切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • Zemax光学设计从入门到精通 《杂散光抑制与评估技术》 Zemax光学设计实践基础(陈家璧) 光学设计与光学元件
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 现代光学设计及应用(Zemax) CODE V,LightTools,RSoft,LucidShape 计算光学带来的成像革命(第2季)
    发帖 回复
    返回列表
    • 387阅读
    • 0回复

    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    离线infotek
    科学家
     
    发帖
    6822
    光币
    28260
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2025-03-26
    摘要 GL&ri!,  
    Z"#ysC  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 .!0),KmkK  
    iRo UM.%  
    B&A4-w v  
    场景 LFy5tX#  
    }Q_IqI[7  
     CYrVP%xRA  
    k:PO"<-U  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 A<^IG+Q,B7  
    fV*x2g7w  
    系统构建块     d{&+xl^ll  
    %)*!(%\S*3  
     %j=dKd>  
    *A2J[,?c  
    组件求解器 g[Ah> 5  
    a`(6hL3IT  
    tu6oa[s  
    p3I{  
    1C+Y|p?KA  
    '-3AWBWI1  
    系统构建块 9'3%%o  
    u7G@VZ Ux5  
     P{5p'g ,  
    Cl[ '6Lk  
    总结 k\|G%0Jw  
    wl2rw93  
    /%}+FMj  
    E+V^5Z:u  
    几何光学仿真 ;%2/  
    通过光线追迹 w/KHS#~  
     @/H1}pM~  
    结果：光线追迹 Xtbuy/8"1  
    aq~hl7MTj  
     85Q2c   
    0!veLXeK!  
    快速物理光学仿真 G/_#zIN`8M  
    通过场追迹 ZgF-.(GV  
     m9ts&b+TE  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 WK0?$[|=r  
    SSycQ4[{o  
     hLGUkG?6G  
    AuHOdiJ  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 z %{>d#rw  
    %!%3jo0t  
     <<@\K,=  
    (7`goi7M  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 ][S<M24]Q  
    im9 B=D  
    &>0=v  
    <F+S}!q  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 "5Oog<  
    !1+L0,I6  
     >T;"bc b  
    H`]nY`HYg  
    总结 mm/U9hbp%  
    1QtT*{zm$F  
    rEfk5R  
     
    回复
    举报
    分享到
    发帖 回复
    返回列表