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zemax官方 2018-07-30 17:16

【官方培训】2018年 Zemax成像设计及照明设计与杂散光分析培训_09月上海站

Zemax成像设计培训课程 & 照明设计与杂散光分析培训课程   wIv_Z^% V  
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Zemax中国将于 2018 年 9 月在上海举办官方培训课程，现已正式启动报名，欢迎广大新老客户报名参加！ *<PQp   
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主办：Zemax China     Q!%4Iq%jr  
时间：成像设计：2018年09月12~14日     |     照明设计与杂散光分析：2018年09月17~19日     TfD]`v`]   
地点：上海 ;<JyA3i^V,  
讲师：Heng Li —— Zemax 亚太区工程经理；Julia Zhang —— Zemax 光学工程师   bvf}r ,`Q7  
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课程安排： ~JJuM  
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成像设计 G\y:O9(  
本课程为3 天中高阶成像设计课程，课程主要覆盖序列成像设计、优化技巧、像质评价、热分析、公差分析、像差概念及Zemax 图谱、玻璃材料定义、坐标变换等，及相应的实例镜头、棱镜建模等。 oA^aT:o +  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio 软件功能介绍； ^r u1QDT  
材料库、镜头库介绍； u*I=.  
如何定义新材料； : "|M  
如何使用镜头库；		MTF； l Ikh4T6i  
双高斯镜头设计及优化； Hl,.6 >F?  
像质评价与图像模拟；		分析工具应用； z$VA]tI(  
寻找最佳非球面； Q -!,yCu  
曲率套样板； hP=^JH  
镜头匹配工具；
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00像差理论介绍； FCC9Ht8U?  
Zemax 像差分析图谱；		坐标变换； X}~5%B(  
坐标断点面的使用技巧； na;U]IK  
序列模式棱镜建模； %nTgrgS(=  
扫描反射镜设计实例；		Zemax公差分析功能； ~w&P]L\dB  
加工误差、装配误差； U#I 8Rd I,  
灵敏度分析； ]wH,534  
反灵敏度分析； vo9DmW  
蒙特卡罗分析；
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00优化； ?R  4sH  
局部优化； vtvF)jlX  
全局优化； Hh_Yd)  
锤形优化； )jM' x&Vg  
优化函数架构技巧； i@=0fHiZQ  
单透镜优化实例； y"Fp4$qb  
双胶合优化实例；		科勒照明综合设计实例； *o}LI6_u  
投影系统设计； W 6_~.m"b  
集光系统设计；		公差评价标准； r#ISIgJXG  
公差操作数； "f/Su(6{0  
补偿变量的使用； O "jX|5  
单透镜公差分析； Z /#&c  
库克镜头公差分析； Vv"JN?dHi  
分析报告查看说明；
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00热分析及衍射光学元件的使用；   z=}@aX[  
实例设计及分析； _Eus<c  
小结及答疑；		暗盒系统介绍； O F$0]V  
小结及答疑；		公差脚本的使用； 5pF4{Jd1  
镜头出图、CAD出图； 'y(;:Kc  
小结及答疑
照明设计与杂散光分析 T6gugDQ~.  
这是一门基于OpticStudio非序列模式的3天课程，将系统性地介绍非序列模式的建模逻辑、优化方法、杂散光分析、荧光散射等主题。 Q\pTyNAYn  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio非序列光线追迹； 9n#Q1Xq  
光源与探测器；		案例：背光模组； 3?x4+ b  
复杂几何模型的建立；		转化序列模式为非序列； g"Eg=CU  
杂散光分析入门；
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00光度学、照度学理论基础；CAD导入与导出； 3#{{+5G  
光偏振与膜层；		表面散射； cs'ylGH  
案例：Maksutov望远镜杂散光分析；
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00光源模型； l98.Hb7  
光谱模型； >/*wlY!E  
真彩色数据探测；		物体表面属性； "|{3V:e>a  
光线分裂；		非序列模式鬼像分析； 5H (CP  
散射指向性与重点采样；
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00优化：反射抛物面；   svt%UE|_:$  
优化：位图文件优化；		非序列系统设置； |'w_5?|4  
非序列系统错误排查；		体散射； 5Ocd2T'  
荧光模型
4NY00d/R  
 .T*K4m{b0  
特色：     N! 7r~B   
Ÿ  互动式案例教学，理论实例相结合，指导实际软件操作练习；     (8M^|z}q  
Ÿ  原厂正版全新教材，提供使用最新版软件最高版本；     X67.%>#3  
Ÿ  颁发Zemax原厂培训证书；     XCQS_'D  
D}n&`^1X+  
培训费用（RMB）：成像设计：5980元/人     |     照明设计与杂散光分析：5980元/人     K+3dwQo  
Ÿ  费用均含原厂正版教材、发票；     1`t4wD$/  
Ÿ  开具6%的增值税发票，开票名称：Zemax技术服务费。     ?^F*M#%?  
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报名方式：     XkB^.[B  
Ÿ  发送 报名Zemax官方培训+姓名、电话、公司名 邮件至：china@zemax.com；我们收到邮件后会立即联系您。     \,:3bY_d  
Ÿ  或 拨打 Zemax热线：021-6271 3200  索要报名表以及培训具体信息。   'ZyHp=RN)  
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Zemax China | 斯迈光学技术咨询(上海)有限公司
   2_^{Vez@I  
       Zemax销售支持热线：+86 21 6271-3200            
Zemax技术支持热线：+86 21 6271-3255
中文支持邮箱：china@zemax.com
地址：上海市南京西路1539号静安嘉里中心办公楼二座2905室
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