膜外⽩雾 q,% lG$0v
现象：镀膜完成后，表⾯有⼀些淡淡的⽩雾，⽤丙酮或混合液擦拭，会有越擦越严重的现象。 hziPHuK9,
⽤氧化铈粉擦拭，可以擦掉或减轻，（⼜称：可擦拭压克） B ?%g@d-;
分析：膜外⽩雾的成因较为复杂，可能的成因有： "+sl(A3`U
① 膜结构问题：外层膜的柱状结构松散，外层膜太粗糙； \96aHOk<
② 蒸发⾓过⼤，膜结构粗糙。 ~\]l Msk+
③ 温差：镜⽚出罩时内外温差过⼤ Iss)7I
④ 潮⽓；镜⽚出罩后摆放环境的潮⽓ TR J5m?x
⑤ 真空室内POLYCOLD解冻时⽔汽过重 R[vA%G
⑥ 蒸镀中充氧不完全，膜结构不均匀 C>=[fAr mO
⑦ 膜与膜之间的应⼒ ?"Ec#,~
改善思路：膜外⽩雾成因很多，但各有些特征，尽量对症下药。主要思路，⼀是把膜做的致密 $O[$<D%H
光滑些不容易吸附，⼆是改善环境减少吸附的对象。 ];
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改善对策： AbA_s I<;
㈠ 改善膜系，外层加⼆氧化硅，使膜表⾯光滑，不易吸附。改善镜⽚出罩时的环境（⼲燥、清 1{K v
洁） >X58 zlxk
㈡ 降低出罩时的镜⽚温度（延长在真空室的冷却时间）减少温差、降低应⼒。 sogdM{tz\
㈢ 改善充氧（加⼤），改善膜结构。 {4^NZTjd@
㈣ 适当降低蒸发速率，改善柱状结构 k,h
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㈤ 离⼦辅助镀膜，改善膜结构 $L e|4Hj
㈥ 加上polycold解冻时的⼩充⽓阀（其功能是及时带⾛⽔汽） x;@wtd*QB
㈦ 从蒸发源和夹具上想办法改善蒸发⾓。 K*sav?c
㈧ 改善基⽚表⾯粗糙度。 HOSt0IHzty
㈨ 注意polycold解冻时的真空度。 jM5w<T-2/
膜内⽩雾 IZSJ+KO
⽩雾形成在膜内，⽆法⽤擦拭⽅法祛除。 \ 3XG8J
可能的成因： 1@<PcQBp
① 基⽚脏，附着前⼯程的残留物 CY</v,\:#
② 镜⽚表⾯腐蚀污染 {^*K@c
③ 膜料与膜料之间、膜料与基⽚之间的匹配。 A9 ;!\Wo
④ 氧化物充氧不够。 Usl963A#'F
⑤ 基⽚进罩前（洗净后）受潮⽓污染 4Je[ !X@C
⑥ 洗净或擦拭不良，洗净痕迹、擦拭痕迹 H/''lI{k)
⑦ 真空室脏、⽔⽓过重 m4_ZGjmJM
⑧ 环境湿度⼤ (,XbxDfM
改善思路：基⽚本⾝的问题可能是主要的，镀膜是尽量弥补，镀膜本⾝最⼤的可能是膜料匹配 N/x]-$fl
问题。 0U&@;/?
改善对策： ttd
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㈠改进膜系，第⼀层不⽤氧化锆类会产生白晕的膜料。 TJ_pMU
㈡尽量减少真空室开门时间，罩与罩之间在最短的时间内做好真空室的清洁、镀膜准备⼯作。 8~j 1
㈢真空室在更换护板、清洁后，最好能空罩抽真空烘烤⼀下，更换的护板等真空室部件必须⼲ %/}46z9\
燥、⼲净。 E5QQI9ea
㈣改善环境 vT {+Z\LL=
㈤妥善保护进罩前在伞⽚上的镜⽚，免受污染。 A81'ca/
㈥改善洗净、擦拭效果。 (8td0zq
㈦改善膜匹配（考虑第⼀层⽤Al2O3） +[B@83
㈧改善膜充氧和蒸发速率（降低） iPCDxDLN3V
㈨加快前⼯程的流程。前⼯程对已加⼯光⾯的保护加强。 ep)O|_=
㈩抛光加⼯完成的光⾯，必须⽴即清洁⼲净，不能有抛光粉或其他杂质附着⼲结。
