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zemax官方 2018-07-30 17:16

【官方培训】2018年 Zemax成像设计及照明设计与杂散光分析培训_09月上海站

Zemax成像设计培训课程 & 照明设计与杂散光分析培训课程   LCXO>MXN  
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Zemax中国将于 2018 年 9 月在上海举办官方培训课程,现已正式启动报名,欢迎广大新老客户报名参加! lM\LN^f5*  
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主办:Zemax China     2.}R  
时间:成像设计:2018年09月12~14日     |     照明设计与杂散光分析:2018年09月17~19日     PZ:u_*Vu`  
地点:上海 M"=n>;*X  
讲师:Heng Li ——
Zemax 亚太区工程经理;Julia Zhang —— Zemax 光学工程师   JL}\*  
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课程安排: sfp,Lq`  
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成像设计 ?{o/I\\  
本课程为3 天中高阶成像设计课程,课程主要覆盖序列成像设计、优化技巧、像质评价、热分析、公差分析、像差概念及Zemax 图谱、玻璃材料定义、坐标变换等,及相应的实例镜头、棱镜建模等。 @mw "W{  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio 软件功能介绍;  hRaf#  
材料库、镜头库介绍; '6Qy/R  
如何定义新材料; RR1A65B  
如何使用镜头库;
MTF; dtM[E`PL  
双高斯镜头设计及优化; XCB?ll*^  
像质评价与图像模拟;
分析工具应用; CDMfa&;T  
寻找最佳非球面; [y) Fc IK}  
曲率套样板; ,reJ(s  
镜头匹配工具;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00像差理论介绍; # jYpVc{]  
Zemax 像差分析图谱;
坐标变换; s}M= oe  
坐标断点面的使用技巧; }pNX@C#De  
序列模式棱镜建模; R U"/2i  
扫描反射镜设计实例;
Zemax公差分析功能; xtV[p4U  
加工误差、装配误差; $*MCU nl  
灵敏度分析; 4FeEGySow  
反灵敏度分析; >hMUr*j  
蒙特卡罗分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00优化; wWW~_zP0  
局部优化; 9G?ldp8  
全局优化; AH7L.L+$M  
锤形优化; &!.HuRiuC  
优化函数架构技巧; r >{G`de4  
单透镜优化实例; U SOKDDm  
双胶合优化实例;
科勒照明综合设计实例; S[M4ukYK  
投影系统设计; u.|~   
集光系统设计;
公差评价标准; UP1?5Q=H]Q  
公差操作数; d<p2/aA  
补偿变量的使用; hP?fMW$V  
单透镜公差分析; F:FMeg  
库克镜头公差分析;  aA*9,  
分析报告查看说明;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00热分析及衍射光学元件的使用;   i`U: gw  
实例设计及分析; 6o3T;h  
小结及答疑;
暗盒系统介绍; 6/ g%\ka  
小结及答疑;
公差脚本的使用; T(X:Yw  
镜头出图、CAD出图; y+mElG$F  
小结及答疑
照明设计与杂散光分析 U)jUq_LX  
这是一门基于OpticStudio非序列模式的3天课程,将系统性地介绍非序列模式的建模逻辑、优化方法、杂散光分析、荧光散射等主题。 vL_zvX A  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio非序列光线追迹; ^%bBW6eZ  
光源与探测器;
案例:背光模组; ^i%A7pg  
复杂几何模型的建立;
转化序列模式为非序列; AMlV%U#  
杂散光分析入门;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00光度学、照度学理论基础;CAD导入与导出; <)m%*9{  
光偏振与膜层;
表面散射; "Tbnxx]J  
案例:Maksutov望远镜杂散光分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00光源模型; X33v:9=  
光谱模型; S0w> hr  
真彩色数据探测;
物体表面属性; :Z`4j  
光线分裂;
非序列模式鬼像分析; oN2=DYC41  
散射指向性与重点采样;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00优化:反射抛物面;   AY2:[ 5cm  
优化:位图文件优化;
非序列系统设置; ,TC~~EWq  
非序列系统错误排查;
体散射; ?qHF}k|  
荧光模型
TYS\95<  
_g|acBF  
特色:     J%v5d*$.  
Ÿ  互动式案例教学,理论实例相结合,指导实际软件操作练习;     4I~i)EKy6  
Ÿ  原厂正版全新教材,提供使用最新版软件最高版本;     )*1.eObhL  
Ÿ  颁发Zemax原厂培训证书;     =G>(~+EA  
)q^ Bj$  
培训费用(RMB):成像设计:5980元/人     |     照明设计与杂散光分析:5980元/人     ~uaP$*B[  
Ÿ  费用均含原厂正版教材、发票;     \P?ToTTV  
Ÿ  开具6%的增值税发票,开票名称:Zemax技术服务费。     :X>DkRP  
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报名方式:     ," R>}kPli  
Ÿ  发送 报名Zemax官方培训+姓名、电话、公司名 邮件至:china@zemax.com;我们收到邮件后会立即联系您。     NrJzVGeS  
Ÿ  或 拨打 Zemax热线:021-6271 3200  索要报名表以及培训具体信息。   Ek .3  
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Zemax China | 斯迈光学技术咨询(上海)有限公司
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       Zemax销售支持热线:+86 21 6271-3200            
Zemax技术支持热线:+86 21 6271-3255
中文支持邮箱:china@zemax.com
地址:上海市南京西路1539号静安嘉里中心办公楼二座2905室
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