| xunjigd |
2018-12-10 16:56 |
VirtualLab：高NA物镜聚焦的分析
摘要 B] nu \!
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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 LLV1W0VO=P
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[attachment=89262] 4#Rq}/h
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建模任务 Y$4dqn
D/`b ~ Yl
[attachment=89263] QUb#84
概观 4_KRH1
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[attachment=89264] (GJX[ $@
光线追迹仿真 _|C T|q
dXMO{*MF{H
•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 @wTRoMHPQ
NGp^/PZX0
•点击Go！ & eIwlynm
•获得3D光线追迹结果。 S rT=XX,
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[attachment=89265] N
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光线追迹仿真 q+1SU 6x'm
(U_ dPf
_OY<Hb3%M
•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 Aw,#oG {N
•单击Go！ dMDSyd <(
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 Rap =&
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[attachment=89266] <;q)V%IUz
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场追迹仿真 * <l9 d
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 c]3^2Ag,
•单击Go！ yi Ausl;
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[attachment=89267] 8
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场追迹结果（摄像机探测器） D ]zpG
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 3=Va0}#&
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 0qk.NPMB0
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 tbq_ Rg7s
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[attachment=89268] hZDv5]V:0
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场追迹结果（电磁场探测器） mqv!"rk'w
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A' h7D
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•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 ]qNPOnlp
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[attachment=89269] `^1&Qz >
文件信息 c69M
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[attachment=89270] d$*SVd :
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更多阅览 Wg C*bp{
- Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer <B =!ZC=n
- Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination -Drm4sTpDb
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（来源：讯技光电）
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