如下要求,基片为晶体, Hut
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HR@1064+532nm, R>99.8@1064nm, R>97@532nm, HT@808nm, R<2% %($qg-x
oQC* d}_E}
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HR@1064nm, R>99.8%, HT@532nm, R<2% uD&!]E3
qwu++9BM
${#5$U+kI
现在我的设备配置为南光1100,公自转,全自动带310晶控,请问各位大虾如上要求的膜 aXyu%<@k
能稳定的做出来吗?如果做不出,那最少要什么 -L4AM%(9
配置的设备才能做出来,谢谢