空间光调制器像素处光衍射的仿真
空间光调制器(SLM.0002 v1.1) A@BYd'}] (PjC]`FK 应用示例简述 Gpws_jw |*W`}i 1. 系统细节 66*/"dBwm 光源 >(s)S[\ — 高斯光束 N/QTf1$ 组件 s
l|n]#) — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 5:%xuJD 探测器 ?(el6 J} — 视觉感知的仿真 Vv4w?K — 电磁场分布 V?Y;.n&y 建模/设计 6eqxwj{S[ — 场追迹: Ah,X?0+ 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 TT3GFP 5o 4\Jwt 2. 系统说明 dd#=_xe 96UL](l(` Vp*#,(_G: 3. 模拟 & 设计结果 yrOWC {<{
O! 4. 总结 <H{%`
;LRY
h? 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 'M>QA"*48E @:\Iw"P 第1步 ;/w-7O: 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 68
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V>V F+mn d,3 第2步 9MQ!5Zn 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 &~of]A N t]YhO 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 r>4HF"Nm hh/C{ l 应用示例详细内容 SJb+:L> ]n9o=^q/ 系统参数 pvdM3+6 EkotVzR5 1. 该应用实例的内容 #@s[!4)_I n1+1/ ru#,pJ=O( 2. 设计&仿真任务 #9-qF9M %5#ts/f 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 'B dZN E9e|+$ 3. 参数:输入近乎平行的激光束 N>kY$ *
}71a3EUK a *?bnw? 4. 参数:SLM像素阵列 ]
TY$ Y+vG]?D t5:
1' N9P 5. 参数:SLM像素阵列 hKVj\88 iI T7pq1
WWf#in 应用示例详细内容 oYOR%'0*m+ Vwxb6,}Z 仿真&结果 A[W3.$s ^3re*u4b= 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM zh8\
_>+ 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 7i-G5%w7 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 8t)5b.PS }7?n\I+n" 2. VirtualLab的SLM模块 S7i,oP7 fXNl27c- BwpEIV@b] 为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 w[ )97d 必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 i7rO5< l9Xz,H 3. SLM的光学功能 1jHugss9| `Vph=`0 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 ;iA6[uz 为此,将区域填充因子设置为60%。 3|++2Z{}, 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 KZeaM ;t6)(d4z? 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd ~9Xs=S! w3hG\2)[HS 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 3m;*gOLk6 3[_zz;Y*d 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd o2'^MxKb T w?eJVi@w{ 4. 对比:光栅的光学功能 b*5Yy/U 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 79HKfG2+KB 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 6KH&-ffd 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 {Q?\%4>2 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 }N^3P0XjYq 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 _P].Z8 4hl`~&yDf
!+R_Z#gB 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd $3yzB9\a" &];:uYmMU 5. 有间隔SLM的光学功能 (~k{aO 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 `8x.Mv @#u'z~a) 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd ,ma4bqRMc K>a@AXC 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 QmiS/`AAv a ]b%v9 v%
c-El% 6. 减少计算工作量 mMt~4(5 +uqP:z
=6YffXa_s 采样要求: Ung K9uB~ 至少1个点的间隔(每边)。 A?zxF5rfp 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 c.?+rcnq x<=<Lx0B; 采样要求: W{!Slf 同样,至少1个点的间隔。 !
<O,xI' 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 |V
dr/' 随填充因子的增大,采样迅速增加。 (~U1X4 h.t2 ;O, b 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 ^630%YO 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 FfSKE 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 ?S2!'L 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 9{-
Sa HYcwtw6 2EAY`}Rl6. .}*_NU
减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。 4*9WxhJ ]0 7. 指定区域填充因子的仿真 }"\jB $T2n^yz 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 3:B4; 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 Cn"L*\o 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 gPf^dGi7t 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 fa#5pys =N?K)QD` wM0P#+bA\ 8. 总结 n[c/L8j 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 {0J
(=\u 6$'0^Ftm' 第1步 p}K\rpvJpu 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 69C>oX OE8H |?% 第2步 N1l&$#Fr!s 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 k1sR^&{l 扩展阅读 %:=Jr#a 扩展阅读 "v[?`<53^l 开始视频 ptCAtEO72 - 光路图介绍 #Py\' 该应用示例相关文件: .4cOMiG - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 > Du>vlTY - SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 Q"D%xY KOP*\\1
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