上海EMD代理美国SCI高精准薄膜度量系统与软件分析产品

发布:sbisna 2009-07-29 11:39 阅读:3091
SCI美国科学计算国际公司 `O.*qs5  
薄膜测量 软件产品 及 仪器产品 PQWo<Uet  
网址:www.sci-soft.com 3lM mSKN  
_:+W0YS  
SCI为薄膜设计,材料分析,椭圆偏光法,分光光度测定法提供不同的工具. 0gm+R3;k^  
A)    薄膜测量/测试 软件 Yt++  ?  
$V]D7kDph*  
一.FilmWizard (Optical Thin Film Software光学薄膜软件) 9Wb9g/L  
Design设计|Materials材料|Analysis分析|Optimization优化|Synthesis综合|Results计算结果|Macro宏 @NlnZfMu  
二.FilmMonitor(Monitor Deposition Software监视沉积软件) [Rs5hO  
三.FilmEllipse(椭偏数据生产线工艺软件包) yb*SD!  
FilmEllipseTM是分析和捕获椭圆偏光数据的生产线上工艺型易用的软件包 hx+a.N  
bnWIB+%_  
B) 薄膜测量 仪器  .r[DqC  
4fr/ C5M  
SCI FilmTek  系列, 可测量:\+_Nq~ NAZxM9  
VeA;zq  
Index of Refraction折射指数(at 2μm thickness) Thickness Measurement Range 厚度测量范围,K^q\ ?%{bMqYJD{  
Maximum Spectral Range 最大光谱范围##b L,[0*h  
Standard Spectral Range标准光谱范围F P}~6 yX  
Reflection反射测量, $bF.6  
Transmission透射测量5wIBS\ |n=m8X  
Optional Spectroscopic Ellipsometry可选择的光谱椭圆偏光法测量cY !a[ voUS  
Power Spectral Density功率谱密度测量a IJD'0/R'c  
Multi-angle Measurements (DPSD) 多角度测量Y REW *6:  
Both TE & TM Components of Index Multi-layer thickness多层厚度测量gS|p] !R//"{k0?  
Index of Refraction折射系数测量~c=]o% ZUQ1\Iw  
Extinction (absorption) Coefficient消光(吸收)系数:{P]F 4sSQ nK  
Energy band gap能量带隙测量U4r[n UN`-;!  
Composition成分测量c*'nh) (5_l7hWY  
Crystallinity晶状测量DTE; R7KHfXy'm  
Inhomogeneous Layers非均匀层测量}KF 8{6KWqG\  
Surface Roughness表面粗糙度测量L" KOV^wSwS  
etc. 等等 Fr,>|  
$A7[?Ai ?  
Typical  applications典型应用:P YCeE?S1gk3  
b?CmKiM%  
OLED有机发光二级管薄膜 @=K> uyB  
Flat panel display平板显示器薄膜 {p 9y{$  
Semiconductor and dielectric materials半导体和电介质材料薄膜 |w>"oaLN|Q  
Computer disks计算机磁盘薄膜 'ujt w:Z:  
Multilayer optical coatings多层光学涂层薄 Z2PLm0%:  
Coated glass有涂层的玻璃薄膜>nU3 F{[2|u(4  
Optical antireflection coatings光学抗反射涂层薄膜 4eU};Pv  
Laser mirrors激光镜薄膜Op)` >H ic tH  
Electro-optical materials电镀光学材料薄膜 _t:rWC"X  
Thin Metals薄金属薄膜6e4,iC >LgV[D#=&o  
etc. 等等 M_T$\z;,  
[@rZ.Hsl  
详细信息请电话或邮件联系EMD上海办事处或前往SCI网站查询,联系方式如下: `2J6Dz"W  
电话021-61021226转820/818    王小姐/陈先生 Z&s+*& TM  
邮件:wangdongmei@eccn.com/benchan@eccn.com网址:http://www.ECCN.com
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