| infotek |
2021-12-30 09:21 |
TRCX:掺杂过程分析
在 LTPS 制造过程中,使用自对准掩模通过离子注入来金属化有源层。当通过 TRCX 计算电容时,应用与实际工艺相同的原理。工程师可以根据真实的 3D 结构提取准确的电容,并分析有源层离子注入前后的电位分布,如下图所示。 )r:gDd#/X [attachment=110231] R ;3!?` 1Et{lrgh
f q%8Ck)xz TDHS/"MbA7 !9. `zW"40 (a)FIB z]R)Bh [attachment=110232] NIxtT>[+3 /3CdP'c
(b) 掺杂前后对比 $C9['GGR
|
|