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ueotek 2022-02-18 10:49

光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 O]t\B *%}  
H#+\nT2m  
培训大纲 fO6[!M(  
Gu5~ DyT`G  
01 OpticStudio 软件功能介绍; ,I ZqLA  
02 材料库、镜头库介绍； 0x\2 #i  
03 如何定义新材料； cA<<& C  
04 如何使用镜头库；		 $`pd|K`  
23 柯勒照明综合设计实例； \SOeTn+  
24 投影系统设计 kQLT$8io  
25 集光系统设计； $0#6"urG  
(VyA6a8  
26 暗盒系统介绍；
UgR :qjI  
05 像差理论介绍； R"Kz!NTB  
06 Zemax 里像差分析图谱； 3E,DipHg  
07 优化; J@QdieW6  
08 局部优化		 fYB*6Xb,w  
27 分析工具应用； Cc!J1)  
28 寻找最佳非球面 8.yCA  
29 曲率套样板； X]!D;7^  
W .U+.hR  
30 镜头匹配工具；
}%$OU =T  
09 全局优化； O=aw^|oj]  
10 锤形优化；  it)ZP H  
11 优化函数架构技巧； )7dEi+v52  
12 单透镜优化实例		 ?eV_ACpZ8  
31 Zemax 公差分析功能介绍; Umz05*  
32 加工误差、装配误差； p>q&&;fe  
33 灵敏度分析; GF'f[F6oI  
34 反灵敏度分析;
]v\^&7pW  
13 双胶合优化实例； X FQNr`  
14 热分析及衍射光学元件的使用; H -,TS^W  
15 实例设计及分析； )t%h[0{{  
16 MTF		 @r<b:?u  
35 蒙特卡罗分析; $3k "WlRG  
:3^dF}>  
36 公差评价标准； d; =u  
37 公差操作数； Efx=T$%^&  
38 补偿变量的使用；
9 Kbw GmSU  
17 双高斯镜头设计及优化； w{`Acu  
18 像质评价与图像模拟； a8Uk[^5  
19 坐标变换； z]=8eV\  
20 坐标断点面的使用技巧		 BSgTde|3y  
39 单透镜公差分析； vd (?$  
?YBaO,G9o  
40 库克镜头公差分析； X?/Lz;,&  
41 分析报告查看说明； vk'rA{x  
42 公差脚本的使用；
L^FcS\r;  
21 序列模式棱镜建模；  ?Vc0)  
^=+e?F`:{  
22 扫描反射镜设计实例；		 g1{/ 5{XI  
43 镜头出图、CAD 出图； "|t!7hC  
44 小结及答疑
G;s"h%Xw98  
=K(JqSw+M  
培训信息 #{*LvI&  
  • ?3q@f\fZ  
    主办单位：武汉宇熠科技有限公司
  • 3v1 7"  
    培训主题：Zemax 成像设计
  • I^_NC&m  
    培训形式：线上培训
  • ,Dp0fauJ  
    培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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    培训费用：￥ 1980元 / 人
9S>g6}[E#0  
三人及以上组团报名可享八折优惠
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    报名方式：扫码报名
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电话：027-87878386
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【备注】 2*2:-o cl$  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。
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