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infotek 2021-03-19 10:03

分析高数值孔径物镜的聚焦特性

摘要 3`njQvI\  
j|r$ ! gV  
高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 MnW"ksH  
n*eqM2L  
P[P]oT.N  
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建模任务 @Wzr rCpj  
RXhT{Ho(>  
P#2#i]-  
概述 @.v{hkM`  
+Jq~39  
•案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 U]iZ3^8VT  
•接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 |OBZSk1jp  
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光线追迹仿真 J['?ud}@  
wg KM6?  
•首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 n'<F'1SWv  
•单击go! pRh)DM#9  
•获得了3D光线追迹结果。 ~"U^N:I"  
' "o2;J)7  
@Yzb6@g"  
-Rr Qv(  
光线追迹仿真 4]ETF+   
#}nDX4jI  
•然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 e\H1IR3  
•单击go! Ccy0!re  
•结果得到点图(二维光线追迹结果)。 ne'Y{n(8%  
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场追迹仿真 :@sjOY  
JA6#qlylL  
•切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 M[5fNK&nD  
•单击go! tD3v`Ke  
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场追迹仿真(相机探测器) @" BkLF  
jR mo9Bb2  
•上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 0D^c4[Y'l  
•下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 ]dQ  
IM&l%6[).  
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?H(']3X5@  
场追迹仿真(电磁场探测器) _[u fH*  
•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 0^zp*u  
mu&%ph=  
eR:!1z_h  
D=!5l4  
场追迹仿真(电磁场探测器) 3^p;'7x  
R\n*O@E v3  
•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 Uk= L?t  
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文件信息 [[VB'Rs  
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更多阅读 3q:>NB<  
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-Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer XXZ<r  
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