微光学和纳米光学制造技术

发布:cyqdesign 2012-09-29 22:55 阅读:2708
《国际信息工程先进技术译丛:微光学纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺,重点强调了关键性的专业技巧,提供了最新的技术信息,内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维(3D)光子晶体的制造——钨成型法。 SZ*Nr=X  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家,代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计(尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究)的工程师使用,也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 WF!u2E+  
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目录 o2J-&   
译者序 @ 7WWoy  
前言 UmC_C[/n?  
第1章面浮雕衍射光学元件 6y4&nTq[  
1.1制造方法 L+rMBa  
1.2周期和波长 oU`J~6.&S  
1.3光栅形状 IL\2?(&Z  
1.4深度优化 4)zHkN+  
1.5错位失对准 a'U}.w}  
1.6边缘圆形化 c-dOb.v0  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 [RqL0EP  
1.8表面纹理结构 aSy^( WN8  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 qVpV ZH!  
1.10太阳电池的表面纹理结构 5Lo\[K >j  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 GW[g!6 6^  
1.12成形金属基准层的制造工艺 uq~Z  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 YV p sf8R  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 X,Q'Xe /  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 5R?[My  
致谢 |IL/F]I  
参考文献 ST *\Q  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 !T<4em8  
2.1概述和回顾 Rx}*I00  
2.2基本的刻蚀处理技术 v*pN~}5  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 _$oN"pj  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 @5i m*ubzM  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 DF>LN%a~  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 )rqb<O  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 oXQzCjX_   
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 :L E&p[^  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 5Wyo!pRi  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 >Fzs%]M  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 ks}J ke>  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 }#0i1]n$D  
致谢 D (>,#F  
参考文献 |6ZH+6[  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 VX;br1$X  
3.1概述 gYtv`O  
3.2相位掩模技术 D;@nrj`.  
3.3光学元件的设计和制造 42Qfv%*c  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 Pa8E.<>  
3.3.2相位掩模的设计 l[_ y|W5  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 /p&V72  
3.4轴对称元件的设计和制造 \fk%^1XY  
3.5结论 +kMVl_` V  
参考文献 H;eGBVi  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 O>h,u[0  
4.1概述 X*Qtbm,  
4.2电子束光刻术 0pC}+ +  
4.2.1电子束光刻术发展史 s"7$SxMT  
4.2.2电子束光刻系统 323zR*\m  
4.2.3电子束光刻技术 _~{Nco7T  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 FS(bEAk}  
4.3.1回顾 MHm=X8eg  
4.3.2硅 f4h|Nn%;  
4.3.3砷化镓 =}$YZuzmU  
4.3.4熔凝石英 h8ikM&fl  
4.4光学器件加工实例 /CE]7m,7~K  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 e Qz_,vTk  
4.4.2熔凝石英微偏振器 P_[A  
4.4.3砷化镓双折射波片 U@6bH@v5  
4.5结论 g?}$"=B   
致谢 +p:?blG  
参考文献 kwcH$w<I  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 X:un4B}O  
5.1概述 1&Fty'p  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 ib3 u:  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 U:a-Wi+  
5.3.1纳米压印组件和工艺 {DI`HB[  
5.3.2纳米压印设备 "<e<0::  
5.4商业化器件的应用 :skNEY].  
5.4.1通信用近红外偏振器 o/;kzi  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 IQ5H`o?[B  
5.4.3光学读取装置的光学波片(CD\DVD) /9K,W)h_  
5.4.4高亮度发光二极管 'R{Xq HP  
5.4.5微光学(微透镜阵列)和衍射光学元件 }%&hxhR^t3  
5.4.6多层集成光学元件 Y/3CB  
5.4.7分子电子学存储器 &sbKN[xM  
5.4.8光学和磁数据存储 >I~$h,  
5.5结论 tU5Z?QS  
致谢 'T '&OA  
参考文献 ({R-JkW: ;  
第6章平面光子晶体的设计和制造 #dvH0LX?  
6.1概述 o!\Q,  
6.2光子晶体学基础知识 9L`5r$/  
6.2.1晶体学术语 ^-*q  
6.2.2晶格类型 =J2cX`  
6.2.3计算方法 NFVr$?P  
6.3原型平面光子晶体 zQ&k$l9  
6.3.1电子束光刻工艺 4;rt|X77  
6.3.2普通硅刻蚀技术 xla64Qld  
6.3.3时间复用刻蚀 CJDnHuozc  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 i42M.M6D$  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 n]15 ~GO.  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 _RTJEG  
6.4.2负折射 56|o6-a^  
6.5未来应用前景 JlM0]__v  
参考文献 >q}Ns^ .'  
第7章三维(3D)光子晶体的制造——钨成型法 s>RtCw3,  
7.1对称性、拓扑性和PBG d){o#@  
7.2金属光子晶体 3@t&5UjwQ  
7.3金属结构的可加工性 ?4[IIX-  
7.4三维光子晶体的制造 /K@_O\+;Q  
7.5胶体模板法 UdIl5P  
7.6微光刻工艺 !LG 5q/}&  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 EJ%Kr$51K  
7.8膜层应力 y7x&/2  
7.9对准 w_>SxSS7  
7.10表面粗糙度 ZFJ qI  
7.11侧壁轮廓 w%3R[Kdzk  
7.12释放刻蚀 Pl>BTo>p'  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 K5h2 ~  
7.14结论 ]c Or$O*  
致谢 d,hKy2  
参考文献
关键词: 光学纳米制造
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