空间光调制器像素处光衍射的仿真
空间光调制器(SLM.0002 v1.1) >8{{H"$;( LdOqV'&r 应用示例简述 %d-WQwJ e|SNb*_ 1. 系统细节 ,;MUXCC' 光源 t~}c"|<t — 高斯光束 DdISJWc'`5 组件 #v$wjqK5 — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 RI<smt.Ng 探测器 1foG*
— 视觉感知的仿真 7CSn79E — 电磁场分布 }#~E-N3x 建模/设计 3GL?&(eU; — 场追迹: "IpbR 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 i,;a( Sy4 s 7%iuP 2. 系统说明 %Y/;jCY [T'[7Z J7dHD(R8 3. 模拟 & 设计结果 sm?b,T/ 55`p~:&VQ 4. 总结 :
maBec) #u"@q< ) 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 c|'$3dB* 37IHn6r\ 第1步 (-;(wCEE 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 5D-as9k* it>Bf; 第2步 vG)B}`M 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 [".94(qs 7[L%j;)bw 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 m'G=WO*% f `b6E J 应用示例详细内容 fMHw=wJQ ^K8XY@{& 系统参数 B1I{@\z0G ncVt(!c,e 1. 该应用实例的内容 ,9F3~Ryt( V3|"
v4 ())_4 < 2. 设计&仿真任务 aWvC-vZk @^#
9N!Fj] 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 Xmb##: lR
F5/ 3. 参数:输入近乎平行的激光束 ]f`UflMO8 iYdg1 a~!7A
ZT-O 4. 参数:SLM像素阵列 !K= $Q Uq SEu:31k{o P uQ 5. 参数:SLM像素阵列 {~#01p5 q{[y4c1bG{ }lq$Fi/ 应用示例详细内容 /7a3*a vZ6R>f
仿真&结果 uzp\<\d-t =:TQ_>$Nc2 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM n(n7"+B 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 .G<Or`K^i 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 r'|ei , u2':~h?l 2. VirtualLab的SLM模块 C(KV5c !QqVJ a{j PKGqu,J, 为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 Xz/aytp~A 必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 D-m%eP. h9nh9a(2 3. SLM的光学功能 0G'v4Vj0' h7xgLe@ 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 =*UVe%N4 为此,将区域填充因子设置为60%。 11!4#z6w 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 ep
l1xfr |^w&dj\, 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd .Rb4zLYL*w "`pg+t& 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 sI#h&V,9 x;4m@)Mu 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd Pi%-bD/w CWD
$\K G 4. 对比:光栅的光学功能 g,RhUt9 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 {D]I[7f8Ev 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 (5 RZLRn 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 4i29nq^n 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 SS;'g4h\6 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。
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On+0@hh 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd zHW&i~ PhmtCp0-7- 5. 有间隔SLM的光学功能 :mdoGb$dr 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 (+TL
]9P L_=3`xE
_ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd %!L*ec%, D]V&1n 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 U71A#OD^U ?CpM.{{s >k2^A 6. 减少计算工作量 oTpoh]|[ 1fh6A`c
<9Ytv|t@0 采样要求: $bk_%R}s 至少1个点的间隔(每边)。 7.
eiM!7g 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 ><)fK5x l-'\E6grdH 采样要求: _<)HFg6 同样,至少1个点的间隔。 49B6|!&I 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 OJLyqncw 随填充因子的增大,采样迅速增加。 mldY/;-H!1 (=s%>lW| 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 v;"
pc)i 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 cdfnM% `>\ 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 V##T G0 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 ,\PTn7_ #@L<<Q8} xQzXl 3^F1 hCB
减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。 []H0{a2{< 7. 指定区域填充因子的仿真 3,@|kN< DJH,#re> 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 }An;)!>(nF 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 h)?Km{u% 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 71HrpTl1fw 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 9Cw !< p,2H8I){ %U&ztvR0C 8. 总结 JjQTD-^ 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 ]8XIw`:f Now2ad& 第1步 ^}hSsE 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 <kWNx.eci 2{)<Df@ 第2步 d#HN'(2t 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 bY=Yb 扩展阅读 +L}R|ihkI 扩展阅读 A:,V) 开始视频 k%({< |