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2020-09-07 10:35 |
如何设置面板型光源
摘要 j}8^gz] h}S2b@e| 利用VirtualLab中的面板型光源,可以如现实一样对像素化显示进行建模。所述面板型光源可以由给定的像素个数和像素图形来定义,每个像素都发射出可调发散角的球面波。结合ParameterRun,可以对所有像素进行扫描,可针对特定应用灵活选择扫描方式,例如,用于分析具有像素化图像生成单元的成像系统。 E#kH>q@K`$ GW]t~EL
Gr3 q <FN+
1. 基本参数 6O@Lx]t 9AD0|,g h5^We"}+ 面板型光源模拟确定的像素数目,每个像素用一个球形波表示,作为基本模式。 q"-Vh,8h 所有模式具有相同的孔径形状,并可在基本参数(Basic Parameters)选项卡中配置。 zD
sV"D8 此外,还可以设置相对或绝对边缘宽度。 N0ZD+ )F0Q2P1I
J,=^'K( 0+A#k7c6p 2. 特定参数-强度 O /h1ew BpF}H^V- vTp,j-^ 特定参数(Specific Parameters)选项卡可以控制光源的强度和像素设置。 9Lqz:4} 强度分布的设置可以根据: [c99m:*+ - 通过指定彩色域集或通过导入图像文件来指定所需的变化。在这种情况下,波长从输入分布中选择; V{rQ@7SE - 或者一个波长的所有像素的常数。在这种情况下,像素的数量可以分别沿x方向和y方向设置。 @*$"6!3s5 Wx8;+!2Q/
Qk^} zK*i:(>B 3. 特定参数-像素设置 ~ \c
j AUl[h&s e"2x!(&n( 特定参数(Specific Parameters)选项卡可以控制光源的强度和像素设置。 Rr\fw' 像素间距(Pixel Pitch)可分别沿x方向和y方向设置。 9|9/8a6A 另外,可以配置每个像素的孔径角度(Aperture Angle)。 U.|0y =
H#bu3*' fl*49-d 4. 光线选择 ?Y9VviC R7x*/? 在Ray Selection选项卡中,对于每个模式,都可以指定所需的选择方法和射线的数量。 &2W`dEv]? h:vI:V[/X
M/}i7oS] 5. 偏振设置 +ZRm1q g;y*F;0@ S'sI[?\x 偏振设置(Polarization Settings)选项卡为所有像素提供偏振选项。 ;i 3C 偏振状态可以为: C,{ Ekbg −线偏振; |:d_IB@ −圆偏振; xf{=~j/L −椭圆偏振;
5)M#hx%]# −一般通过琼斯矩阵输入。 e4cWi COSQ
b28C( x2g=%K= 6. 模式选择 ~@iYP/=/Q 'W[Nr ;S+"z;$m 在模式选择(Mode Selection)选项卡中,可以选择不同的光谱成分和像素。 ;{g>Z| 波长可以单独或全部选择。 zM'2opiUY 像素可以在指定的列或行中选择,也可以作为单个像素选择。 OEHw% 8noo^QO
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Uql7s:!,U 7. 参数运行-扫描每个单个像素 0O?!fd n e\]CZ5hs3 E~,Wpl} 在模式选择选项卡中,选中“像素”。 4n.EA,:g:( 启动参数运行并切换到扫描模式。然后扫描选定的列和行索引。 )"^ )Nk QWK\6 8. 文件和技术信息 Dn;$4Dak( Oxh.&
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QQ:2987619807
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