【线上培训】Zemax 成像设计课程 招生中

发布:ueotek 2022-03-28 16:15 阅读:891
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课程大纲: &\K#UVDyhh  
K^vMIoh  
01 OpticStudio 软件功能介绍; J\0YL\jw1K  
02 材料库、镜头库介绍; 5m3sjcp_  
03 如何定义新材料; 6a!X`%N=  
04 如何使用镜头库; TPzoU" qh  
05 像差理论介绍; JZ7-? o  
06 Zemax 里像差分析图谱; x[kdQj2[&  
07 优化; 5~? J  
08 局部优化 u!S{[7 FY  
09 全局优化; x"d*[m  
10 锤形优化; 2gv(`NKYE  
11 优化函数架构技巧; zBR]bk\  
12 单透镜优化实例 GgYomR:  
13 双胶合优化实例; !14z4]b  
14 热分析及衍射光学元件的使用; 32Z4&~ I  
15 实例设计及分析; iB`m!g6$  
16 MTF &_6:TqJ  
17 双高斯镜头设计及优化; 'huLv(Uu  
18 像质评价与图像模拟 w?C\YKF7  
19 坐标变换; M/qiA.C@W  
20 坐标断点面的使用技巧 "869n37  
21 序列模式棱镜建模; yC5|"+ A$  
S'e2~-p0F  
22 扫描反射镜设计实例;
1&<@(S<  
23 柯勒照明综合设计实例; m}E$6E^~O  
24 投影系统设计 -wt2ydzos  
25 集光系统设计; l]Sui_+ZU  
hg~fFj3ST  
26 暗盒系统介绍; gs3}rW  
27 分析工具应用; ;sf/tX  
28 寻找最佳非球面 k|D!0^HE[  
29 曲率套样板; G!IQ<FuY  
#Grm-W9E  
30 镜头匹配工具; Mg$Z^v|}0  
31 Zemax 公差分析功能介绍; UTt#ltun?  
32 加工误差、装配误差; vX\e* v  
33 灵敏度分析; uwka 2aSS  
34 反灵敏度分析; 2o/`8+eJu  
35 蒙特卡罗分析; +*q@=P,  
"gz;Q  
36 公差评价标准; loJ0PY'}=  
37 公差操作数; Vmc)or*#  
38 补偿变量的使用; aBnbu vp  
39 单透镜公差分析; $\ '\@3o  
a6d KQ3D  
40 库克镜头公差分析; oX~CTunP  
41 分析报告查看说明; qg/5m;U  
42 公差脚本的使用; c"ztrKQQ  
43 镜头出图、CAD 出图; M=A9a x  
44 小结及答疑。
课程信息: [}p.*U_nw  
主办单位:武汉宇熠科技有限公司培训主题:Zemax 成像设计培训形式:线上培训培训时间:2022年4月14~15日 (9:00-17:00)培训费用:¥ 1980元 / 人 V]}b3Y!(  
(三人及以上组团报名可享八折优惠) bRK9Qt#3  
报名方式:扫码报名 Izu.I_$4  
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s|T7)PgR  
注:如报名人数未达最低开课标准,本门课程将取消或延迟, 具体情况以开课前一周通知为准。
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