5X'com?T 空间光调制器(SLM.0002 v1.1) pKM5<1J CLU[')H0 应用示例简述 !{L6
4qI lYz$~/sd 1. 系统细节 NyJ=^=F# 光源 >;ucwLi — 高斯光束 j+p=ik 组件 XP$ 1CWI — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 nvyyV\w 探测器 0k];%HV| — 视觉感知的仿真 @+S5"W — 电磁场分布 8+b ?/Rn0 建模/设计 <^Hh5kfS' — 场追迹: h2Pvj37 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 dB^')-wA p4|Zz:f 2. 系统说明 Ux2pqPb "I|[m%\ 3j2% '$>E^ 3. 模拟 & 设计结果 wN])"bmB U
=()T}b> 4. 总结 0CYm%p8! D/jS4'$vA 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 z]NN ^pIa "~f=7
第1步 }b#KV?xgW 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 =;1MpD XZaei\rUn) 第2步 Ef;OrE"" 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 GlDl0P,*r 7[l
"= 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 kCRP?sj nl 7=Nhh 应用示例详细内容 >Ic)RPO9 ;UU+:~ 系统参数 N[~"X**x +yq Z\$ii 1. 该应用实例的内容 crJyk #_ 6 ]@H .8+ ~CQYF,[Th 2. 设计&仿真任务 H1,;Xrm K"cN`Kj<*- 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 J`ia6fy.I =NH
p%| 3. 参数:输入近乎平行的激光束 ( _ZOUMe zL@ZNH [T;0vv8 4. 参数:SLM像素阵列 (R*K)(Nw[ r@3VN~ zY<=r.m4 5. 参数:SLM像素阵列 Ojx1IL +h6cAqm] |wKC9 O@% 应用示例详细内容 ,y[wS5li :QnN7&j|(w 仿真&结果 {XMF26C# kzhncku 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM z?HP%g'M~ 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 K .cMuh 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 [s-Km/ !"2nL%PW~ 2. VirtualLab的SLM模块 ZM/*cA!" _2V L% V:rq}F} 为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 yz}Agc4.I 必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 zg!;g`Z@S I| qoH N,g 3. SLM的光学功能 wRL=9/5(8 O_#Ag K<A 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 )8ejT6r 为此,将区域填充因子设置为60%。 u@\]r 1 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 [XWY-q#Gg 66x>* 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd 9x/HQ(1 `1F[.DdF 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 >-YPCW agqB#,i 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd ] Cpd`}' "8wRxDr+ 4. 对比:光栅的光学功能 A.<HOx 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 W$7db%qFx 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 xQX,1NbH5 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 @.f@N;z 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 -o<L%Y<n2 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 M7&u_Cn? a;J{'PHu
i$HaE)qZ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd L-\-wXg% 0[@9f1Nk4 5. 有间隔SLM的光学功能 7u]0dHj 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 8;YeEW5 B5>h@p-UV 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd LC/9)Sh_n N!>Gg|@~ 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 |e@9YDZ n*G[ZW*Uc &K5wCNX1 6. 减少计算工作量 jy`jxOoG~Z w*`5b!+/ k;PQVF&E 采样要求: AK\X{>$a! 至少1个点的间隔(每边)。 %pmowo~{ 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 Q6Z%T.1 )=TD}Xb 采样要求: @BWroNg{ 同样,至少1个点的间隔。 qepsR/0M 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 +v:t 随填充因子的增大,采样迅速增加。 Xxcv5.ug ItGi2'} 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 `T2RaWR4= 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 [OBj2= 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 !={Z]J 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 59gt#1k ucQ2/B#'4l M7BCBA 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。 Um9Gjd ,:UoE 7. 指定区域填充因子的仿真 /v"u4Ipj v;"[1w} 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 7ET^,6 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 Wf/Gt\? 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 &gxRw l 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 iLw O4i 2C^/;z M7{w7}B0@ 8. 总结 /gT$ d2{ 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 )K.~A&y@ (y%}].[bB 第1步 <wUDcF 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 b=v z><=F,W 第2步 K.c6n,' 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 22S4q`j 扩展阅读 o@j]yA.5) 扩展阅读 ^c3~CD5H
3 开始视频 :iJ+ImBpK - 光路图介绍 @s RRcP~ 该应用示例相关文件: K5gh7 - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 +@[T0cXp - SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 |