膜外⽩雾 8; N}d)*O
现象:镀膜完成后,表⾯有⼀些淡淡的⽩雾,⽤丙酮或混合液擦拭,会有越擦越严重的现象。 ]{,=mOk
⽤氧化铈粉擦拭,可以擦掉或减轻,(⼜称:可擦拭压克) 21k-ob1Y
分析:膜外⽩雾的成因较为复杂,可能的成因有: J-{E`ibGN
① 膜结构问题:外层膜的柱状结构松散,外层膜太粗糙; KUn5S&eB
② 蒸发⾓过⼤,膜结构粗糙。 |2]WA'q
③ 温差:镜⽚出罩时内外温差过⼤ op{(mn
④ 潮⽓;镜⽚出罩后摆放环境的潮⽓ l|QFNW[i
⑤ 真空室内POLYCOLD解冻时⽔汽过重 F"0jr7
⑥ 蒸镀中充氧不完全,膜结构不均匀 (C[S?@S
⑦ 膜与膜之间的应⼒ lukRFN>c"
改善思路:膜外⽩雾成因很多,但各有些特征,尽量对症下药。主要思路,⼀是把膜做的致密 xF>w r
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光滑些不容易吸附,⼆是改善环境减少吸附的对象。 bL#TR;*]
改善对策: Rl!WH%;c[X
㈠ 改善膜系,外层加⼆氧化硅,使膜表⾯光滑,不易吸附。改善镜⽚出罩时的环境(⼲燥、清 j%<@uiu
洁) [eik<1=,~?
㈡ 降低出罩时的镜⽚温度(延长在真空室的冷却时间)减少温差、降低应⼒。 &T.P7nJ=
㈢ 改善充氧(加⼤),改善膜结构。 rpI7W?hh
㈣ 适当降低蒸发速率,改善柱状结构 rca"q[,
㈤ 离⼦辅助镀膜,改善膜结构 g/Nj|:3
㈥ 加上polycold解冻时的⼩充⽓阀(其功能是及时带⾛⽔汽) mZ&Mj.0+~
㈦ 从蒸发源和夹具上想办法改善蒸发⾓。 ]6 7wk
㈧ 改善基⽚表⾯粗糙度。 83(P_Y:
㈨ 注意polycold解冻时的真空度。 cG"<*Xi <
膜内⽩雾 I8>1RXz
⽩雾形成在膜内,⽆法⽤擦拭⽅法祛除。 *iN]#)3>
可能的成因: Mj;'vm7#'
① 基⽚脏,附着前⼯程的残留物 )bg,rESM
② 镜⽚表⾯腐蚀污染
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③ 膜料与膜料之间、膜料与基⽚之间的匹配。 Z- Ae'ym
④ 氧化物充氧不够。 ,Yt&PE
⑤ 基⽚进罩前(洗净后)受潮⽓污染 +FK<j;}C7
⑥ 洗净或擦拭不良,洗净痕迹、擦拭痕迹 Hx0,kOh)
⑦ 真空室脏、⽔⽓过重 At|tk
⑧ 环境湿度⼤
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改善思路:基⽚本⾝的问题可能是主要的,镀膜是尽量弥补,镀膜本⾝最⼤的可能是膜料匹配 wi
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问题。 d> AmM!J
改善对策: TzXl ?N
㈠改进膜系,第⼀层不⽤氧化锆类会产生白晕的膜料。 _$lQK{@rY
㈡尽量减少真空室开门时间,罩与罩之间在最短的时间内做好真空室的清洁、镀膜准备⼯作。 3c6)
㈢真空室在更换护板、清洁后,最好能空罩抽真空烘烤⼀下,更换的护板等真空室部件必须⼲ W5;sps
燥、⼲净。 /;ITnG
㈣改善环境 ![n`n(oN
㈤妥善保护进罩前在伞⽚上的镜⽚,免受污染。 / /rWc,c
㈥改善洗净、擦拭效果。 nuA!Jln_
㈦改善膜匹配(考虑第⼀层⽤Al2O3) o~>go_Y
㈧改善膜充氧和蒸发速率(降低) b=l}|)a
㈨加快前⼯程的流程。前⼯程对已加⼯光⾯的保护加强。 wfzb:Aig`
㈩抛光加⼯完成的光⾯,必须⽴即清洁⼲净,不能有抛光粉或其他杂质附着⼲结。