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2021-05-06 09:44 |
衍射级次偏振状态的研究
摘要 ]M(f^ h3EDN:FQ 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 _ICDtG^ T:">,*|
j2 ^T:q[ 概述 {\/nUbo[ 6a7iLQA @%nUfG7TQ •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 +fQL~0tA •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 $ F7gH •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 AdW2o|Uap '?gIcWM
)x x/di &]F|U3 衍射级次的效率和偏振 W+
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a<C*o •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 F6c[v|3 •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 p}DF$k%` •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 B;]5,`#! •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 rY?F6'} •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 NND=Zxl
CPNN!%- s|j<b#<xQ 光栅结构参数 Sje0:;;| h_chZB' eQVPxt2N •此处探讨的是矩形光栅结构。 Rfc&OV •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 UX'NJ1f •因此,选择以下光栅参数: 1R%`i'$/ - 光栅周期:250 nm FgQ_a/* - 填充系数:0.5 B H0#Q5 - 光栅高度:200 nm >_aio4j}r - 材料n1:熔融石英 ,V]A63J - 材料n2:TiO2(来自目录) hJo^Wo nuO3UD3
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Q4m #O9*$eMw 偏振状态分析 uWB:"&!^ B+e_Y\Bu b({Nf,(a2
•使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 ow+Dd[i •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 $#7J\=GZ+ •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 uz#PBV8Q .)@tXH=}+
ZE8/ m") k=mT! 产生的极化状态 mo#0q&ZQ 8gbm "!
-RH4y 2
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$_Y/x ~0F9x9V 其他例子 ]opW; |{e NB3Syl8g du'}+rC •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 1t[;` iZ •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 sUbz)BS#. Z6R:
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YQ@dl uZo`IK J 光栅结构参数 mS:j$$]u Wj4^W<IO (K*/Vp •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 ;5D@kS^ •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 1<W4>~,wj •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 c}IX" •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 GSGyF
=XMD+
{b|3]_-/ 光栅#1 2q-:p8 E/~"j
CGd[3}" \)^,PA3 =!?[]>Dh •仅考虑此光栅。 d2C[wQF •假设侧壁表现出线性斜率。 ]&C:> •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 DJViy •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 QiTR-M2C! stg30>< <JL\?)}n 假设光栅参数: `26V`%bPkr •光栅周期:250 nm p.rdSv(8' •光栅高度:660 nm z^gQ\\,4 •填充系数:0.75(底部) c<=`<!FS[ •侧壁角度:±6° E!zd( •n1:1.46 Qp kKVLi •n2:2.08 vzY'+9q1. $` Z>Lm* 光栅#1结果 a^*cZ?Ta xFBh? ;x:k-s2- •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 +cz"`T`X 2 •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 r6d0x •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。 eJU;*] xfH ;cv.f>Cm
:3KO6/+ O.@g/05C 光栅#2 4Qa@` R'Kt=.s<
J)9 AnGWe 5h`m]#YEG >_;kT y, •同样,只考虑此光栅。 >I$B= •假设光栅有一个矩形的形状。 J+ Jt4 •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 &$mZ?%^C 假设光栅参数: 2[jL^XMM •光栅周期:250 nm F&=I7i •光栅高度:490 nm 8weSrm •填充因子:0.5 x96qd%l/ •n1:1.46 K :1g" •n2:2.08 8[8|*8xqs @GN(]t&3 光栅#2结果 3jvx2 ]i-P-9PA4 w Y8@1>ah •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 <+V-k| •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 Yo >`h2C4 •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 M{C6rm| R=!kbBK>\
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