空间光调制器像素处光衍射的仿真
空间光调制器(SLM.0002 v1.1) =z.AQe+ EQ-~e 应用示例简述 G9Ezm*I;: %VZ\4+8S 1. 系统细节 6 , ~aV 光源 h~t]WN — 高斯光束 af{K4:I 组件 PX'%)5:q;i — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 I}x*AM 7+ 探测器 Ho|n\7$ — 视觉感知的仿真 Rwk|cqr — 电磁场分布 H*IoJL6 建模/设计 Zx0c6d!B — 场追迹: E u 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 I&0yUhn =?hlgQ 2. 系统说明 5E8PbV-l ;2}Gqh )Yr wAYc)u# 3. 模拟 & 设计结果 zQJbZ=5Bu" Qfi5fp=f 4. 总结 %iNDRLR%I 7[\B{N9&W 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 up?8Pq* ~x+w@4)a> 第1步 e2Dj%=`EU 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 <rI~+J]s b04~z&Xv 第2步 + h&V; 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 {iv=KF_S_ gg9W7%t/ 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 ORTM[cL
WUWQcJj 应用示例详细内容 ?{'Q}% 1C{~!=6# 系统参数 s_N!6$tS qeYr= %)c 1. 该应用实例的内容 o2L/8q. 6SwHl_2% CT : ac64 2. 设计&仿真任务 |^{IHF\ STMcMm3 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 D~Su822 tg:x}n 3. 参数:输入近乎平行的激光束 Q=[&~^Y) d=pq+ 8b/yT4f 4. 参数:SLM像素阵列 ^]kDYhe*Y 11uqs
S2 -3Ffk: 5. 参数:SLM像素阵列 Xo,BuK&G dNR4h V}*b^<2o5 应用示例详细内容 k"6^gup(U C>H UG 仿真&结果 lk}x;4]Z '*pq@|q;t 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM lUrchLoDt 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 3yQ(,k # 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 ~I'hiV^- v1:5r 2. VirtualLab的SLM模块 `is6\RH q7;)&_' )wC>Hq[mhW 为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 k~H-:@ 必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 s=q}XIWK &EMm<(.]a 3. SLM的光学功能
QS!b]a3 4):\,>%pK 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 8=$@azG 为此,将区域填充因子设置为60%。 .{6TX"M 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 mU*GcWbc+ X(8]9 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd (GZm+? L%"&_v#a^ 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 Yy&0b(m U =zsXa=< 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd Y$N|p{Z l|DOsI'r 4. 对比:光栅的光学功能 Ys\l[$_`* 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 !nu#r$K( 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 _PuMZjGL 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 re<"%D 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 {#7t(:x 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 hM;E UWv wc;5tb#
{r Gx*<e 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd (bXCc 5ewQjwW0 5. 有间隔SLM的光学功能 ?&?y-&.5- 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 HGPbx$! L)Kn8 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd Bq'hk<ns[ L,R9jMx?_ 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 e Q0bx& &fW;;> )xi|BqQz 6. 减少计算工作量 t hS#fO4]d P afmHXx
;R/=9l 采样要求: _I2AJn`# 至少1个点的间隔(每边)。 :qI myaGQ 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 #u#s'W $?0<rvGJ 采样要求: _wm"v19 同样,至少1个点的间隔。 ?L|@{RS{| 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 +^`c"qJo 随填充因子的增大,采样迅速增加。 1,4kw~tA $)kIYM& 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 :V`q;g 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 [j&>dE 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 T1D7H~\lG 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 64[j:t=N WWD\EDnS W(EU*~<UC sjztT<{Q^-
减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。 GK:*|jV 7. 指定区域填充因子的仿真 R9{6$djq\: 1&wLNZXH 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 ?"J5~_U. 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 qxk1Rzm?x 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 ytHa[U 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 7HFw*; )KkA<O}f 24]O0K 8. 总结 <` HLG2 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 $YFn$.70\ J1g
`0XH 第1步 _8t{4C 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 :*Sl\:_X) !Il<'+ ^ 第2步 )4 "G1R`3 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 Gh|q[s*k 扩展阅读 ~G,n> 扩展阅读 Au@U;a4UU 开始视频 `2 Z - 光路图介绍 k'EP->r 该应用示例相关文件: ;
*r5 d+] - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 SkVW8n*s - SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 'd'*4 )]k ,C!MHn^$ Ig*!0(v5$ QQ:2987619807 N(6|TE2
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