| 探针台 |
2020-04-26 15:00 |
FEI Scios 2 DualBeam应用介绍
:V3z`}Rl 聚焦离子束显微镜FIB/SEM/EDX FEI Scios 2 DualBeam技术指标 l1bkhA b
一、技术指标 D@2L<!\ 1、电子束电流范围:1 pA - 400 nA; +7\d78U 2、电子束电压:200eV-30 keV,具有减速模式 1rx,qfCq 3、电子束分辨率:0.7 nm (30 keV)、1.4 nm(1 keV) z$gtGrU 4、大束流Sidewinder离子镜筒; /4*Y#IpZ 5、离子束加速电压500V-30kV(分辨率:3.0 nm); }u9#S 6、离子束束流1.5pA-65nA,15孔光阑。 _01wRsm%2 "1YwV~M5 二、配置情况 5?MaKNm } 1、GIS气体注入:Pt沉积 Rk,'ujc 2、ETD SE、T1(筒内低位)、T(高位)探头 ]A;.}1' 3、Nav-camTM:样品室内光学导航相机 O8OAXRt/Y 4、AutoTEM4、Autoslice、Map for3D自动拼图、NanoBuilder纳米加工软件。 P_4E<"eK 9X?RJ."J 三、适用样品 )I#{\^ 半导体、金属、陶瓷材料微纳加工及观察分析,成分分析 PYBE?td b)@D@K"5 四、检测内容 @R-11wP)M 1、IC芯片电路修改 AsD$M*It 2、Cross-Section 截面分析 U9ZuD40\ 3、Probing Pad I8a3: ) 4、FIB微纳加工 SRtw 5、材料鉴定 `OfD^Q= 6、EDX成分分析 lJ]]FuA-Q [attachment=100144] |Fz ^(US 五、设备简介 q{&\nCy FEI Scios 2 DualBeam系统在Scios系统的基础上进行了升级,更加适用于金属、复合材料和涂层,特点是适用磁性样品、借助漂移抑制对不导电的样品可以进行操作、Trinity检测套件可同步检测材料、形态和边缘对比对度,大大提高效率、软件可以实现三维数据立方体分析金属中夹杂物大小和分布、独有的工作流模式,可以设定程序,降低操作员的难度。在超大样品仓中集成了大尺寸的五轴电动样品台,XY轴具有110mm移动范围,Z方向具有85mm升降空间。 Q 0G5<:wc
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