| xunjigd |
2018-12-10 16:56 |
VirtualLab：高NA物镜聚焦的分析
摘要 SXA`o<Ma
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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 ;Tn $c70
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建模任务 6zJ<2 7
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概观 7({"dW
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光线追迹仿真 %`k O\q_
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•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 *kliI]B F]
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•点击Go！ 7kQZ$sLc
•获得3D光线追迹结果。 l f< ?k
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光线追迹仿真 cVx#dDdA
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•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 0gI^GJN%Y!
•单击Go！ LSR{ N|h+)
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 IfK% i/J
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场追迹仿真 0Y%u[i/
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|KV|x ^fJ
•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 d)_f I*:f
•单击Go！ @Kx@ 2#~b
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场追迹结果（摄像机探测器） {0&'XA=j
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 5uVSbo.
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 =JqKdLH
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 cgQ4 JY/6
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场追迹结果（电磁场探测器） t_VF=B^LuR
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•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 "kS(b4^
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文件信息 0q@U>#
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