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infotek 2021-06-04 09:47

通过高NA浸没显微镜进行聚焦

摘要 B{p74 >  
~Yc!~Rz  
在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 @4]{ZUV  
[B+:)i  
Q7i(M >|O  
场景 7 |GSs=  
*z.rOY= 8  
_dmG#_1  
]2 $T 6  
在VirtualLab Fusion中构建系统 Et0)6^-v  
Zxozhmg  
系统构建块
b*/Mco 9O  
_"*s x-  
zx*D)i5-  
e m0 hTxb  
组件求解器 {m@tt{%  
^P*-bV4  
B9%%jEH*  
\Hf/8!q  
7B\Q5fLQ  
Ob}XeN(L3  
系统构建块 Rjv;[  
L ./c#b!{  
`xx3JQv[  
`S.I,<&  
总结 /7fd"U$Lh  
3:xKq4?  
F ^aD#  
gNc;P[  
几何光学仿真 E31Yk D.A  
通过光线追迹 T7Y}v,+-  
w=a$]`  
结果:光线追迹 ST;o^\B  
EU04U  
p \9}}t7n  
6:6A" A  
快速物理光学仿真 < (B|g&A  
通过场追迹 s9OW.i]zX  
xplV6q`  
在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 V|[NL4  
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IV1Y+Z )  
%5DM ew  
聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 cza_LO(  
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Px Gw5:  
6,MQT,F  
在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 <;O^3_'  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 BG= J8  
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总结 Cl-P6NlR".  
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文件信息 +!E9$U>6%  
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