《国际信息工程先进技术译丛:微
光学和
纳米光学
制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺,重点强调了关键性的专业技巧,提供了最新的技术信息,内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的
模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维(3D)光子晶体的制造——钨成型法。
SZ*Nr=X 《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家,代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、
光学设计和光机结构设计(尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究)的工程师使用,也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。
WF!u2E+ #+<"`}]N ar#Xe;T! 定价:¥ 66.00
SD=kpf; 优惠价格:¥ 49.50 可以享受免费送货,货到付款。
3EHn}#+U F79!B M|l`2Hpe C@$!'^ 61 本帖为实体书购买信息推荐,暂无电子文档!
}CoR$K L]_1z 目录
o2J-& 译者序
@ 7WWoy 前言
UmC_C[/n? 第1章面浮雕衍射光学元件
6y4&nTq[ 1.1制造方法
L+rMBa 1.2周期和
波长比
oU`J~6.&S 1.3光栅形状
IL\2?(&Z 1.4深度
优化 4)zHkN+ 1.5错位失对准
a'U}.w} 1.6边缘圆形化
c-dOb.v0 1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化
[RqL0EP 1.8表面纹理结构
aSy^(WN8 1.9熔凝石英表面的纹理结构
qVpV ZH! 1.10太阳
电池的表面纹理结构
5Lo\[K>j 1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法
GW[g!66^ 1.12成形金属基准层的制造工艺
uq~Z 1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀
YVpsf8R 1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀
X,Q'Xe/ 1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀
5R?[My 致谢
|IL/F]I 参考文献
ST*\ Q 第2章微光学等离子体刻蚀加工技术
!T<4em8 2.1概述和回顾
Rx}*I00 2.2基本的刻蚀处理技术
v *pN~}5 2.3玻璃类
材料的刻蚀工艺
_$oN"pj 2.4硅材料微光学结构的刻蚀
@5im*ubzM 2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺
DF>LN%a~ 2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件
)rqb<O 2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺
oXQzCjX_ 2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用
:L E&p[^ 2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6
5Wyo!pRi 2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺
>Fzs%]M 2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺
ks}J
ke> 2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术
}#0i1]n$D 致谢
D (>,#F 参考文献
|6ZH+6[ 第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术
VX;br1$X 3.1概述
gYtv`O 3.2相位掩模技术
D; @nrj`. 3.3光学元件的设计和制造
42Qfv%*c 3.3.1光致抗蚀剂的性质
Pa8E.<> 3.3.2相位掩模的设计
l[_y|W5 3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺
/p&V72 3.4轴对称元件的设计和制造
\fk%^1XY 3.5结论
+kMVl_`V 参考文献
H;eGBVi 第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术
O>h,u[0 4.1概述
X*Qtbm, 4.2电子束光刻术
0pC}+
+ 4.2.1电子束光刻术发展史
s"7$SxMT 4.2.2电子束光刻
系统 323zR*\m 4.2.3电子束光刻技术
_~{Nco7T 4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术
FS(bEAk} 4.3.1回顾
MHm=X8eg 4.3.2硅
f4h|Nn%; 4.3.3砷化镓
=}$YZuzmU 4.3.4熔凝石英
h8ikM&fl 4.4光学器件加工实例
/CE]7m,7~K 4.4.1熔凝石英自电光效应器件
e
Qz_,vTk 4.4.2熔凝石英微偏振器
P_ [A 4.4.3砷化镓双折射波片
U@6bH@v5 4.5结论
g?}$"=B 致谢
+p:?blG 参考文献
kwcH$w<I 第5章纳米压印光刻技术和器件应用
X:un4B}O 5.1概述
1&Fty'p 5.2压印图形化和压印光刻术的发展史
ib3u: 5.3纳米压印光刻术的相关概念
U:a-Wi+ 5.3.1纳米压印组件和工艺
{DI`HB[ 5.3.2纳米压印设备
"<e<0:: 5.4商业化器件的应用
:skNEY]. 5.4.1通信用近红外偏振器
o/;kzi 5.4.2投影显示用可见光偏振器
IQ5H`o?[B
5.4.3光学读取装置的光学波片(CD\DVD)
/9K,W)h_ 5.4.4高亮度发光二极管
'R{XqHP 5.4.5微光学(微
透镜阵列)和衍射光学元件
}%&hxhR^t3 5.4.6多层集成光学元件
Y/3CB 5.4.7分子电子学存储器
&sbKN[x M 5.4.8光学和磁数据存储
>I~$h, 5.5结论
tU5Z?QS 致谢
'T
'&OA 参考文献
({R-JkW:; 第6章平面光子晶体的设计和制造
#dvH0LX? 6.1概述
o!\Q, 6.2光子晶体学基础知识
9L`5r$/ 6.2.1晶体学术语
^-*q 6.2.2晶格类型
=J2cX` 6.2.3计算方法
N FVr$?P 6.3原型平面光子晶体
zQ&k$l9 6.3.1电子束光刻工艺
4;rt|X77 6.3.2普通硅刻蚀技术
xla64Qld 6.3.3时间复用刻蚀
CJDnHuozc 6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺
i42M.M6D $ 6.4基于色散特性的平面光子晶体
n]15 ~GO. 6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导
_RT JEG 6.4.2负折射
56|o6-a^ 6.5未来应用前景
JlM0]__v 参考文献
>q}Ns^ .' 第7章三维(3D)光子晶体的制造——钨成型法
s>RtCw3, 7.1对称性、拓扑性和PBG
d){o#@ 7.2金属光子晶体
3@t&5UjwQ 7.3金属结构的可加工性
?4[IIX- 7.4三维光子晶体的制造
/K@_O\+;Q 7.5胶体模板法
UdIl5P 7.6微光刻工艺
!LG 5q/}& 7.7利用“模压”技术制造光子晶体
EJ%Kr$51K 7.8膜层应力
y7x&/2 7.9对准
w_>SxSS7 7.10表面粗糙度
ZFJqI 7.11侧壁轮廓
w%3R[Kdzk 7.12释放刻蚀
Pl>BTo>p' 7.13测量方法、测试工具和失效模式
K5h2 ~ 7.14结论
]c Or$O* 致谢
d,hKy2 参考文献