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ueotek 2022-02-18 10:49

光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 zEFS\nP}E  
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培训大纲 ?)-6~p 4N  
L0"|4=  
01 OpticStudio 软件功能介绍; *|Vf1R]  
02 材料库、镜头库介绍； Uo >aQk  
03 如何定义新材料； _aevaWtEx  
04 如何使用镜头库；		 3S3(Gl  
23 柯勒照明综合设计实例； _ +DL   
24 投影系统设计 ]0*aE  
25 集光系统设计； Axsezr/  
={%'tv`  
26 暗盒系统介绍；
56z>/`=  
05 像差理论介绍； kMCP .D45;  
06 Zemax 里像差分析图谱； Zq 85q  
07 优化; B za<.E=  
08 局部优化		 R 9` [C  
27 分析工具应用； d[9{&YnH !  
28 寻找最佳非球面 &Tt7VYJfIV  
29 曲率套样板； GKIzU^f  
,5 ka{Q`K  
30 镜头匹配工具；
pYQSn.`V~  
09 全局优化； Gt#r$.]W?o  
10 锤形优化； b5)^g+8)w  
11 优化函数架构技巧； K9EHT-  
12 单透镜优化实例		 N62;@Z\7  
31 Zemax 公差分析功能介绍; n{!{,s  
32 加工误差、装配误差； a%Q`R;W  
33 灵敏度分析; S.`y%t.GP  
34 反灵敏度分析;
"'[M~Js  
13 双胶合优化实例； E7/UsUV.  
14 热分析及衍射光学元件的使用; :ir#7/  
15 实例设计及分析； `3\U9ZH23  
16 MTF		 C`[2B0  
35 蒙特卡罗分析; Ld*Ds!*'/  
5z0Sns  
36 公差评价标准； hx0t!k(3  
37 公差操作数； f?. VVlD  
38 补偿变量的使用；
Xw9]WJc  
17 双高斯镜头设计及优化； 8J'5%$3u  
18 像质评价与图像模拟； ra*|HcLD  
19 坐标变换； 1R8tR#l  
20 坐标断点面的使用技巧		 dY}5Kmt  
39 单透镜公差分析； A x8>  
0J'^<G TL  
40 库克镜头公差分析； ?<t?G  
41 分析报告查看说明； 5/P. 4<c7  
42 公差脚本的使用；
]~]TZb  
21 序列模式棱镜建模； F'[Y.tA ,#  
#9TL5-1y  
22 扫描反射镜设计实例；		 L;:PeYPL  
43 镜头出图、CAD 出图； S*G^U1Sc+  
44 小结及答疑
x~}&t+FK  
^Ak?2,xB#+  
培训信息 uq]=L  
  • k:?)0Uh%^  
    主办单位：武汉宇熠科技有限公司
  • < !m.+  
    培训主题：Zemax 成像设计
  • v+x<X5u  
    培训形式：线上培训
  • ]Y]]X[@  
    培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
  • t }4  
    培训费用：￥ 1980元 / 人
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三人及以上组团报名可享八折优惠
  • q'S[TFMNE  
    报名方式：扫码报名
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电话：027-87878386
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【备注】 tF,`v{-up  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。
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