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zemax官方 2018-07-30 17:16

【官方培训】2018年 Zemax成像设计及照明设计与杂散光分析培训_09月上海站

Zemax成像设计培训课程 & 照明设计与杂散光分析培训课程   g+xcKfN{  
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Zemax中国将于 2018 年 9 月在上海举办官方培训课程,现已正式启动报名,欢迎广大新老客户报名参加! '"h}l`  
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主办:Zemax China     q3|SZoN  
时间:成像设计:2018年09月12~14日     |     照明设计与杂散光分析:2018年09月17~19日     SjcX|=S  
地点:上海  \7e4t  
讲师:Heng Li ——
Zemax 亚太区工程经理;Julia Zhang —— Zemax 光学工程师   `6PBV+]Vm3  
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课程安排: L\"eE'A  
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成像设计 fr8';Jm  
本课程为3 天中高阶成像设计课程,课程主要覆盖序列成像设计、优化技巧、像质评价、热分析、公差分析、像差概念及Zemax 图谱、玻璃材料定义、坐标变换等,及相应的实例镜头、棱镜建模等。 BU|m{YZ$  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio 软件功能介绍; INRRA  
材料库、镜头库介绍; v2YU2-X[  
如何定义新材料; SUL\|z`5  
如何使用镜头库;
MTF; xJOp ~fKG  
双高斯镜头设计及优化; V h5\'Sn  
像质评价与图像模拟;
分析工具应用; [lz H%0 V  
寻找最佳非球面; "Q{7X[$$^  
曲率套样板; Mv:\T%]  
镜头匹配工具;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00像差理论介绍; zY].ZS=7  
Zemax 像差分析图谱;
坐标变换; \#gguq?[  
坐标断点面的使用技巧; aLwEz}-   
序列模式棱镜建模; 'yh)6mid  
扫描反射镜设计实例;
Zemax公差分析功能; M-8d*#_P  
加工误差、装配误差; {<cgeH  
灵敏度分析; P7 5@Yu(  
反灵敏度分析; %-|$7?~   
蒙特卡罗分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00优化; D<[kbt 5^7  
局部优化; WISK-z  
全局优化; =~q$k  
锤形优化; f^Q)lIv  
优化函数架构技巧; M1*x47bN  
单透镜优化实例; X#X/P  
双胶合优化实例;
科勒照明综合设计实例; #=Whh 9-d  
投影系统设计; -)DxF<8B  
集光系统设计;
公差评价标准; }xgs]\^,73  
公差操作数; \^lDd~MWG  
补偿变量的使用; 8C I\NR{x8  
单透镜公差分析; vI(CX]o  
库克镜头公差分析; Q0L1!}w   
分析报告查看说明;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00热分析及衍射光学元件的使用;   Jb)xzUhES  
实例设计及分析; 1([?EfC  
小结及答疑;
暗盒系统介绍; M0]J `fL@  
小结及答疑;
公差脚本的使用; Yv[<c!\   
镜头出图、CAD出图; 0Q]{r )  
小结及答疑
照明设计与杂散光分析 g c<Y?a-  
这是一门基于OpticStudio非序列模式的3天课程,将系统性地介绍非序列模式的建模逻辑、优化方法、杂散光分析、荧光散射等主题。 .RbPO#(  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio非序列光线追迹; ~6[3Km|2  
光源与探测器;
案例:背光模组; tHFUV\D;,  
复杂几何模型的建立;
转化序列模式为非序列; }'uV{$  
杂散光分析入门;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00光度学、照度学理论基础;CAD导入与导出; R-Y 7I  
光偏振与膜层;
表面散射; 6-\M }xq?  
案例:Maksutov望远镜杂散光分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00光源模型; Y*S(uqM  
光谱模型; Ls&-8  
真彩色数据探测;
物体表面属性; ; Ji3|=4u  
光线分裂;
非序列模式鬼像分析; $-39O3  
散射指向性与重点采样;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00优化:反射抛物面;   $;)A:*e  
优化:位图文件优化;
非序列系统设置; Zy>y7O(,  
非序列系统错误排查;
体散射; ~hT(uxU/  
荧光模型
BD mF+  
=b Q\BY#  
特色:     gi8f)MNP?~  
Ÿ  互动式案例教学,理论实例相结合,指导实际软件操作练习;     gbu)bqu2x  
Ÿ  原厂正版全新教材,提供使用最新版软件最高版本;     cq$ _$jRx  
Ÿ  颁发Zemax原厂培训证书;     Yr>7c1FZi  
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培训费用(RMB):成像设计:5980元/人     |     照明设计与杂散光分析:5980元/人     v/,,z+%-  
Ÿ  费用均含原厂正版教材、发票;     so@ijl4{Z  
Ÿ  开具6%的增值税发票,开票名称:Zemax技术服务费。     Pe@*')o*  
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报名方式:     2>xEE  
Ÿ  发送 报名Zemax官方培训+姓名、电话、公司名 邮件至:china@zemax.com;我们收到邮件后会立即联系您。     cfHtUv  
Ÿ  或 拨打 Zemax热线:021-6271 3200  索要报名表以及培训具体信息。   ,F=FM>o  
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Zemax China | 斯迈光学技术咨询(上海)有限公司
   O 2+taB  
       Zemax销售支持热线:+86 21 6271-3200            
Zemax技术支持热线:+86 21 6271-3255
中文支持邮箱:china@zemax.com
地址:上海市南京西路1539号静安嘉里中心办公楼二座2905室
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