膜外⽩雾 ep2k%?CX 1
现象：镀膜完成后，表⾯有⼀些淡淡的⽩雾，⽤丙酮或混合液擦拭，会有越擦越严重的现象。 |&FkksNAl\
⽤氧化铈粉擦拭，可以擦掉或减轻，（⼜称：可擦拭压克） ~~v3p>z Rr
分析：膜外⽩雾的成因较为复杂，可能的成因有： 9? 0^ap,T
① 膜结构问题：外层膜的柱状结构松散，外层膜太粗糙； :^kZ.6Q@
② 蒸发⾓过⼤，膜结构粗糙。 >sWp ?
③ 温差：镜⽚出罩时内外温差过⼤ &Q>k7L!
④ 潮⽓；镜⽚出罩后摆放环境的潮⽓
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⑤ 真空室内POLYCOLD解冻时⽔汽过重 Q A<Jr5Ys
⑥ 蒸镀中充氧不完全，膜结构不均匀 h{ AII
⑦ 膜与膜之间的应⼒ W7U2Mq Q
改善思路：膜外⽩雾成因很多，但各有些特征，尽量对症下药。主要思路，⼀是把膜做的致密 ~ ip,Nl
光滑些不容易吸附，⼆是改善环境减少吸附的对象。 fjU8gV
改善对策： \D e{9 v
㈠ 改善膜系，外层加⼆氧化硅，使膜表⾯光滑，不易吸附。改善镜⽚出罩时的环境（⼲燥、清 nq6@6GRG
洁） )xbHCoU,
㈡ 降低出罩时的镜⽚温度（延长在真空室的冷却时间）减少温差、降低应⼒。 Olh<, p+x
㈢ 改善充氧（加⼤），改善膜结构。 poToeagZ~Q
㈣ 适当降低蒸发速率，改善柱状结构 G *-b}f
㈤ 离⼦辅助镀膜，改善膜结构 c&Ay gqN
㈥ 加上polycold解冻时的⼩充⽓阀（其功能是及时带⾛⽔汽） ]` km jn
㈦ 从蒸发源和夹具上想办法改善蒸发⾓。 s (zL
㈧ 改善基⽚表⾯粗糙度。 *QLI3B9V
㈨ 注意polycold解冻时的真空度。 '=Rs/EDME
膜内⽩雾 Fxm$9(Y
⽩雾形成在膜内，⽆法⽤擦拭⽅法祛除。 E=>FjCsu<-
可能的成因： Vl:^>jTki
① 基⽚脏，附着前⼯程的残留物 ||;hci O
② 镜⽚表⾯腐蚀污染 @>p <3_Y1
③ 膜料与膜料之间、膜料与基⽚之间的匹配。 ](&{: >RNJ
④ 氧化物充氧不够。 :.$3va Z@
⑤ 基⽚进罩前（洗净后）受潮⽓污染 CC L
⑥ 洗净或擦拭不良，洗净痕迹、擦拭痕迹 <Dwar> }
⑦ 真空室脏、⽔⽓过重 sOU1n
⑧ 环境湿度⼤ ',:*f8Jk
改善思路：基⽚本⾝的问题可能是主要的，镀膜是尽量弥补，镀膜本⾝最⼤的可能是膜料匹配 %`r?c<P}
问题。 LN@F+CyDc
改善对策： DP3PYJ%+B
㈠改进膜系，第⼀层不⽤氧化锆类会产生白晕的膜料。 hJZV}a|
㈡尽量减少真空室开门时间，罩与罩之间在最短的时间内做好真空室的清洁、镀膜准备⼯作。 PK0%g$0
㈢真空室在更换护板、清洁后，最好能空罩抽真空烘烤⼀下，更换的护板等真空室部件必须⼲ ^-,xE>3o
燥、⼲净。 Bs O+NP
㈣改善环境 6f\Lf?vF
㈤妥善保护进罩前在伞⽚上的镜⽚，免受污染。 wS%Q<uK
㈥改善洗净、擦拭效果。 ;xzUE`uUfJ
㈦改善膜匹配（考虑第⼀层⽤Al2O3） f'
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㈧改善膜充氧和蒸发速率（降低） ZuS0 DPS`L
㈨加快前⼯程的流程。前⼯程对已加⼯光⾯的保护加强。 PX<J&r x
㈩抛光加⼯完成的光⾯，必须⽴即清洁⼲净，不能有抛光粉或其他杂质附着⼲结。
