| xunjigd |
2018-12-10 16:56 |
VirtualLab：高NA物镜聚焦的分析
摘要 ]9 @F~)
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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 mrw=T.
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建模任务 53[~bwD
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[attachment=89263] |vw"[7_aS
概观 #{\%rWnCm
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[attachment=89264] Ywwu0 .H<
光线追迹仿真 L+i(TM=
9th,VnD0
•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 p fI"36]F
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•点击Go！ J Px~VnE%%
•获得3D光线追迹结果。 =y!$/(H
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光线追迹仿真 P ! _rEV
J_4!2v!6e
@!1x7%]G
•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 Dg?:/=,=9r
•单击Go！ sL$:"=
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 _/tHD]um
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场追迹仿真 %xyou:~0zs
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WA&!;Zq
•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 +csi[c)3E
•单击Go！ U3dwI:cG
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场追迹结果（摄像机探测器） Sxh]R+Xb
XY3v_5~/1F
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 gK'1ZLdZ2
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 K 42K!8$
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 WL"^ >[Vq
Y<%@s}zc
[attachment=89268] &n8_0|gK
/$p6'1P8
场追迹结果（电磁场探测器） _dhgAx-H)h
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•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 v : OR
Su/6Q$0 t
[attachment=89269] 1`qMj0Y_
文件信息 2OVRf0.R~
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[attachment=89270] GE% Z9# E
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更多阅览 i\rDu^VQ
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（来源：讯技光电）
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