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infotek 2021-06-04 09:47

通过高NA浸没显微镜进行聚焦

摘要 6R2uWv  
YBvd q1  
在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 :!O><eQw  
vLDi ;  
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场景 Q>=-ext}q  
G3dh M#!  
<HF-2?`  
sJ~P:g  
在VirtualLab Fusion中构建系统 &$#99\ /  
W 2<3C  
系统构建块
JYV\oV{  
v9rVpYc"  
3ji:O T  
OQFi.  8  
组件求解器 H&bh<KPMh  
V#J"c8n  
lw[<STpD;  
=dGKF`tR  
A(+:S"|@  
hVUIBJ/5(-  
系统构建块 2y kCtRe  
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总结 ug#<LO-.Rd  
5UO k)rOf  
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XLb0 9;  
几何光学仿真 e4[) WNR  
通过光线追迹 ZEGd4_ux  
o56kp3b)b  
结果:光线追迹 M#a&\cqC  
yX! #a>d"H  
ezZph"&  
A[H;WKn0  
快速物理光学仿真 3LW[H+k  
通过场追迹 -H\,2FO  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 "EH,J  
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:;4SQN{2 O  
"'A"U  
聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 _tj&Psp  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 wiE]z  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 [6R fS  
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总结 HmV /> 9  
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文件信息 &71e5<(dG  
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QQ:2987619807 sKfXg`0  
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