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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    离线infotek
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2025-03-26
    摘要 1j6ZSE/*|  
    -:m;ePK  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 AynWs5|z=  
    H|T:_*5  
    skdSK7 n  
    场景  2 Ua_7  
    *(L4rK\2  
     h|dVVCsN  
    GY<Y,  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 y<k-dbr  
    =ALy.^J=  
    系统构建块     eg) =^b  
    C;wN>HE  
     g GN[AqR  
    n<\^&_a  
    组件求解器 p{!aRB%  
    u~Q0V J~  
    KwWqsuju  
    G-Z_pGer^  
    %B3E9<9>U  
    X.,SXNS+B  
    系统构建块 d#I'9O0&  
    17H_>a\`  
     aCX](sN  
    X6!u(plVQ  
    总结 M\,0<{  
    y .S0^  
    1]fqt[*)  
    x+nrdW+  
    几何光学仿真 Hy|$7]1  
    通过光线追迹 J^pL_  
     ,y,NVF  
    结果：光线追迹 =bZ>>-<  
    Mmbb}(<  
     Ws4aCH1  
     #It{B  
    快速物理光学仿真 WUGPi'x  
    通过场追迹 bL!NT}y`  
     Jm\'=#U#  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 f_9%kEXICt  
    nmc=RK^cM  
     JE9|;A  
    >6=yxCJ  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 % &4sHDP  
    +G? 4Wc1  
     8G1Tpn  
    4cr >sz  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 {]] nQ  
    engql;  
    z++*,2F  
    ]$4k+)6  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 %xyt4}-)m  
    4bhm1Q  
     hBLJKSv  
    +0.$w  
    总结 t=~al8  
    vy[*xT]  
    |M[E^  
     
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