空间光调制器像素处光衍射的仿真
空间光调制器(SLM.0002 v1.1) UV)[a%/SB& AQ. Y-'\t 应用示例简述 Nt67Ye3; <Sm -Z,| 1. 系统细节 _Pa(5-S'KR 光源 R+lKQAyC0= — 高斯光束 +^<CJNDL9 组件 zm2&\8J — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 )z3mS2 探测器 ~CldqXeI — 视觉感知的仿真 <;#d*&] — 电磁场分布 fMwJwMT8 建模/设计 `y0ZFh1>X — 场追迹: /7|u2!#Ui 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 m\U@L+L TWl':} 2. 系统说明 v"O{5LM" QpS0iUG ^Ot+,l) 3. 模拟 & 设计结果 C2AP 9%oLv25{) 4. 总结 G9 z Q{E wke$ 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 RmO-".$yt |^Try2@ 第1步 R_uA!MoLs 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 !OPK?7 =NAL*4c+ 第2步 INW8Q`[F 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 [:a;|t tNbCO+rZ
产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 ex $d~ NeCTEe|V 应用示例详细内容 RK/SeS :
i3 -7k 系统参数 %,a.431gi g-oHu8 1. 该应用实例的内容 \`{ YqO T -{pcb7.xuv h_?D%b~5 2. 设计&仿真任务 9g"a`a?c D!J
("~[3 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 V. 'EP PAH;
+ 3. 参数:输入近乎平行的激光束 .pu]21m= !K'kkn,h RJnRbaC 4. 参数:SLM像素阵列 D?qA
aq&4 [>;U1Wt M,e_=aq 5. 参数:SLM像素阵列 FlD
!? h:"<x$F 76}
N/C 应用示例详细内容 8NPt[* m$*dPje 仿真&结果 mcb0% 1A< O
Z> 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM \W(C=e 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 >LFhu6T 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 ~k+-))pf 3VB{Qj 2. VirtualLab的SLM模块 0>4:(t7h\ DWHl,w;[z` 6Ei>VcN4a 为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 P`Anf_ 必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 4punJg~1 B:&/*HU 3. SLM的光学功能 dW,$yH_ fJd!;ur)0 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 6@ET3v 为此,将区域填充因子设置为60%。 jToA"udW/ 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 IM}#k$vM: .?[2,4F; 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd 9$)TAI&P wP+wA}SN 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 U:#9!J?41 (JL{X`gs# 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd $0AN5 |`g\ )`,3/i9C$ 4. 对比:光栅的光学功能 y%cg 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 9H" u\t|? 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 SH<Nt[8C 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 Hp8)-eT 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 .?<,J 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 RnIL>Akp UKZsq5Q
yw{GO([ZQ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd -SlLX\>p e#0R9+"Ba 5. 有间隔SLM的光学功能 W.HM!HQp 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 2Af1-z^^K L
V?- g 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd <FRYt-+ 3(}W=oI 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 k129)79 *<i
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Mb Q E-MEMran4 6. 减少计算工作量 va:5pvt2& : ,fs'!
}(hx$G^M 采样要求: 4@.qM6 \\q 至少1个点的间隔(每边)。 HKP<=<8/O 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 }~:`9PV)Z% y['$^T?oP 采样要求: %S.
_3`A 同样,至少1个点的间隔。 ^{DXin 1O` 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 quTM|>=_R 随填充因子的增大,采样迅速增加。 4@u*#Bp`| P bj &l0C 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 Z_zN:BJ8L 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 yrSmI)&% 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 z|Q)^ 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 U6t>UE6k @a'Rn %|*tL7 pV9$Vg?-H
减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。 [d`J2^z} 7. 指定区域填充因子的仿真 @!=q.4b jL8.*pfv 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 Bk_23ygO_ 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 AU -, 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 <~X4&E]rT_ 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 <'>c`80@\* -,)&?S 7y5`YJ}! 8. 总结 --6C>iY[&u 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 x"9`w42\r 0Dv r:]R 第1步 l+HmG< P 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 F0t-b %w, { 0RwjPYp 第2步 iH<:wLY&J 分析不同区域填充因子的对性能的影响。
e{EKM4 扩展阅读 HL]8E}e\" 扩展阅读 > r1cW7 开始视频 mM0VUSy - 光路图介绍 ?41bZ$j 该应用示例相关文件: >o9tlO) - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 i/E"E7 - SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 |L[/]@| <| 8N\FU{ #
2;6!_ QQ:2987619807 v7gs
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