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infotek 2020-09-01 09:59

衍射级次偏振状态的研究

摘要 evz@c)8  
2h`Tn{&1/  
光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 b4>1UZGW-  
Z (C0+A\  
D8)6yPwE  
概述 j2=|,AmC  
\T^ptj(0  
70N Lv  
•本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 ?GeMD /]  
•为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 0W]vK$\F*  
•为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 />V& OX `  
i: VMC NH  
B[;aNyd<  
"_n})s f  
衍射级次的效率和偏振
?l^NKbw  
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MD[;Ha  
•通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 k6(0:/C  
•该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 lZ?YyRsa6&  
•在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 U,Z7n H3_  
•因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 l|K$6>80  
•特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 /q?g py  
S X[  
#?7g_  
光栅结构参数 ,7SqR Y,+  
a[NR%Xq  
#:tC^7qk  
•此处探讨的是矩形光栅结构。 &|fWtl;43  
•为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 O@`KG ZEPY  
•因此,选择以下光栅参数: j-7aJj%  
- 光栅周期:250 nm QQ./!   
- 填充系数:0.5 axz.[L_elB  
- 光栅高度:200 nm xtzkgb,0[  
- 材料n1:熔融石英 9~4@AGL  
- 材料n2:TiO2(来自目录) cs*"9nKl  
) RNB;K~s9  
&M6Zsmo  
tiF-lq  
偏振状态分析 lec3rv0)  
H}g p`YW:4  
D|IS@gWa  
•使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 Q 6dqFnz  
•如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 Xx ou1l!  
•为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 Qn)AS1pL+  
}gKJ~9Jg  
$Ao'mT  
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产生的极化状态 t@q==VHF  
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;3+_aoY  
i-R}O6  
其他例子 5TLE%#G@+  
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3e)$<e  
•为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 g1)ZjABV  
•因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 piXL6V@c  
+QeA*L$~  
D&G^|: G  
L+8O 4K{  
光栅结构参数 |mT1\O2a  
p;~oIy\,  
Bv#?.0Ez;  
•在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 g9j&\+h^  
•由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 Cm9#FA  
•由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 HF*j=qt!  
•当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 :-oMkBS  
hP$5>G(3  
}H|'W[Q.  
光栅#1 Ugme>60`'k  
C]Q}HI#G  
?nZe.z-%6  
`@{(ijg.  
se*k56,  
•仅考虑此光栅。 2x~Pq_?y  
•假设侧壁表现出线性斜率。 ?Cv([ ^Y.u  
•蚀刻不足的部分基板被忽略了。 0rxGb} b*  
•为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 Q+s2S>U{v  
+3Z+#nGtk  
8\p"V.o>  
假设光栅参数: v ,zD52  
•光栅周期:250 nm JA4}B wn  
•光栅高度:660 nm dF*M"|[  
•填充系数:0.75(底部) 9U Hh#  
•侧壁角度:±6° <,Mf[R2N>  
•n1:1.46 l[[^]__  
•n2:2.08 i!iG7X)qT  
-B#K}xL|x  
光栅#1结果 }:(;mW8 D  
`> +:38  
,\N4tG1\  
•左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 \{v-Xe&d^  
•相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 =]1cVnPI  
•与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。
XW~a4If  
5..YC=_20  
35L\  
T[MDjhv'  
光栅#2 I]BhkJ  
p!DOc8a.\e  
zx@L sp  
eKf5orN  
\"w+4}  
•同样,只考虑此光栅。 Rw hKW?r+  
•假设光栅有一个矩形的形状。 2w fkXS=~6  
•蚀刻不足的部分基板被忽略了。 0[ (kFe  
假设光栅参数: /T+%q#4  
•光栅周期:250 nm }z qo<o  
•光栅高度:490 nm "Y@q?ey[1  
•填充因子:0.5 uPE Ab2u="  
•n1:1.46 PcI~,e%  
•n2:2.08
9FPqd8(]*V  
&MPlSIg  
光栅#2结果 =`UFg >-  
f?> ?jf  
6C/Pu!Sx?  
•同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 mP's4  
•相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 `?SC.KT  
•与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 G ]uz$V6!  
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文件信息 ,<Wt8'e  
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