| xunjigd |
2018-12-10 16:56 |
VirtualLab:高NA物镜聚焦的分析
摘要 $$T a <t,lq 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 e#ne 5 58PL@H~@0 [attachment=89262] jq(rnbV rxeOT# N} 建模任务 d.y-R#F_] YcM0A~< [attachment=89263] ~mT([V 概观 ]!WD">d: i MF-TR [attachment=89264] `OWwqLoeA 光线追迹仿真 /)V8X#, .R&jRtb/E •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 2-rfFqpe OlX
otp8 •点击Go! TcH7!fUj •获得3D光线追迹结果。 lkQ(?7 BHS8MV L@ [attachment=89265] GOX2'N\h^ 5&}p'6*K 光线追迹仿真 mHc5NkvQC nO8e'&| @.h;k4TD •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 ohPDknHp •单击Go! 9Hs5uBe •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 (5)DQ1LaF *,e`. [attachment=89266] b5l;bXp] -K0!wrKC 场追迹仿真 P A$jR
fQ F?4&qbdD f}Uf*Bp •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 W<Asr@ •单击Go! wU&vkb)k B\quXE) [attachment=89267] j$r2=~1 3:3>k8 场追迹结果(摄像机探测器) #6 M3BF 'I@l$H 3d(:Y6D) •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 xDn#=%~+x •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 R(#ZaFuo[ Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 f+4j ^y} R rp-SR?O [attachment=89268] jR^_1bu
KH9D}, 场追迹结果(电磁场探测器) '-rRD\"q U;FJSy %kV #UzL •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 \mNN ) K@ LDj*~\vsq [attachment=89269] 8]l(D 文件信息 'E4}++\ B[r04YGh [attachment=89270] '~AR|8q? g
?{o2gG 更多阅览 ??,/85lM - Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer J,t`ilT - Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination A%.ZesjAx dg@'5.ApPu
(来源:讯技光电)
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