| markborn |
2020-06-28 18:40 |
如何分析部分干涉成像系统 （光刻机成像系统）
如何分析部分干涉成像系统 （光刻机系统） O40?{v'
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在光刻应用中，所使用的光源不是完全相干的，如何在晶片上分析部分相干成像系统中的掩模? rT=rrvV3g
在这里给大家分享一个案例， 希望可以帮到大家。 j"t(0 m
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这里是一步一步的如何在ZEMAX 中操作：https://sot.com.sg/coherent-imaging/ uanhr)Ys
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这里是案例的ZEMAX 文件： 备注： 我用的ZEMAX 是20年版本， 如果您版本过低，可能无法正常打开， 请谅解！ a=|K%ii+Y
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如果不能打开文件， 请告知我， 我转发给你。 -V*R\,>
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回帖是对我分享的一个鼓励， 谢谢回帖！
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