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ueotek 2022-02-18 10:49

光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 n`#tKwWHYx  
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培训大纲 RiDJ> 6S  
@@R7p  
01 OpticStudio 软件功能介绍; Xnt~]k\"  
02 材料库、镜头库介绍； = I:.X ;  
03 如何定义新材料； s]HOGJJz  
04 如何使用镜头库；		 C uFSeRe  
23 柯勒照明综合设计实例； @3) (BpFe  
24 投影系统设计 {:Orn%Q  
25 集光系统设计； M\o9I  
O9G[j=U  
26 暗盒系统介绍；
ynq}76 H0k  
05 像差理论介绍； Bc(Y(X$PK  
06 Zemax 里像差分析图谱； 1ct;A_48  
07 优化; ),0g~'I~D  
08 局部优化		 3-[q4R  
27 分析工具应用； zZ7;jyD  
28 寻找最佳非球面 B~6&{7 xc%  
29 曲率套样板； rNrxaRQ  
?Y$JWEPJ  
30 镜头匹配工具；
Nkjza:f{  
09 全局优化； xqeyD*s  
10 锤形优化； VQ(jpns5  
11 优化函数架构技巧； IshKH -  
12 单透镜优化实例		 ,$@bE  
31 Zemax 公差分析功能介绍; )mg:_K  
32 加工误差、装配误差； dz:E?  
33 灵敏度分析; h`]Iy  
34 反灵敏度分析;
xR-%L  
13 双胶合优化实例； !`k1:@NZ  
14 热分析及衍射光学元件的使用; oL!EYbFD'Z  
15 实例设计及分析； .~)q};Z  
16 MTF		 9{'N{  
35 蒙特卡罗分析; R] vV*  
@fHi\W2JG  
36 公差评价标准； &4{KV.  
37 公差操作数； iNWw;_|1  
38 补偿变量的使用；
c' ^?/$H|  
17 双高斯镜头设计及优化； fX(3H1$"  
18 像质评价与图像模拟； ({ 8-*  
19 坐标变换； %<)2/|lCd  
20 坐标断点面的使用技巧		 z#zI1Am(O  
39 单透镜公差分析； bZ?v-fn\D,  
A^nvp!_  
40 库克镜头公差分析； ?[VM6- &  
41 分析报告查看说明； . S!mf  
42 公差脚本的使用；
?274uAO'  
21 序列模式棱镜建模； +dWDxguE{w  
J; 3{3  
22 扫描反射镜设计实例；		 ]S&&|Fc  
43 镜头出图、CAD 出图； ."TxX.&HE  
44 小结及答疑
8{|8G-Mi  
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培训信息 dWM'fg  
  • h(<,fg1  
    主办单位：武汉宇熠科技有限公司
  • i#&z2h-b  
    培训主题：Zemax 成像设计
  •  H_B4  
    培训形式：线上培训
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    培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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    培训费用：￥ 1980元 / 人
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三人及以上组团报名可享八折优惠
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    报名方式：扫码报名
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电话：027-87878386
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【备注】 %OtFHhb  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。
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