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zemax官方 2018-07-30 17:16

【官方培训】2018年 Zemax成像设计及照明设计与杂散光分析培训_09月上海站

Zemax成像设计培训课程 & 照明设计与杂散光分析培训课程   xzz@Wc^_  
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Zemax中国将于 2018 年 9 月在上海举办官方培训课程，现已正式启动报名，欢迎广大新老客户报名参加！ wp8-(E^  
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主办：Zemax China     (?uK  
时间：成像设计：2018年09月12~14日     |     照明设计与杂散光分析：2018年09月17~19日     ?5Z-w  
地点：上海 cuG;1,?b  
讲师：Heng Li —— Zemax 亚太区工程经理；Julia Zhang —— Zemax 光学工程师   -KbO[b\V  
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课程安排： J+0 ?e9  
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成像设计 b)XGr?  
本课程为3 天中高阶成像设计课程，课程主要覆盖序列成像设计、优化技巧、像质评价、热分析、公差分析、像差概念及Zemax 图谱、玻璃材料定义、坐标变换等，及相应的实例镜头、棱镜建模等。 xPT$d,~"  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio 软件功能介绍； >>R)?24,<  
材料库、镜头库介绍； V^.Z&7+E`_  
如何定义新材料； t':*~b{V@7  
如何使用镜头库；		MTF； 26_PFHQu4  
双高斯镜头设计及优化； 26zif  
像质评价与图像模拟；		分析工具应用； YP"%z6N@v  
寻找最佳非球面； Lrx"Hn{  
曲率套样板； b0%#=KMi  
镜头匹配工具；
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00像差理论介绍； WpI5C,3Z!l  
Zemax 像差分析图谱；		坐标变换； tx3p, X  
坐标断点面的使用技巧； 9p02K@wkD  
序列模式棱镜建模； RvVF^~u  
扫描反射镜设计实例；		Zemax公差分析功能； A}pe>ja   
加工误差、装配误差； w+%p4VkA<r  
灵敏度分析； 7S&O {Q7)  
反灵敏度分析； `i!-@WN"  
蒙特卡罗分析；
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00优化； E9 #o0Di  
局部优化； ONcS,oHW  
全局优化； j\.pS^+  
锤形优化； JK XIxw>q  
优化函数架构技巧； kc2E4i  
单透镜优化实例； ER]C;DYX  
双胶合优化实例；		科勒照明综合设计实例； b;mpZ|T.  
投影系统设计； NlG!_D"(y  
集光系统设计；		公差评价标准； qP%[ nY  
公差操作数； a 6fH*2E  
补偿变量的使用； <&M5#:u  
单透镜公差分析； 9fSX=PVRmQ  
库克镜头公差分析； l`K5fk  
分析报告查看说明；
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00热分析及衍射光学元件的使用；    mxvV~X %  
实例设计及分析； =PBJ+"DQs  
小结及答疑；		暗盒系统介绍； +w3k_^X9c  
小结及答疑；		公差脚本的使用； #0qMYe>Y  
镜头出图、CAD出图； U@:iN..  
小结及答疑
照明设计与杂散光分析 uUG&At  
这是一门基于OpticStudio非序列模式的3天课程，将系统性地介绍非序列模式的建模逻辑、优化方法、杂散光分析、荧光散射等主题。 C%Op[H3  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio非序列光线追迹； zpxy X|  
光源与探测器；		案例：背光模组； !%C&hH\  
复杂几何模型的建立；		转化序列模式为非序列； a)L=+Z  
杂散光分析入门；
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00光度学、照度学理论基础；CAD导入与导出； v".u#G'u  
光偏振与膜层；		表面散射； N aiZU  
案例：Maksutov望远镜杂散光分析；
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00光源模型； g5&,l  
光谱模型； !3at(+4  
真彩色数据探测；		物体表面属性； 5th\_n}N2/  
光线分裂；		非序列模式鬼像分析； oxqD/fY  
散射指向性与重点采样；
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00优化：反射抛物面；   ^UpwVKdP  
优化：位图文件优化；		非序列系统设置； o|a]Q  
非序列系统错误排查；		体散射； QN m.8c$  
荧光模型
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特色：     Op<|Oz$Q|l  
Ÿ  互动式案例教学，理论实例相结合，指导实际软件操作练习；     w~9=6|_  
Ÿ  原厂正版全新教材，提供使用最新版软件最高版本；     3WdANR  
Ÿ  颁发Zemax原厂培训证书；     =:'a)o  
nxYp9,c"  
培训费用（RMB）：成像设计：5980元/人     |     照明设计与杂散光分析：5980元/人     =gr3a,2  
Ÿ  费用均含原厂正版教材、发票；     .7GAGMNS  
Ÿ  开具6%的增值税发票，开票名称：Zemax技术服务费。     (svd~he2  
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报名方式：     u%Yr&u  
Ÿ  发送 报名Zemax官方培训+姓名、电话、公司名 邮件至：china@zemax.com；我们收到邮件后会立即联系您。     3UX})mW  
Ÿ  或 拨打 Zemax热线：021-6271 3200  索要报名表以及培训具体信息。   s*pgR=dZZ  
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Zemax China | 斯迈光学技术咨询(上海)有限公司
   wms8z  
       Zemax销售支持热线：+86 21 6271-3200            
Zemax技术支持热线：+86 21 6271-3255
中文支持邮箱：china@zemax.com
地址：上海市南京西路1539号静安嘉里中心办公楼二座2905室
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