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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 03-26
    摘要 HvngjP{>  
    G@(7d1){  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 Tv KX8m"  
    qnlj~]NV  
    JSL 3.J  
    场景 Xgm7>=l  
    ,s)H%  
    )2A4vU-IR.  
    _`(g?  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 c2U>89LlZ  
    l%IOdco#  
    系统构建块
    (/Mc$V  
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    t Z%?vY~!  
    jL8zH  
    组件求解器 4j*}|@x  
    I5~DC  
    Q&J,"Vxw  
    O<hHo]jLF  
    bODl q  
    Vh<`MS0X  
    系统构建块 C/ bttd  
    0v_8YsZ!`$  
    W< n`[  
    r~TT c)2  
    总结 "OPUGwf  
    sHF vzE%  
    !2Orklzd1  
    QJ>>&`{ ,  
    几何光学仿真 {G}HZv%S U  
    通过光线追迹 S|[UEU3FpB  
    J-}NFWR;t  
    结果:光线追迹 =T-w.}27O  
    w.8~A,5}Dh  
    nqBu C  
    _(hwU>.  
    快速物理光学仿真 c;^J!e  
    通过场追迹 ff#-USK^R  
    {OOt+U!  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 (yP55PC O$  
     xYT.J 6  
    +[ItkfSod!  
    ;i9CQ0e ?  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 wLtTC4D  
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    MjpJAV/84  
    }]I?vyQ#V  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 =r~. I  
    HhL%iy1  
    !A!\S/x4  
    RVfe}4Stm#  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 K +~v<F  
    K\b O[J  
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    guv@t&;t0  
    总结 ))`Zv=y"  
    Nj0)/)<r+  
    x/=j$oA  
     
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