Runsheet和Monitorlink Enhancements

•对反射和透射监控计算光学信号 !DU4iq_.  
•当膜层沉积时，动态加工因子（Dynamic Tooling Factors）可以不同 n[+$a)$8  
•信号数据可以适应自定义范围 :}0>IPW-V  
•对每个膜层，监控波长和带宽都可以改变  VB&`S+-  
•对每个膜层可以用不同的校验芯片 \k 9EimT}  
•Monitorlink 可以将沉积设计反映到光学和晶体监控上 {(#2G,  
•监控数据的图表可以为手动监控打印出来 ?2q4dx0  
Runsheet和Monitorlink特点 ^GL>xlZ(  
RUNSHEET操作 t nvCtuaR  
要建立一个runsheet, 在Essential Macleod中打开一个空白表格, 指定设计和机器配置，然后点Calculate。 Runsheet会自动指定光源、使用加工因子，计算信号。用户可以改变所以参数中任何一个，如指定光源、监控芯片、波长、带宽。点击Calculate，run sheet立即更新。除了计算机的容量以外，对膜层数、芯片数等没有实际限制。  :d)y  
Runsheet计算信号偏移的表格和曲线。通过可以应用到单个膜层的0偏移和放大的控制，可以适应自定义的范围。根据信号的水平和最后一个峰－峰偏移的比例，表格中出现膜层终止信息。 2UbTKN  
直接修改监控参数，所以在实际沉积以前可以评估不同的监控计划。Runsheet上的信息还可以拷贝到剪贴板，用于其它的处理和其它应用格式。每个run sheet存成单独的文件。重新调用时，Runsheet 检查后续的材料数据或机器配置的任何变化，给出适当的警告。 u7(<
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机器配置 ^L?2y/  
生产沉积计划的第一步是描述镀膜机，这一步对每台机器只需要做一次，在Machine Configuration编辑器上输入。相关的信息包括机器可以提供的材料和来源的名称, 对光学监控器, 可以提供的每种不同类型的芯片和其光学参数，监控硬件的有些物理设置的细节；对晶体监控器，晶体控制器的工作单位。在一个机器配置中，可以同时存在光学和晶体监控器。 -_[ZRf?^  
MONITORLINK 0Ba*"/U]t~  
Monitorlink允许Essential Macleod和指定的沉积控制器通信。它将控制器的知识加到Essential Macleod中去, 包括控制器能够实际执行沉积程序的能力，也可以将程序装载到控制器中去。 'LX]/D  
如果控制器没有合适的PC设置程序，则Monitorlink也包括它的设置程序，它可以管理它们之间的通信。对光学控制器，要求Runsheet enhancement；对晶体控制器，Runsheet enhancement 是可选项。 4(nwi[1Y  
当Runsheet存在时，动态加工因子应用到膜层厚度上。没有Runsheet时,晶体控制器装载未修改的设计厚度。因为它们的操作和约束中不同，Monitorlink必须为指定的控制器定做。 y?Cq{(  
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