 ,v"/3Ff{, 6.6.3 模拟退火算法 109 wu*WA;FnA 6.6.3.1 模拟退火参数 109 3t(8uG<rL 6.6.4 共轭梯度 111 5io7!% 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 C,C=W]G 6.6.5 拟牛顿法 112 eO,
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 ~"l
a2 6.6.6 针合成 113 h6*=Fn7C 6.6.6.1 针合成参数 114 {$iJYS\ 6.6.7 差分进化 114 M
mg#Vy~ 6.6.8非局部细化 115 Df_W>QC 6.6.8.1非局部细化参数 115 Isq3YY 6.7 我应该使用哪种技术? 116 {GF>HHQb 6.7.1 细化 116 0/.#V*KM 6.7.2 合成 117 }9C5U>? 6.8 参考文献 117 [7Nn%eZC
7 导纳图及其他工具 118 ;F&wGe 7.1 简介 118 ~L(_q] 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 uTJi }4cw 7.2.1 四分之一波长规则 119 UT[9ERS 7.2.2 导纳图 120 3)f=Z2U> 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 XEqg%f 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 }iy`Ko+B"b 7.5 斜入射导纳图 141 .}fc*2.' 7.6 对称周期 141 *D1fSu! 7.7 参考文献 142 }nE#0n 8 典型的镀膜实例 143 AK<ZP?0 8.1 单层抗反射薄膜 145 ~H0~5v F 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 3&*0n^g 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 &Q | |