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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    离线infotek
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 03-26
    摘要 j$7|XM6  
    46@{5)Tq  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 :Qt  
    uo%P+om_}  
    T;TA7{B  
    场景 Z<[<n0o1  
    u$#Wv2|mk  
     TfYVw~p_%  
    H,3\0BKk  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 `{k"8#4:qA  
    Hb} X-6N  
    系统构建块     'rp }G&m  
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     Q_-_^J  
    \>LnLH(  
    组件求解器 ]V l]XT$Um  
    IJYL s  
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    J%09^5:-z  
    系统构建块 7w,FX.=;cv  
    3s\.cG?`r  
     g8qgk:}  
    wN1niR'  
    总结 3vhnwDcK  
    {;toI  
    IG)s^bP  
    0"2=n.##  
    几何光学仿真 'o|30LzYgQ  
    通过光线追迹 L^2FQti>  
     r.3/F[.  
    结果：光线追迹 L pR''`2BT  
     ]#7zk9  
     ]8q3>  
    kt`nbm|aw  
    快速物理光学仿真 7+X:LA~U  
    通过场追迹 Ee4&g<X.  
     JJ;[,  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 ~\{^%~[48  
    | N0Z-|  
     -~?J+o+Pr"  
    hxCvk/7sT  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 U2uF&6v  
    |D, +P  
     PH"n{lW.T  
    >:D j\"o  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 !x!07`+^u  
    [2"<W! p  
    Q+g!V5'  
     r.4LU  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 311LC cRp  
    aLIBD'z  
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    总结 ,-7R(iMd  
    CPNL 94x  
    KII *az  
     
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