| 飞跃小河 |
2020-02-27 14:54 |
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》
新书抢先看:《Optical Coating Design with the Essential Macleod基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》 @3v[L<S{ Fi8#r)G. 作者:美国Angus Macleod 、Christopher Clark #+ai G52+ 译:讯技科技股份有限公司 7*>(C*q= 校:讯技科技股份有限公司 3uy^o
,t|qhJF 书籍概况: EC8 Fapy }}X<e Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 ]w/%> 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Angus Macleod先生60多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 \R|qXB $ 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 :8LK}TY7 c2~oPUj 书籍目录 oR@1/lV w|[{xn^R 1 引言 2qDyb]9 2 光学薄膜基础 +Ua.\1"6 2.1 一般规则 \J-}Dp\0b 2.2 正入射规则 1zGhX]z 2.3 斜入射规则 S%IhpTSe6 2.4 精确计算 g!I0UAm 2.5 相干性 Wagb|B\ 3 Essential Macleod的快速预览 Mh"vH0\Lj 4 Essential Macleod的特点 &]S\GnqlU] 4.1 容量和局限性
["BD,mB 4.2 程序在哪? I~T~!^}U 4.3 数据文件 X$(YCb 4.4 设计规则 s<'WTgy1i 4.5 材料数据库和目录库 #v\o@ArX 4.5.1 材料数据库及导入材料 _)a!g-Do7 4.5.2 材料目录库 N?l 4.5.3 导出材料数据 EXizRL-9o 4.6 常用单位 "}^}3"/. 4.7 插值 CT[CM+ 4.8 材料数据的平滑 9iM[3uyO 4.9 一般文档编辑规则 Lt2<3DB 4.10 设计文档 lnWscb3t 4.10.1 公式 <o: O<p@6 4.10.2 更多关于膜层厚度 +L-(Lz[p 4.10.3 沉积密度 V7)<MY 4.10.4 性能计算 'tJ@+(tqw 4.10.5 保存设计和性能 m~R Me9Qi 4.10.6 默认设计 W0\
n?$ZC~ 4.11 图表 8],tGMu 4.11.1 合并曲线图 Psw<9[ 4.11.2 自适应绘制 WVdF/H 4.11.3 动态参数图 EncJB 4.11.4 3D绘图 i/j eb*d0 4.12导入和导出 H|s,;1# 4.12.1 剪贴板 3)3$ L 4.12.2 不通过剪贴板导入 !CUX13/0 4.12.3 不通过剪贴板导出 c3!YA"5 4.13 背景(Context) b>'y[P! 4.14 扩展公式 - 生成设计 SGUZ'} 4.15 生成Rugate f19'IH$n{ 4.16 参考文献 5K {{o'' 5 在Essential Macleod中建立一个Job m:]60koz]o 5.1 Jobs G%XjDxo$I 5.2 创建一个新的Job iu'At7 5.3 输入材料 ;hCUy=m. 5.4 设计数据文件夹 g;\_MbfP 5.5 默认设计 <>R\lPI2 6 细化和合成 ]^v*2!_( 6.1 最优化导论 q4]Qvf> 6.2 细化 M&5De{LS} 6.3 合成 j!/=w q 6.4 目标和评价函数 mu@IcIb> 6.4.1 目标输入 C~c|};&% 6.4.2 目标关联 Qt"i 6.4.3 特殊的评价函数 VY j
pl 6.5 膜层锁定和关联 p{w:^l( 6.6 优化技术 nrJW.F]S8[ 6.6.1 单纯形 s/0~!0 6.6.1.1单纯形参数 !d{Ijs'T 6.6.2 Optimac 4N_iHe5U 6.6.2.1 Optimac参数 ]<:qMLg 6.6.3 模拟退火算法 [=& tN)_ 6.6.3.1退火参数 [f#7~ 6.6.4 共轭梯度 @0fiui_ 6.6.4.1共轭梯度参数 _)-y& 6.6.5 拟牛顿法 Tw@:sWC 6.6.5.1 拟牛顿法参数: g%%j"Cz1 6.6.6 针形合成 OHK]=DH:M 6.7 我应该使用哪种技术? `+ 5,=S 6.7.1 细化 fB`7f
$[ 6.7.2 合成 l]F)]>AE 6.8 参考文献 \><v1x>; 7 导纳图和其他工具 z99jW<*0 7.1 介绍 \!s0H_RJY 7.2 导纳变换 d5l].%~ 7.2.1 四分之一波长规则 lj"72 7.2.2 导纳轨迹图 cp L ' 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 Z
lR2 7.4 全介质抗反射膜的应用 (x/xqDpmBS 7.5 对称周期结构 ;)' 7.6 参考文献 z0xw0M+X 8.典型的镀膜实例 G&d | |