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infotek 2021-06-04 09:47

通过高NA浸没显微镜进行聚焦

摘要 b8h6fB:2  
DcsQ6  
在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 = /kT|  
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场景 ,ik\MSS  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 U(\ ^!S1  
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系统构建块
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组件求解器 *W<|5<<u@  
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k7=mxXF  
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系统构建块 ~c|{PZ9U  
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总结 O^4K o}  
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Am)XbN')1  
+$D~?sk  
几何光学仿真 K Z Q `  
通过光线追迹 "uD^1'IW2  
N}7tjk   
结果:光线追迹 /;xmM 2B'  
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Y?V>%eBu  
快速物理光学仿真 S<DS|qOo  
通过场追迹 r^!P=BS{  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 I~NQt^sg  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 m'ykDK\B  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 3NC-)S  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 Zv)x-48  
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总结 \hFIg3  
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文件信息 9?#L/  
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QQ:2987619807 ::A]p@  
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