5 %Gf?LyO 空间光调制器(SLM.0002 v1.1) F?B=:8,} i`qh|w/b_ 应用示例简述 Q)>'fZ) ZTZE_[ 1. 系统细节 n&]w* (, 光源 fm0( — 高斯光束 %u}sVRJ 组件 ;Y\,2b, xh — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 0^[6 探测器 ;[9Is\ — 视觉感知的仿真 m##=iB|; — 电磁场分布 sXxO{aeev 建模/设计 |xm|Q(PG — 场追迹: iE(grI3 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 rRYf.~UH@P t^hkGYj!2 2. 系统说明 SO/]d70HG 4&D="GA 1tW:(~=a; 3. 模拟 & 设计结果 $Stu-l1e a sLIP|i 4. 总结 -e>)yM `i s`RJl V 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 }c%y0)fL W<"\hQI 第1步 *\", qMp 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 e%6{P 99K+7G\{ 第2步 R:N-y."La. 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 _+iz?|U <>s\tJ 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 HU9y{H 6l'y 应用示例详细内容 (+dRD]|T
@U@ yIv 系统参数 >N-% mC92J@m/L! 1. 该应用实例的内容 QaR.8/xV 0(x@
NGb>{ "~C#DZwt{ 2. 设计&仿真任务 rrYp^xLa` :'~ gLW>j 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 3:lp"C51 nD\os[ 3 3. 参数:输入近乎平行的激光束 tYZGf xj %PbqASm ]xEE7H]\h 4. 参数:SLM像素阵列 ^1=|(Z/ ZGhoV#T@ 4&hqeY3 5. 参数:SLM像素阵列 }c ;um )Cvzj<Q0 Ba|}C(Ws? 应用示例详细内容 9t.yP;j\Y 8p{ 仿真&结果 #l# [\6 /? 1Yf 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM -Jo :+]. 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 t<,p-TM] 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 2Q|*xd4B^ )=nPM`Jn. 2. VirtualLab的SLM模块 w*%$
lhp! e uHu} GY]6#>D#7 为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 DN':-PK 必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 YzW7;U
S 5|G3t`$pa 3. SLM的光学功能 nvo1+W(% p6*a1^lU6 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。
%%cSvPcz 为此,将区域填充因子设置为60%。 'O2#1SWe 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 PJ'lZu8?x tW"ptU^9) 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd ([dL:Fb w<>6>w@GZ 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 tr9Y1vxo{ y{Y+2}Dv/ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd _JJKbi I5yd )72 4. 对比:光栅的光学功能 s/vOxGc 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 R|J>8AL}BY 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 e$+f~~K 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 fMEv85@JL 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 w[7.@ %^[ 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 3p
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5A- 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd (<R\ W;oU +z^t$ 5. 有间隔SLM的光学功能 pebx#}]p- 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 *tfDXQ^mN T~~[a|bLa 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd 1;:t~Y |8qK%n f} 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 M|5]#2J_2 m7wc)"`t {_toh/8)r 6. 减少计算工作量 +V);'"L .1}rzh}8 R-A'v&= 采样要求: |Iok(0V 至少1个点的间隔(每边)。 L>~@9a\jO 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 '6.>Wdd *0&4mi8 采样要求: h%1~v$W` 同样,至少1个点的间隔。 ]o[X+;Tj| 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 eC^0I78x 随填充因子的增大,采样迅速增加。 8>VI$
SGBVR ^ 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 [}p 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 hVipr hC 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 N(_
.N6 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 Q k;Kn cbh#E)[' 9QOr,~~s 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。 AFINm%\/0 l~fh_IV1 7. 指定区域填充因子的仿真 esh$*)1 zr3q>]oma 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 k_K,J6_) 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 ovQS
ET18b 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 ~}$\B^z+ 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 9Q C"Od9H |C$:]MZx dXhCyr%"6 8. 总结 1#>&p%P! 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 N#RD:"RS! 9raHSzK@d 第1步 ^o $W 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 $ DDSN d s|8lz, 第2步 ~A[YnJYA# 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 FX|0R#4vm 扩展阅读 P[rAJJN/E 扩展阅读 Pn'`Q S? 开始视频 /'&.aGW4% - 光路图介绍 9Eq^B9( 该应用示例相关文件: qa
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