光学薄膜分析与设计软件Essential Macleod
Essential Macleod是一套完整的光学薄膜分析与设计的软件包,它能在任一32位、64位微软窗口环境操作系统下运行(除了Windows RT), 并且具有真正的多文档操作界面;它能满足光学镀膜设计中的各种要求;既可以从头开始设计,也可以优化已有的设计;可以模拟设计生产中的误差,也可以导出薄膜的光学常数,是当今市场上最完善的薄膜设计及分析软件。 (J Fa pCf-W/v 模块:Core模块+5个附加模块 FQi"OZHq
$y=sT({VVe Core模块
3uRnbO- nngL,-v#F Macleod核心模块是软件的最低配置,包含设计编辑器,数据、目标编辑器,输入/输出,材料管理,性能计算,优化和综合,和其它软件或硬件的数据交换,导纳轨迹,电场,辅助设计等,是整个软件包的基本构架。 @N.W#<IG
[attachment=122519] UR-e'Z&] Core模块功能 ZvNXfC3Ia 9>le-}~ 效能计算 Fg4eIE-/M sr#,S(p Essential Macleod 提供了整组完整的效能计算。除了一般反射和透射计算外,也包括沉积密度、吸收,椭圆参数,超快参数 (群组延迟、群组延迟色散、三阶色散)和多光色散,也可以进行色彩计算。公差的计算是分辨设计对微小厚度变化的灵敏度。 J#@" Yb 3v:RLnB 颜色计算 :[(X!eP ..;LU:F 颜色计算包括色度坐标、显色指数、色纯度、主导波长、相对色温。图形包括色度坐标图、色调、用户自定义图。包括CIE 1931 和 1964 配色函数在内的许多标准光源选择是预先定义好的,而用户可以定制你所需要的参数的其它参数。可以根据导入的透射及反射数据计算作为波长函数的颜色参数,也可以作为目标进行优化。 \@OKB<ra ycw'>W3.* 设计和分析工具 _a*Wk ?vf{v 包括导纳图,电场分布,等效折射率,吸收分布,应力,光的散射、特性包络、消偏振边带滤波器设计和诱导透过率。 e5fJN)+a O0b8wpFf 提取工具 1t!Mg{&e[x Q;r 0#" n & k 提取工具提供了由量测测试薄膜的反射、透射频谱数据以决定薄膜或基底n 与k 的方法。 +}4vdi" {br4B7b 反演工程 ~>}BDsM !;CY
@= 主要采用Simplex 局部优化方法,根据已镀膜的设计结构和光谱测试数据(至少一种),来确定其真实膜系结构及其与设计的差别。 `j=CzZ*em? W,Dr2$V 公差 w #(XiH* 3)0*hq&83 Essential Macleod 的公差能力允许你探查设计相对于制造误差的灵敏度,可以比较不同的设计以挑选出最优者。 6xz&Qi7w l`$f@'k 细化与合成 Hg(\EEe <;9vwSH> Essential Macleod提供了6个优化和2个合成工具,膜层可以锁定或关联(膜层关联是更先进的分组形式可以把不连续的膜层关联在一起优化),堆积密度包含在细化工具下的简单下降法里面(可对折射率优化)。优化过程可以加入如选择的膜层的总厚度等不同的限制条件。Optimac和needle Synthesis方法可以优化多层膜,可加入多种材料合成优化。Context允许使用替代材料优化。 _rjCwo\
]g?G0m 图表 ,5r 2!d j?z(fs-
Essential Macleod包括标准图片、动态图(参数的变化效应可立即看到)、三维图。 nsgNIE{>gO k )){1O 导入与导出 &Vgjd> 8-8=
\ 剪贴板支持与其它应用程序的导入与导出数据,还可以导出数据到光学系统软件中如FRED、VirtualLab、Zemax、Code V。 -JwH^*Ad M;Vx[s,#, Runsheet模块 6dq U4 <Bu*: O 这个工具可设计镀膜制程,包含机器配置编辑器以及跑单生成器。 miN(a; Q2P
[attachment=122520] ;oR-\;]/. 机器配置编辑器 PrN?;Z. k,v.U8 机器配置中贮存了特定镀膜机的详细设置,监控系统,入射角,材料,监控芯片,加工因子(包含随光源损耗变化的动态加工因子)。 X#eVw|
[attachment=122521] QT%&vq Runsheet pd X9G V<nzThM\ 使用者可使用跑单生成器对既定的机器配置,进行镀膜设计的监控规划。该工具除了可同时具备光学与晶体监控功能外,还具备诸如动态加工因子和系统带宽等高级特性。 TvdmgVNP
[attachment=122522] @RaMO# •对反射、背向反射和透射监控计算光学信号 ?+Qbr$] •当膜层沉积时,动态加工因子(Dynamic Tooling Factors)可以不同 aUA+% •使用偏移和放大控制可以使信号数据缩小或放大到用户自定义范围 A H#e>kU^ •对每一膜层,监控波长、带宽、监控光谱、晶控或光控都可以用户自定义 ,hOJe=u46 •在镀膜的任何阶段,监控芯片可以更换 Vl9\&EL •多种配套的格式输出 $k!@e M/R •提供图片和表格的监测数据可以输出到用户自定义报告格式 U_I'Nz!^t I|R9@ Simulator模块 #),QWTl3 tU)+q?Mw 对于公差问题, Simulator 通过蒙特卡罗(Monte Carlo)法在实际模型控制过程的扩展来进行解决。通过一个由 Runsheet 创建的控制计划, Simulator 可模拟薄膜淀积控制,引入随机和系统效应,例如信号噪声,加工因子的变动,封装密度误差等等,以及显示这些参数对于镀膜制程的最终模拟结果的效应。 NWNgh/9?
[attachment=122523] @69q// #B Monitorlink模块 m&ZdtB| C8G['aQ Monitorlink提供将Runsheet连结到一个淀积控制器的额外软件。一个独立的程序与控制器直接连接,而且一个 Runsheet 的扩展也赋予其产出和编辑淀积程序的功能。 {h@R\bU VStack 模块 $\P!P. HDy[/7" VStack 是一种计算与优化的工具﹐它也能计算这些系统中斜射光的效应。当光束斜入射时,初始为p- 偏振态的光线最终会以p - 偏振态从系统出射。同理,原本是s - 偏振态光也会以p - 偏振态出射,我们称此为偏振泄漏 (polarization leakage) 现象。VStack 能计算泄漏的大小而且提供泄漏元件的 Delta 值。 s@3!G+ -}
[attachment=122524] <w,aS;v6jp Function模块 o}% DTr0u}m 函数扩展功能无macleod计算中的限制,Function有两个主要工具:第一是简单的宏语言可在软件表格中运行,另一个是强大的Basic脚本语言。 9CL&tpqv
f kF\QO
[ 宏语言可以保存和调用。Operation可以使阵列数据作为变量并可进行所有必要的插值。Operations可以创建黑体辐射光源,对于柯西材料模型可提取n和K数据,很容易的计算如平均或峰值特性等庞大计算量。其简单宏指令中的操作 ( 具有内建的编辑器和语法检查器 ) 能允许一再重复相同的计算。 Bq$bxuhV ,e,fOL v1)jZ.:
[attachment=122525] Fir7z nRW 脚本是比Operations功能强大但更复杂的的脚本编辑。脚本可以调用Macleod作为物的实体,并运行它的命令可以插入到工具栏中,存在两个强大的编辑器,一个是可以使用BASIC脚本编辑器,另一个允许是允许用户与程序包内置的对话框交互的脚本编辑器。 &_-~kU1K^ cxmr|-^
[attachment=122526] ke/o11LP 脚本也兼容OLE 的外部程序如Microsoft Word软件。软件提供了许多预先编辑好的脚本,如创建新的光源,如对不同的模型创建纳米复合材料,如OLED特性计算,膜层表面3维数据收集,非均匀表面效应的计算。 wPG3Ap8L 8"S0E(,mu
[attachment=122527] .Wa6?r<g DWDM Assistant模块 ]7br*t^zv isDr|g$S 在多腔滤波器设计中,特别是针对密集波分复用,用DWDM 助手可以避免单调的重复过程。DWDA Assistant 可自主设计一组多腔滤波片,以满足用户的不同规格,设计结果可以根据一些诸如总厚度、预计淀积时间、扰动特性等等规范排序。 2KPXRK &i!.6M2
[attachment=122528] I/'jRM 通过扰动优化算法,增加只是由1/4 波长厚度的膜层组成的结构,减少通带中的脉动,使DWDM助手中使用的对称周期技术功能增强。一般来说,对给定要求的滤波器,有许多的设计都满足要求,但DWDM 助手可以按评价标准对设计结果进行排列。 |:EUh D%BV83S
[attachment=122529] F!Nx^M1 9vVYZ}HC
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