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【官方培训】2019年 Zemax成像与高级成像培训_04月北京站
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zemax官方
2019-01-30 13:06
【官方培训】2019年 Zemax成像与高级成像培训_04月北京站
Zemax成像设计培训课程 & 高级成像设计培训课程
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Zemax 中国将于 2019 年 04 月在北京举办官方培训课程,现已正式启动报名,欢迎广大新老客户报名参加!
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主办:Zemax China
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时间:成像设计:2019年04月22~24日 | 高级成像设计:2019年04月25~26日
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地点:北京
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课程安排:
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成像设计
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本课程为3 天中高阶成像设计课程,课程主要覆盖序列成像设计、优化技巧、像质评价、热分析、公差分析、像差概念及Zemax 图谱、玻璃材料定义、坐标变换等,及相应的实例镜头、棱镜建模等。
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上课时间
第1天
第2天
第3天
9:00-10:30
OpticStudio 软件功能介绍;
T8+A`z=tSb
材料库、镜头库介绍;
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如何定义新材料;
Q= IA|rN
如何使用镜头库;
MTF;
a]XQM$T$
双高斯镜头设计及优化;
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像质评价与图像模拟;
分析工具应用;
T;K,.a8bU
寻找最佳非球面;
+X6xCE
曲率套样板;
Qfx(+=|
镜头匹配工具;
10:30-10:45
茶歇
茶歇
茶歇
10:45-12:00
像差理论介绍;
b-R!oP+vP
Zemax 像差分析图谱;
坐标变换;
Hv2t_QjKT
坐标断点面的使用技巧;
OEmz`JJ67
序列模式棱镜建模;
"Opk:;.
扫描反射镜设计实例;
Zemax公差分析功能;
x LR 2H>B}
加工误差、装配误差;
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灵敏度分析;
]7" W(
反灵敏度分析;
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