| xunjigd |
2018-12-10 16:56 |
VirtualLab：高NA物镜聚焦的分析
摘要 X(/W|RY{@
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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 ' e-FJ')|
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[attachment=89262] _m@QeO'yh
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建模任务 ?g!py[CrE
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[attachment=89263] 7D4P= $UJp
概观 /QG8\wX E2
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[attachment=89264] op[5]tjL
光线追迹仿真 4"0` J
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•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 2 rne=L
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•点击Go！ 0F)Y[{h<
•获得3D光线追迹结果。 ;g*ab
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光线追迹仿真 ?~ ;G)5
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JZ'`.yK:
•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 U k5jZ|
•单击Go！ GAV| x ]R
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 36e !je
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场追迹仿真 k?KKb
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 $x JVUV
•单击Go！ O p A
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场追迹结果（摄像机探测器） ORD@+ {
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 dnSjXyjFB
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 POdk0CuX
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 Tl6%z9rY@
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[attachment=89268] h/W@R_Y
Ox#%Dm2
场追迹结果（电磁场探测器） E`}KVi57
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ZaBGkDX5
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 sg RY`U.C
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文件信息 ,#@B3~giC
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更多阅览 f^\qDvPur
- Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer /"Ws3.p
- Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination WB<_AIt+
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（来源：讯技光电）
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