| infotek |
2021-12-30 09:21 |
TRCX:掺杂过程分析
在 LTPS 制造过程中,使用自对准掩模通过离子注入来金属化有源层。当通过 TRCX 计算电容时,应用与实际工艺相同的原理。工程师可以根据真实的 3D 结构提取准确的电容,并分析有源层离子注入前后的电位分布,如下图所示。 ; Q-f6)+& [attachment=110231] _Qy3A T~ `O-LM e E"ju<q/Q 3Lxk7D>0c @PXb^x#k (a)FIB L lP [attachment=110232] E$z)$`"1 %G%##wv:
(b) 掺杂前后对比 )PC(1Zn
|
|