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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-09-26
    `j2|aX %Z*  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 ,~=+]9t  
    i @M^l`w  
    4,`t9f^:  
    场景 N#OO{`":Z`  
    D(_j;?i  
    W)2k>cS  
    BN`tiPNEp  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 G #$r)S  
    N+UBXhh  
    系统构建块 GOCe&?  
    ZjK'gu8*  
    BMzS3;1_  
    'eQ*?a43  
    组件求解器 !':y8(Ou  
    ^6UE/4x!y  
    d<_IC7$u>  
         *[3tGiUJ  
         O2Y1D`&5  
         ]o9^?iU]  
    系统构建块 uq!d8{IMu  
    FYaBP;@J%  
    {f6~Vwf  
    0d,&)  
    总结 ['c*<f" D2  
    ]|Iczg-  
    ;|vn;s/  
         *]S&V'Di  
    几何光学仿真 2G/CN"  
        通过光线追迹 .A6Jj4`-  
    t%s(xz#1  
    结果:光线追迹 Gd2t^tc  
    C%P"\>5@  
    F^DDN7AKH  
    %&$s0=+  
    快速物理光学仿真 GZiN&}5e  
        通过场追迹 yD^Q&1  
    U7xQ 5lph  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 y $>U[^G[  
    #"JtH"pF  
    }@A{'q5y  
    35#"]l"  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 C/z0/mk  
    /pgn?e'lk  
    u3vw[k  
    -[A=\]RfJ  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 /s`8=+\9  
    8Dc'"3+6  
    D7,{p2<2T  
         V%w]HIhq  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 X|pOw,"  
    \ci[<CP  
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    总结 `yua?n  
    BWG#W C  
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