| 飞跃小河 |
2020-05-07 17:08 |
基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术
新书抢先看:《Optical Coating Design with the Essential Macleod基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》 G.v(2~QFd >}W[>WReI 作者:美国Angus Macleod 、Christopher Clark Y:, rN 译:讯技科技股份有限公司 J_-fs#[x 校:讯技科技股份有限公司 GG +T-
5Z5x\CcC3 书籍概况: L[,19;( cDE5/! Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 {<Gp5j 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Angus Macleod先生60多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 \g
h |G 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 Pd(_ PLMC<4$s 书籍目录 b78~{ht` 8N?D1;F; 1 引言 85;bJfY 2 光学薄膜基础 Y$]zba 2.1 一般规则 NY.* S6 2.2 正入射规则 Gn_DIFa 2.3 斜入射规则 w`V6vYd@ 2.4 精确计算 +}a(jO 2.5 相干性 j%^4
1 y 3 Essential Macleod的快速预览 f.+1Ubq!5 4 Essential Macleod的特点 |5O>7~Tp 4.1 容量和局限性 n-yUt72 4.2 程序在哪? s&-MJ05y 4.3 数据文件 x\8|A 4.4 设计规则 |?8nO.C~V 4.5 材料数据库和目录库 '?L^Fa_H 4.5.1 材料数据库及导入材料 MGt>:&s(] 4.5.2 材料目录库 IDFzyg_ 4.5.3 导出材料数据 q!@!eC[b 4.6 常用单位 ]a4+] vLK 4.7 插值 Ve&_NVPrd 4.8 材料数据的平滑 Hz2Sx1.i 4.9 一般文档编辑规则 }^ ,D~b-nB 4.10 设计文档 6[c|14l 4.10.1 公式 bvB',yBZ 4.10.2 更多关于膜层厚度 e5P9P%1w 4.10.3 沉积密度 #~"IlBk\ 4.10.4 性能计算 KvPCb%!ZP 4.10.5 保存设计和性能 >(S)aug$1 4.10.6 默认设计 -P/DmSS8V 4.11 图表 #X?[")R 4.11.1 合并曲线图 V3q`V/\ 4.11.2 自适应绘制 cK u[4D{ 4.11.3 动态参数图 iC=>wrqY> 4.11.4 3D绘图 iBSg`"S^]C 4.12导入和导出 -ZZJk-:: 4.12.1 剪贴板 3WGE T[3 4.12.2 不通过剪贴板导入 Sq ]gU 4.12.3 不通过剪贴板导出 >RkaFcq 4.13 背景(Context) m{ !$_z8: 4.14 扩展公式 - 生成设计 m1Y a 4.15 生成Rugate }3X/"2SW^ 4.16 参考文献 o&Xp%}TI 5 在Essential Macleod中建立一个Job u@ #%SX 5.1 Jobs d\]KG(T 5.2 创建一个新的Job SYA~I-OYc 5.3 输入材料 vxEi C:&] 5.4 设计数据文件夹 `v``}8tm 5.5 默认设计 $Z#~wsw 6 细化和合成 M?"4{ 6.1 最优化导论 &AJkYh 6.2 细化 aO&{.DO2 6.3 合成 ISs&1`Y 6.4 目标和评价函数 if|5v^/ 6.4.1 目标输入 uhfK\.3 6.4.2 目标关联 Kgr<OL}V J 6.4.3 特殊的评价函数 .eD&UQ 6.5 膜层锁定和关联 Q!@M/@-Ky 6.6 优化技术 M*gvYo 6.6.1 单纯形 ;P)oKx 6.6.1.1单纯形参数 8$_{R!x 6.6.2 Optimac qm!oJL 6.6.2.1 Optimac参数 mB_?N $K 6.6.3 模拟退火算法 8p%0d`sX 6.6.3.1退火参数 %"Um8`]FVg 6.6.4 共轭梯度 a~0 ~Y y 6.6.4.1共轭梯度参数 }={@_g# 6.6.5 拟牛顿法 O|8@cO 6.6.5.1 拟牛顿法参数: -J+1V{ 6.6.6 针形合成 xn2 nh@; 6.7 我应该使用哪种技术? |> STb\ 6.7.1 细化 {L7Pha
6.7.2 合成 ZL<X*l2 6.8 参考文献 ,FzkGB# 7 导纳图和其他工具 SqPqL<,e 7.1 介绍
%lnkD5 7.2 导纳变换 \{ EVRRXn 7.2.1 四分之一波长规则 $\J5l$tU 7.2.2 导纳轨迹图 &!X<F, 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 _D{A`z 7.4 全介质抗反射膜的应用 dfdK%/' $( 7.5 对称周期结构 G|Et'k.F4 7.6 参考文献 I#(lxlp"Ho 8.典型的镀膜实例 !VWA4 e!+ 8.1 单层抗反射膜 IN bV6jZL 8.2 1/4-1/4抗反射膜 gdf0 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射膜 G]rY1f0 8.4 W-膜层 MygAmV& 8.5 V-膜层 '9f0UtT|[ 8.6 高折射基底V-膜层 =fRS UtX 8.7 高折射率基底b V-膜层 GbQi3% 8.8 1/4-1/4高折射率基底 J"AR3b@,$? 8.9 四层抗反射膜 cgrSd99. 8.10 Reichert抗反射膜 g8MW6Y 8.11 可见光和1.06um抗反射膜 rt*x[5< 8.12 宽波段6层抗反射膜 0(-4"u>? 8.13 宽波段8层抗反射膜 ,EEAxmf 8.14 宽波段25层抗反射膜 ?m *e$!M0 8.15 四层2-1 增透膜 VNWB$mM.2 8.16 1/4波长堆栈 n5d8^c! 2 8.17 陷波滤光器 *xNc^&. 8.18 Rugate 9$HKP9G 8.19 消偏振分光片1 B3ItZojAuw 8.20 消偏振分光片2 o@L0ET 8.21 消偏振立体分光片 >b2!&dm 8.22 消偏振截止滤光片 I9qZE=i 8.23 偏振立体分光片1 gP
QOv 8.24 偏振立体分光片2 Zu|NF
uFI 8.25 缓冲层 Hdew5Xn(: 8.26 红外截止滤光片 jXA/G%:[ 8.27 21层长波通过光片 Qz|T0\=V 8.28 49层长波通滤光片 b69nj 8.29 55层长波通滤光片 p($vM^_<" 8.30 宽带通滤光片 ~NK $rHwi% 8.31 诱导透射滤光片 Yt#;
+*d5 8.32 诱导透射滤光片2 BZW03e8| 8.33 简易密集型光波复用(DWDM)滤光片 kMVr[q,MEq 8.34 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤光片 0C :8X
8.35 增益平坦滤光片 z9S
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