膜外⽩雾 H=yD}!j
现象：镀膜完成后，表⾯有⼀些淡淡的⽩雾，⽤丙酮或混合液擦拭，会有越擦越严重的现象。 uF^ +}Y ZT
⽤氧化铈粉擦拭，可以擦掉或减轻，（⼜称：可擦拭压克） a)Wf* <B
分析：膜外⽩雾的成因较为复杂，可能的成因有： g#70Sg*d
① 膜结构问题：外层膜的柱状结构松散，外层膜太粗糙； iK.MC%8?
② 蒸发⾓过⼤，膜结构粗糙。 ;V%lFP3#
③ 温差：镜⽚出罩时内外温差过⼤ !HB,{+25
④ 潮⽓；镜⽚出罩后摆放环境的潮⽓ [C d 2L&9
⑤ 真空室内POLYCOLD解冻时⽔汽过重 F_I! +
⑥ 蒸镀中充氧不完全，膜结构不均匀 #lB[]2]N
⑦ 膜与膜之间的应⼒ ;^
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改善思路：膜外⽩雾成因很多，但各有些特征，尽量对症下药。主要思路，⼀是把膜做的致密 K=B[MT#V{2
光滑些不容易吸附，⼆是改善环境减少吸附的对象。 _nTjCN625
改善对策： +T4< }+ n
㈠ 改善膜系，外层加⼆氧化硅，使膜表⾯光滑，不易吸附。改善镜⽚出罩时的环境（⼲燥、清 3cfkJ|fuwe
洁） Stp ? ?
㈡ 降低出罩时的镜⽚温度（延长在真空室的冷却时间）减少温差、降低应⼒。 >w*"LZjTTK
㈢ 改善充氧（加⼤），改善膜结构。 <`N\FM^vo
㈣ 适当降低蒸发速率，改善柱状结构 s*!2oj
㈤ 离⼦辅助镀膜，改善膜结构 #
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㈥ 加上polycold解冻时的⼩充⽓阀（其功能是及时带⾛⽔汽） ^SjGNg^ 7D
㈦ 从蒸发源和夹具上想办法改善蒸发⾓。 &Owt:R)9~
㈧ 改善基⽚表⾯粗糙度。 Ar):D#D
㈨ 注意polycold解冻时的真空度。 I;xT yhUd
膜内⽩雾 6%yr>BFtVV
⽩雾形成在膜内，⽆法⽤擦拭⽅法祛除。 n" MFC
可能的成因： F]ALZxwkz
① 基⽚脏，附着前⼯程的残留物 =1esUO[nx
② 镜⽚表⾯腐蚀污染 ~XZ1,2jA/
③ 膜料与膜料之间、膜料与基⽚之间的匹配。 rg P$\xn-
④ 氧化物充氧不够。 _zpn+XVdQ
⑤ 基⽚进罩前（洗净后）受潮⽓污染 \
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⑥ 洗净或擦拭不良，洗净痕迹、擦拭痕迹 [&zP$i&
⑦ 真空室脏、⽔⽓过重 rzO:9 # d
⑧ 环境湿度⼤ ->j9(76 "
改善思路：基⽚本⾝的问题可能是主要的，镀膜是尽量弥补，镀膜本⾝最⼤的可能是膜料匹配 wZOO#&X#r
问题。 :#gz)r
改善对策： 4 5Ql7~
㈠改进膜系，第⼀层不⽤氧化锆类会产生白晕的膜料。 %d?%^)
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㈡尽量减少真空室开门时间，罩与罩之间在最短的时间内做好真空室的清洁、镀膜准备⼯作。 C'=C^X%
㈢真空室在更换护板、清洁后，最好能空罩抽真空烘烤⼀下，更换的护板等真空室部件必须⼲
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燥、⼲净。 o?%x!m>
㈣改善环境 W"2\vo)
㈤妥善保护进罩前在伞⽚上的镜⽚，免受污染。 y k#:.5H
㈥改善洗净、擦拭效果。 3s|tS2^4
㈦改善膜匹配（考虑第⼀层⽤Al2O3） P,v}Au( UI
㈧改善膜充氧和蒸发速率（降低） gZPJZN/cpz
㈨加快前⼯程的流程。前⼯程对已加⼯光⾯的保护加强。 $[>wJXj3R
㈩抛光加⼯完成的光⾯，必须⽴即清洁⼲净，不能有抛光粉或其他杂质附着⼲结。
