飞跃小河 |
2020-05-07 17:08 |
基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术
新书抢先看:《Optical Coating Design with the Essential Macleod基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》 VuFH
>8n 7vV3"uns 作者:美国Angus Macleod 、Christopher Clark LI?rz<H!D 译:讯技科技股份有限公司 bzmT.! 校:讯技科技股份有限公司 =_8
8|?$KLz?F> 书籍概况: Fp-d69Npo rZ1${/6 Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 \Btv76*, 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Angus Macleod先生60多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 R1X9 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 1A">tgA1 `R fhxzI 书籍目录 .wx;!9 r<Ll>R 1 引言 29pIO]8; 2 光学薄膜基础 h{yqNl 2.1 一般规则 4)-LlYS_d< 2.2 正入射规则 N|T%cdh:/ 2.3 斜入射规则 @P4fR7 2.4 精确计算 <Jo_f&&{ 2.5 相干性 h2!We# 3 Essential Macleod的快速预览 $k V^[ 4 Essential Macleod的特点 SPeSe/ 4.1 容量和局限性 %s%v|HDs 4.2 程序在哪?
s6rdQI] 4.3 数据文件 P8Fq %k 4.4 设计规则 y1(smZU 4.5 材料数据库和目录库 t%n1TY, 4.5.1 材料数据库及导入材料 Ja|! fT 4.5.2 材料目录库 VieC+Kk 4.5.3 导出材料数据
RN'|./N 4.6 常用单位 k ;R*mg*K 4.7 插值 c</d1x T 4.8 材料数据的平滑 p V(b>O 4.9 一般文档编辑规则 ]YQlCx` 4.10 设计文档 (01M 0b# 4.10.1 公式 [P]zdw
w# 4.10.2 更多关于膜层厚度 C#`eN{%.YT 4.10.3 沉积密度 *{P"u(K 4.10.4 性能计算 +n %uIv 4.10.5 保存设计和性能 `ux
U
H# 4.10.6 默认设计 4WG~7eIgy 4.11 图表 :kfHILi 4.11.1 合并曲线图 3205gI, 4.11.2 自适应绘制 (!&cfabL 4.11.3 动态参数图 :Oo(w%BD] 4.11.4 3D绘图 ><viJ$i 4.12导入和导出 B@Ez,u5 4.12.1 剪贴板 b !J21cg<L 4.12.2 不通过剪贴板导入 a=&a)FR 4.12.3 不通过剪贴板导出 0
ML=] 4.13 背景(Context) scCOiK) 4.14 扩展公式 - 生成设计 u{,e8. Z 4.15 生成Rugate j8$*$| 4.16 参考文献 DmM<Kkg.J 5 在Essential Macleod中建立一个Job !krbGpTVH 5.1 Jobs @Nn9-#iW 5.2 创建一个新的Job _$s9o$8$ 5.3 输入材料 5vj;lJKcd` 5.4 设计数据文件夹 D+]#qS1q 5.5 默认设计 ".O+";wk 6 细化和合成 m:59f9WXA 6.1 最优化导论 2K'3ry)[y 6.2 细化 J4#t1P@Na 6.3 合成 UJ1iXV[h" 6.4 目标和评价函数 ?1K|.lr 6.4.1 目标输入 ,`v)nwP 6.4.2 目标关联 F=U3o=-: 6.4.3 特殊的评价函数 8 sZ~3 6.5 膜层锁定和关联 UM(tM9 6.6 优化技术 jxU1u"WU 6.6.1 单纯形 UB }n= 6.6.1.1单纯形参数 ~Jrtm7 6.6.2 Optimac Q<3=s6@T 6.6.2.1 Optimac参数 cu5Yvp 6.6.3 模拟退火算法 q{HfT
d 6.6.3.1退火参数 t8DySFT 6.6.4 共轭梯度 L!Iu\_{q 6.6.4.1共轭梯度参数
jhjb)r. 6.6.5 拟牛顿法 4d#w} 6.6.5.1 拟牛顿法参数: Z|K+{{C 6.6.6 针形合成 "rOe J~4 X 6.7 我应该使用哪种技术? JziuwL5, 6.7.1 细化 N@lTn}U 6.7.2 合成 ?F1NZA[%t 6.8 参考文献 ?2zVWZ 7 导纳图和其他工具 x*Y&s< 7.1 介绍 ZdJwy% 7.2 导纳变换 ;,![Lar5L 7.2.1 四分之一波长规则 ^I=c]D]); 7.2.2 导纳轨迹图 #;sUAR?] 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 N=^{FZ 7.4 全介质抗反射膜的应用 XW
w=3$ 7.5 对称周期结构 "K
n
JUXpl 7.6 参考文献 ")'o5V 8.典型的镀膜实例 @d]I3?`
8.1 单层抗反射膜 j}7as& 8.2 1/4-1/4抗反射膜 j/`-x 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射膜 rVgz+'rFD[ 8.4 W-膜层 P,r9< 8.5 V-膜层 4bLk+EY4A 8.6 高折射基底V-膜层 ~N2){0j4 8.7 高折射率基底b V-膜层 qq"&Bc> 8.8 1/4-1/4高折射率基底 LW< | |