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1. 建模任务 (+3Wgl+]/ 1.1. 模拟条件 ?)X,0P' 光源: EML Emitter (Unit source) "zFNg'; 偶极子方向: Polarization #K Xa&C Ex=Ey=1/Phase=-90˚, 90˚ (circular polarization) >W`4aA 波长: 380~780 nm (10 nm step) *"n vX2iz 视角: Theta: 0˚~90˚(10˚ step)/ Phi: 0˚~360˚(10˚ step) Q|L9gz[? BT"42#7_ 1.2 堆栈结构 [YT>*BH ? 9Z'8!$LYg
``e$AS Pgus42f% 2. 建模过程 EC8b=B<DE [7S} g 2.1创建新的项目文件 4NG?_D5& Ii_ojQP-z
fasgmi} `poE6\ 2.2 使用材质或层定义 1D 结构 ?Poq2 #ap9Yoyk\
sWblFvHqrU sZm$|T0 2.3 设置和编辑膜层的属性(Emitter) pV,P|>YTf +d!v}aJ
Za8#$`zq <_Q:'cx' 3. 结果分析 e=;AfK tl'9IGlc 极坐标图结果 ^:* 1d
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*@)O7vB %ck]S!}6 等高线图结果 Vy,^)] 9>rPe1iv
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