-
UID:317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2025-11-26
- 在线时间1892小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
gc7S_D~; 内容简介 \Zqgr/.w/ Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 0eQyzn*98 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 %.BbPR 7?h 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 [(w_!|S [(5;jUmF@ 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 N0sf
V 目录 D&/(Avx.
Preface 1 EMmNlj6 内容简介 2 m]+g[L?- 目录 i ^{_`jE 1 引言 1 7Nw7a;h 2 光学薄膜基础 2 ioIUIp+B~u 2.1 一般规则 2 *]p]mzc 2.2 正交入射规则 3 T c4N\Cy 2.3 斜入射规则 6 j>+x|!k 2.4 精确计算 7 I`}-*%ki( 2.5 相干性 8 l];,)ddD9 2.6 参考文献 10 vdYd~>w 3 Essential Macleod的快速预览 10 ]ZelB,7q 4 Essential Macleod的特点 32 S`BLwnU`# 4.1 容量和局限性 33 :z56!qU 4.2 程序在哪里? 33 >0=` 3X|Y7 4.3 数据文件 35 }L{en 4.4 设计规则 35 ,o]"G[Jk 4.5 材料数据库和资料库 37 vAbMU 4.5.1材料损失 38 AiykIER/ 4.5.1材料数据库和导入材料 39 *
'WzIk2 4.5.2 材料库 41 H*!j\|v0 4.5.3导出材料数据 43 KRf$VbuL 4.6 常用单位 43 :Oo(w%BD] 4.7 插值和外推法 46 @>_`g= 4.8 材料数据的平滑 50 >;dMumX 4.9 更多光学常数模型 54 VJS|H!CH 4.10 文档的一般编辑规则 55 t(-noy) 4.11 撤销和重做 56 zy~vw6vu 4.12 设计文档 57 Pk7Yq:avL 4.10.1 公式 58 FRQ0tIp 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 3gaijVN 4.10.3 沉积密度 59 w-2p'u['Z 4.10.4 平行和楔形介质 60 6n]fr9f 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 (YF`#v6 4.10.4 性能 61 z*. 4Y 4.10.5 保存设计和性能 64 :[m;#b 4.10.6 默认设计 64 XL>cTM 4.11 图表 64 x'{L %c>L 4.11.1 合并曲线图 67 M2(+}gv;7p 4.11.2 自适应绘制 68 3XYCtp8 4.11.3 动态绘图 68 ZMy0iQ@ 4.11.4 3D绘图 69 2i;G3"\ 4.12 导入和导出 73 lOt3^` 4.12.1 剪贴板 73 3*"$E_% 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 Gy
hoo'< 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 1hw1AJ}(F 4.13 背景 77 Zj99]4?9 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 'due'|#^ 4.15 生成Rugate 84 3k py3z[% 4.16 参考文献 91 %Wkvo-rOq 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 v=E V5#A 5.1 Jobs 92 ]y>)es1 5.2 创建一个新Job(工作) 93
XZLo*C!MG 5.3 输入材料 94 _nOJ.G 5.4 设计数据文件夹 95 s9>f5u?dK 5.5 默认设计 95 1T a48 6 细化和合成 97 7"Sw))H| 6.1 优化介绍 97 r t@Jw]az 6.2 细化 (Refinement) 98 m!3b.2/h 6.3 合成 (Synthesis) 100 z 0]K:YV_ 6.4 目标和评价函数 101 v*SSc5gFG 6.4.1 目标输入 102 ,4zwd@&O 6.4.2 目标 103 o@mZ 6!ax3 6.4.3 特殊的评价函数 104 "5"6mw? 6.5 层锁定和连接 104 G.OAzA13!t 6.6 细化技术 104 1Y:lFGoe 6.6.1 单纯形 105 l)<
'1dqe 6.6.1.1 单纯形参数 106 fNNkc[YTZI 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 O}I8P")m 6.6.2.1 Optimac参数 108 ~F [}*%iR 6.6.3 模拟退火算法 109 tfW/Mf 6.6.3.1 模拟退火参数 109 19Xc0ez 6.6.4 共轭梯度 111 r!N)pt<g 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 G=W!$(: 6.6.5 拟牛顿法 112 l2QO\O
I9m 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 j}7as& 6.6.6 针合成 113 .[%em9u 6.6.6.1 针合成参数 114 kwU~kcM 6.6.7 差分进化 114 FtXd6)_S 6.6.8非局部细化 115 +ntrp='7O7 6.6.8.1非局部细化参数 115 7pMQ1-( 6.7 我应该使用哪种技术? 116 j&6'sg;n) 6.7.1 细化 116 6FNs4|(d 6.7.2 合成 117 7^7Rk 6.8 参考文献 117 k~Qb"6n2 7 导纳图及其他工具 118 ?K%&N99c! 7.1 简介 118 L1A0->t 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 \]ouQR.t@\ 7.2.1 四分之一波长规则 119 H=Rqr 7.2.2 导纳图 120 GxE"q-G 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 VU3xP2c: 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125
@ c,KK~{ 7.5 斜入射导纳图 141 NSH20$A< 7.6 对称周期 141 >=Hm2daN 7.7 参考文献 142 0`.3`Mk 8 典型的镀膜实例 143 y`O !,kW 8.1 单层抗反射薄膜 145 p?(w! O 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 |g<1n 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 ~nJcHJ1nb4 8.4 W-膜层 148 UQ6UZd37 8.5 V-膜层 149 g
/D@/AU1u 8.6 V-膜层高折射基底 150
$0>>Z 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 #U45;idp 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 ]vj4E"2; 8.9 四层抗反射薄膜 153 Z0*Lm+d9z 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 3Z=OUhn9 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 ^*.S7.;2o 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 c&r |