| 探针台 |
2020-07-24 14:29 |
芯片失效分析实验室经验
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芯片行业是信息技术产业的核心，是支撑经济社会发展和保障国家安全的战略性、基础性和先导性产业。芯片失效分析实验室，配备了国外先进的等离子蚀刻机（RIE）、光学显微镜、电子显微镜（SEM）和聚焦离子束机（FIB）等设备，满足各项失效分析服务的要求。 otJ!UfpR8
公司拥有一套完善的失效分析流程及多种分析手段，全方位保证工程质量及项目文件的准确无误。 x3p ND
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失效分析流程： !xIm 2+:(
1、外观检查，识别crack，burnt mark等问题，拍照。 BxK^?b[E8
2、非破坏性分析：主要用xray查看内部结构，csam—查看是否存在delamination 1 " #*)MF
3、进行电测。 [5$w=u"j
4、进行破坏性分析：即机械机械decap或化学decap等 H ?M/mGP
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常用分析手段： EGq;7l6u&?
1、X-Ray 无损侦测，可用于检测 [&?8,Q(
* IC封装中的各种缺陷如层剥离、爆裂、空洞以及打线的完整性 6t'l(E +
* PCB制程中可能存在的缺陷如对齐不良或桥接 2[fN\ e{
* 开路、短路或不正常连接的缺陷 qT :zEt5
* 封装中的锡球完整性 VOTv ?Vf
2、SAT超声波探伤仪/扫描超声波显微镜 ^! 8P<y
可对IC封装内部结构进行非破坏性检测, 有效检出因水气或热能所造成的各种破坏如﹕ US [dkbKo
晶元面脱层 5kNzv~4B,;
锡球、晶元或填胶中的裂缝 @4$\
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封装材料内部的气孔 X|D!VX>#!
各种孔洞如晶元接合面、锡球、填胶等处的孔洞 W5L iXM
3、SEM扫描电镜/EDX能量弥散X光仪 Z?Hs@ j
可用于材料结构分析/缺陷观察，元素组成常规微区分析，精确测量元器件尺寸 4)>FS'=
4、常用漏电流路径分析手段：EMMI微光显微镜 EMMI微光显微镜用于侦测ESD,Latch up, I/O Leakage, junction defect, hot electrons , oxide current leakage等所造成的异常。 s@hRqGd:
5、Probe Station 探针台/Probing Test探针测试，可用来直接观测IC内部信号 9`//^8G :=
6、ESD/Latch-up静电放电/闩锁效用测试 xVL5'y1g B
7、FIB切点分析 !2UOC P
8、封装去除 bI)u /
先进的开盖设备和丰富的操作经验，能够安全快速去除各种类型的芯片封装，专业提供芯片开盖与取晶粒服务。
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