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ueotek 2022-02-18 10:49

光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 |Z +=  
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培训大纲 P\k# >}}  
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01 OpticStudio 软件功能介绍; 0flRh)[J  
02 材料库、镜头库介绍； $*fMR,~t&  
03 如何定义新材料； s!$7(Q86R  
04 如何使用镜头库；		 20Wg=p9L  
23 柯勒照明综合设计实例； ^k9I(f^c-_  
24 投影系统设计 p0vVkdd  
25 集光系统设计； eehb1L2(b  
{R6ZKB  
26 暗盒系统介绍；
97!;.f-  
05 像差理论介绍； /IMFO:c  
06 Zemax 里像差分析图谱； _I5Y"o  
07 优化; pFjK}J OF  
08 局部优化		 E r?&Y,o  
27 分析工具应用； ?&1!vz  
28 寻找最佳非球面 6T`i/".  
29 曲率套样板； c{w2Gt!  
h@ry y\9  
30 镜头匹配工具；
P5 ywhw-  
09 全局优化； S30%)<W  
10 锤形优化； l,5+@i`5i  
11 优化函数架构技巧； t"oeQ*d%  
12 单透镜优化实例		 _X x/(.O  
31 Zemax 公差分析功能介绍; hp|YE'uYT  
32 加工误差、装配误差； `VguQl_,gA  
33 灵敏度分析; *\F~[  
34 反灵敏度分析;
?4T-@~~*`=  
13 双胶合优化实例； ' S/gmn  
14 热分析及衍射光学元件的使用; ey$&;1x#5  
15 实例设计及分析； \qJXF|z<K  
16 MTF		 G]&qx`TBK  
35 蒙特卡罗分析; 7 HYwLG:\~  
uQKT  
36 公差评价标准； bV3|6]k^  
37 公差操作数； S3Jo>jXS "  
38 补偿变量的使用；
b@hqz!)l`  
17 双高斯镜头设计及优化； SXP]%{@ R/  
18 像质评价与图像模拟； :gFx{*xN/9  
19 坐标变换； A|{(/G2*  
20 坐标断点面的使用技巧		 ]3Sp W{=^(  
39 单透镜公差分析； inp7K41  
I{=Qtnlb  
40 库克镜头公差分析；  o-B$J?  
41 分析报告查看说明； &mS^ZyG  
42 公差脚本的使用；
~})e?q;b  
21 序列模式棱镜建模； 5*u+q2\F  
\1M4Dl5!  
22 扫描反射镜设计实例；		 QQc -Ya!v  
43 镜头出图、CAD 出图； ) ;Y;Q  
44 小结及答疑
O+x!Bg7   
+] {G@pn  
培训信息 >Y@H4LF;1x  
  • h^P#{W!e\  
    主办单位：武汉宇熠科技有限公司
  • tw)mepwB  
    培训主题：Zemax 成像设计
  • }3WxZv]I}  
    培训形式：线上培训
  • LCV(,lu  
    培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
  • m+z& Q  
    培训费用：￥ 1980元 / 人
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三人及以上组团报名可享八折优惠
  • WcbiqxK7-  
    报名方式：扫码报名
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电话：027-87878386
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【备注】 SOaoo^,O  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。
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