膜外⽩雾 + U[A.^t
现象：镀膜完成后，表⾯有⼀些淡淡的⽩雾，⽤丙酮或混合液擦拭，会有越擦越严重的现象。 @ Fu|et
⽤氧化铈粉擦拭，可以擦掉或减轻，（⼜称：可擦拭压克） CGQ`i
分析：膜外⽩雾的成因较为复杂，可能的成因有： #}.db?[Rv
① 膜结构问题：外层膜的柱状结构松散，外层膜太粗糙； w0pH|$"/P
② 蒸发⾓过⼤，膜结构粗糙。 K#>B'>A \
③ 温差：镜⽚出罩时内外温差过⼤ d2pVO]l YZ
④ 潮⽓；镜⽚出罩后摆放环境的潮⽓ .mMM]*e[0
⑤ 真空室内POLYCOLD解冻时⽔汽过重 L!\I>a5C0G
⑥ 蒸镀中充氧不完全，膜结构不均匀 8{ AzB8xp
⑦ 膜与膜之间的应⼒ N*eZ4s'
改善思路：膜外⽩雾成因很多，但各有些特征，尽量对症下药。主要思路，⼀是把膜做的致密 RJ`F2b sYN
光滑些不容易吸附，⼆是改善环境减少吸附的对象。 "_lSw 3
改善对策： Kg 56.$
㈠ 改善膜系，外层加⼆氧化硅，使膜表⾯光滑，不易吸附。改善镜⽚出罩时的环境（⼲燥、清 V[#jrwhA
洁） Yt FtU;{
㈡ 降低出罩时的镜⽚温度（延长在真空室的冷却时间）减少温差、降低应⼒。 KcHW>IBxdv
㈢ 改善充氧（加⼤），改善膜结构。 ct`89~"
㈣ 适当降低蒸发速率，改善柱状结构 e7-U0rrE
㈤ 离⼦辅助镀膜，改善膜结构 $aEL>, X
㈥ 加上polycold解冻时的⼩充⽓阀（其功能是及时带⾛⽔汽） {a(TT)d
㈦ 从蒸发源和夹具上想办法改善蒸发⾓。 y:m Xv<g
㈧ 改善基⽚表⾯粗糙度。 GujmBb
㈨ 注意polycold解冻时的真空度。 PA Jt M
膜内⽩雾 o<Q~pd#Ip,
⽩雾形成在膜内，⽆法⽤擦拭⽅法祛除。 +5voAx!
可能的成因： " 5=Gu1
① 基⽚脏，附着前⼯程的残留物 nBR4j?':i
② 镜⽚表⾯腐蚀污染 MFRM M%`
③ 膜料与膜料之间、膜料与基⽚之间的匹配。 vLq_l 4l
④ 氧化物充氧不够。 @PutUYz
⑤ 基⽚进罩前（洗净后）受潮⽓污染 s~3"*,3@
⑥ 洗净或擦拭不良，洗净痕迹、擦拭痕迹 QN":Qk(,q
⑦ 真空室脏、⽔⽓过重 dW6sA65<Y
⑧ 环境湿度⼤ @u?m4v{
改善思路：基⽚本⾝的问题可能是主要的，镀膜是尽量弥补，镀膜本⾝最⼤的可能是膜料匹配 arm26YA-,
问题。 H+` Zp
改善对策： {;q
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㈠改进膜系，第⼀层不⽤氧化锆类会产生白晕的膜料。 $/K<hT_
㈡尽量减少真空室开门时间，罩与罩之间在最短的时间内做好真空室的清洁、镀膜准备⼯作。 *y0TtEd;
㈢真空室在更换护板、清洁后，最好能空罩抽真空烘烤⼀下，更换的护板等真空室部件必须⼲ 51xiX90D
燥、⼲净。 U&GSMjqg
㈣改善环境 p[>! ;qI
㈤妥善保护进罩前在伞⽚上的镜⽚，免受污染。 f<<1.4)oSV
㈥改善洗净、擦拭效果。 UZz/v#y~
㈦改善膜匹配（考虑第⼀层⽤Al2O3） 3v\}4)A[
㈧改善膜充氧和蒸发速率（降低） Ko: <@h
㈨加快前⼯程的流程。前⼯程对已加⼯光⾯的保护加强。 m9 1Gc?c
㈩抛光加⼯完成的光⾯，必须⽴即清洁⼲净，不能有抛光粉或其他杂质附着⼲结。
