| xunjigd |
2018-12-10 16:56 |
VirtualLab：高NA物镜聚焦的分析
摘要 _Gy*" ;E
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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 Sv H=P !`+
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建模任务 S<Q6b_D
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概观 FXFQ@q*}v
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光线追迹仿真 il-v>GJU7{
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•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 ;W#G<M&n'
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•点击Go！ SDV} bN
•获得3D光线追迹结果。 3}$ L4U
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光线追迹仿真 2P9h x5PiV
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•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 C s%'Af
•单击Go！ xJ%b<y{@
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 e )\s0#
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场追迹仿真 av
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 bQ0m=BzF
•单击Go！ &#g;=jZ
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场追迹结果（摄像机探测器） ImklM7A
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 {Ca#{LeLk
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 @< },- u
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 ngEjbCV+
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场追迹结果（电磁场探测器） v"_hWJ)
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•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 8Z/P<u
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文件信息 L4}C%c\p*
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更多阅览 u Dm=W36
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- Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination E n{vCN
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（来源：讯技光电）
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