摘要
Y}"|J ~ {"e/3 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此,在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,并且可以深入了解矢量效应。
sm}v0V.Js 4j)Y>
Y[;Pl$ qJW>Y} 建模任务
-(>x@];r0 r{kV*^\E
hE!3kaS C4Q^WU+$j 入射平面波
(@M=W.M# 波长 2.08 nm
Tm_vo- 光斑直径: 3mm
*ZGQ`#1.X6 沿x方向线偏振
9L?EhDcDV 'E0{zk 如何进行整个
系统的光线追迹分析?
@P"q`* 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布?
0(3t# Y_%\kM?7 概览
uGJeQ •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
9XS+W
w7 •接下来,我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
]&VD$Z984r N{P (ym2yR
Np|iXwl1 光线追迹模拟
e?L$RY,7 •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为模拟引擎。
,y2ur 2 •点击Go!
,D3q8?j •获得3D光线追迹结果。
hS
+;HB, iml*+t
y~1UU3k5 NEZF q? 光线追迹模拟
LjXtOF •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为模拟引擎。
Bi
kCjP[b •单击Go!
Qkqn~> •结果,获得点图(2D光线追迹结果)。
f]5bAs QsDab4
GWA_,/jS% Aid{PGDk 光场追迹模拟
%<DRrKt •切换到“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为模拟引擎。
V}9wx%v •单击Go!
5qG7LO. |=38t8Ge&
v_5DeaMF' gNLjk4H,S[ 光场追迹结果(照相机探测器)
QE)g==d %DPtK)X1 •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
]pb;q(?^ •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度:由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
r-Z' N4fuV?E`
o?p) V^7 0<v~J9i 光场追迹结果(电磁场探测器)
c!Pi) `?=AgGg •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
"VcGr#zW rIge6A>I
oi"Bf7{ pBL{DgX
.D4D!! A2rr>
{,s:vPoiA 3O#7OL68v